太陽(yáng)能光熱轉(zhuǎn)換的核心材料_光譜選擇性吸取涂層的爭(zhēng)論與進(jìn)展過(guò)程太陽(yáng)能光熱轉(zhuǎn)換核心材料——光譜選擇性吸取涂層的研發(fā)過(guò)程■文/謝光明北京太陽(yáng)能爭(zhēng)論全部限公司熱能，并豐富太陽(yáng)能，以最大限度地利用太陽(yáng)能，已成為爭(zhēng)論者關(guān)注這項(xiàng)工作的單位之一。本文將從原北京太陽(yáng)能爭(zhēng)論所的爭(zhēng)論工作入手，介紹光譜選擇性吸取涂層技術(shù)。1，光譜選擇性吸取涂層的根底這個(gè)常識(shí)1。顧名思義，光譜選擇性吸取涂層光譜選擇性吸取涂層的根本概念是對(duì)光譜吸取具有選擇性的涂層材(α)，(ε個(gè)重要參數(shù)。由于太陽(yáng)能和集熱器的吸取面以粒子輻射的形式傳輸，的削減自身的熱輻射損失，從而到達(dá)提高太陽(yáng)能光熱轉(zhuǎn)換效率的效果。材料必需是復(fù)合材料，即它由吸取太陽(yáng)輻射和反射紅外光譜的兩局部材料組成吸取輻射是指當(dāng)輻射穿過(guò)物質(zhì)時(shí)，某些頻率的輻射被粒子(原子、離子或分子等)選擇性吸取的現(xiàn)象。)構(gòu)成物質(zhì)，從而減弱輻射強(qiáng)(通常是基態(tài))到高能級(jí)(激發(fā)態(tài))0.3~2.5μm的太陽(yáng)輻射強(qiáng)度最大，0.3~2.5μm的光子能量相對(duì)應(yīng)的能級(jí)躍遷，才能具有更好的選擇性吸取。一般來(lái)說(shuō)，25XX號(hào)黃漢芬、趙宇文、張寶英等研制出鋁陽(yáng)極氧化電解著色選復(fù)合帶的生產(chǎn)要求，黃漢芬、韓、李等人通過(guò)科技攻關(guān)，在國(guó)內(nèi)首次101993年北京科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)。隨著太陽(yáng)能集熱器技術(shù)的不斷進(jìn)步，光譜選擇性吸取涂層的爭(zhēng)論工作也在不斷進(jìn)展。從19861988年，趙宇文、謝光明等人研制了黑色鈷選擇性吸取涂料。該涂層具有良好的光譜選擇性(α=0.92~0.96，ε0.06~0.08)能爭(zhēng)論所用該涂料生產(chǎn)的ф65毫米熱管真空集熱管到達(dá)了荷蘭飛利浦公司同類產(chǎn)品的水平。1。涂層型光譜選擇性吸取涂層階段1979-1980/備了α=0.93，ε=0.33~0.50的選擇性吸取涂層涂覆過(guò)程很簡(jiǎn)潔。2.北京太陽(yáng)能爭(zhēng)論所光譜選擇性吸取涂層材料的爭(zhēng)論與應(yīng)用。在39年末，以色列科學(xué)家塔博爾提出了光譜選擇性吸取理論。幾十年1980年，趙發(fā)表了《選擇性吸取外表與收集器效率的爭(zhēng)論》一文。在泰伯能優(yōu)良、使用壽命長(zhǎng)、工藝簡(jiǎn)潔、本錢低廉的光譜選擇性吸取材料，包括金屬氧化物、硫化物、碳化物、氮化物、金屬陶瓷等多種復(fù)合材干預(yù)吸取型，對(duì)鍍膜機(jī)理的生疏也漸漸加深。本錢低廉，應(yīng)用于平板集熱器，集熱效率明顯提高，成為我國(guó)最早勝等人于1981-1983年研制了一系列鐵錳銅氧化物光譜選擇性吸取涂層。丙烯酸樹脂被引入到涂料中，進(jìn)一步提高了涂料的光譜選擇性，XXXX年平板集熱器的主要涂料，目前仍被一些廠家使用。2。電化學(xué)制備階段1979-1980，陸龍波、黃漢芬、趙宇文等開發(fā)了電沉積光譜選擇性吸取黑鉻涂層。該涂層不僅具有優(yōu)異的光譜選擇性(α=0.93-0.97，ε=0.07-0.14)，而且具有良好的耐濕性和耐溫性。在這一階段，涂層材30多年的實(shí)際測(cè)試。它不僅具有優(yōu)異的光學(xué)性能，而且具有優(yōu)異的耐熱性、耐濕性和耐候性。涂層的太陽(yáng)吸取率可達(dá)95%10%以下但是，這種涂料染生產(chǎn)。近年來(lái)，為滿足大直徑(100mm)熱管真空管的大規(guī)模生產(chǎn)要求，郭、尹萬(wàn)里、俞等人研制了鋁、氮、氧的梯度光譜選擇性吸取涂層，用磁控濺射法在金屬吸熱體上沉積涂層，研制了用于生產(chǎn)各種材料行業(yè)的超大型磁控濺射生產(chǎn)設(shè)備，獲北京市科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)五等獎(jiǎng)(金屬陶瓷)，提高了涂萬(wàn)里、謝光明和樊目前正在承受中頻磁控濺射法生產(chǎn)干預(yù)金屬陶瓷光譜選擇性吸取涂陶瓷吸取涂層。此外，連續(xù)生產(chǎn)也是涂層技術(shù)的一個(gè)重要飛躍。應(yīng)用于中高溫太陽(yáng)能集熱器的涂層材料也是將來(lái)的主要爭(zhēng)論方向。事實(shí)上，光譜選擇性吸取涂層材料的研發(fā)過(guò)程也是太陽(yáng)能集熱器乃人類對(duì)太陽(yáng)能的利用水平。隨著能源的短缺以及3和30中高溫光譜選擇性吸取涂層的爭(zhēng)論和應(yīng)用，隨著太陽(yáng)能熱利用領(lǐng)()開發(fā)了中溫太陽(yáng)能集熱XXXX年以來(lái)，光譜選擇性吸取外表材料及其構(gòu)造的爭(zhēng)論日趨成熟。隨著真空薄膜技術(shù)的快速進(jìn)展，消滅了很多的生產(chǎn)技術(shù)環(huán)境污染問(wèn)題日益