等離子體及輝光放電現象_第1頁
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關于等離子體及輝光放電現象第1頁，共7頁，2022年，5月20日，15點18分，星期五等離子體可分為兩種：高溫和低溫等離子體。高溫等離子體只有在溫度足夠高時發生的。低溫等離子體是在常溫下發生的等離子體（雖然電子的溫度很高）。低溫等離子體可以被用于氧化等表面處理或者在有機物和無機物上進行沉淀涂層處理。廣泛運用于多種生產領域。例如：等離子電視，電腦芯片中的蝕刻運用等。第2頁，共7頁，2022年，5月20日，15點18分，星期五等離子體的驅動——射頻放電微電子加工領域，等離子體可以用交流信號驅動，電源在射頻的范圍內，公認的頻率為13.56MHz。電容性放電等離子體是主要的等離子源。第3頁，共7頁，2022年，5月20日，15點18分，星期五低氣壓下的氣體放電。放電管中的殘余正離子在極間電場的作用下被加速，于是得到足夠的動能撞擊陰極而產生二次電子，經簇射過程產生更多的帶電粒子，使得氣體導電。因此放電管兩極間所需電壓較高，一般都在10千伏以上，但輝光放電的電流很小，溫度不高，屬于低溫等離子體現象。輝光放電第4頁，共7頁，2022年，5月20日，15點18分，星期五種類：電感耦合等離子體磁控等離子體電子回旋共振等離子體高密度等離子體——highdensityPlasmas（HDP)第5頁，共7頁，2022年，5月20日，15點18分，星期五產生過程：在反應器中引入磁場和/或電場，增加電子在等離子體中的行程，使電子和原子之間的碰撞頻率增加，從而增加等離子體中基和離子的密度，實現高密度等離子體。HDP源包括：螺旋等離子源電感耦合等離子源平面盤繞源第6頁，共7頁，2022年，5月20日，15點18分，星期

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