電子級氫氟酸工藝介紹電子級氫氟酸工藝介紹電子級氫氟酸工藝介紹電子級氫氟酸生產工藝介紹歸納目前國內外制備電子級氫氟酸的常用提純技術有精餾、蒸餾、亞沸蒸餾、減壓蒸餾、氣體汲取等技術，這些提純技術各有特征，平分秋色。如亞沸蒸餾技術只好用于制備量少的產品，氣體汲取技術可以用于大規模的生產。其余，因為氫氟酸的強腐化性，采納蒸餾工藝溫度較高時腐化會更嚴重，所以所使用的蒸餾設備一般需用鉑、金、銀等貴金屬或聚四氟乙烯等抗腐化性能力較強的資料來制造。電子級氫氟酸生產裝置設計與工藝流程部署親近相關，垂直流向部署，原料(無水氫氟酸和高純水)與中間產物可以依靠重力自上而下賤動，高純氫氟酸的制備在中部，產品過濾、灌裝及儲存在基層。此部署可減少泵輸送，節約能耗，降低生產成本，同時可防備泵對產品的二次污染。2生產工藝將工業無水氫氟酸經化學預辦理后，進入精餾塔經過精餾操作，獲取的氟化氫氣體經冷卻后，在汲取塔頂用超純水汲取，并采納控制噴淋密度、氣液比等方法使電子級氫氟酸進一步純化，隨后經μm以下超濾工序，最后在密閉潔凈環境條件下(百級以下)進行灌裝獲取最后產品———電子級氫氟酸。3生產方法的難點解析控制與產品檢測要求高

。制備電子級氫氟酸所應用的測試儀器以下

:(1)電感耦合等離子高頻質譜解析儀

(ICP-

MS)；(2)

電感耦合等離子原子發射解析儀(ICP-AES)；(3)原子汲取分光光度計；(4)氧原子發生無焰原子汲取解析儀；離子色譜解析儀；(6)激光散射液體微粒計數器；(7)水表面雜質解析系統；原子間力顯微鏡；(9)光學顯微鏡微粒計數器；(10)掃描電子顯微鏡；(11)光學膜厚測定和表面仿形儀；(12)表面張力測定儀；(13)空氣中塵埃微粒測定儀；(14)水電阻率測定儀。對水質要求高，要求水的電阻率≥Ω·cm。高純水是生產電子氫氟酸中不行缺乏的原料,也是包裝容器的沖刷劑,其純度將直接影響到電子級氫氟酸的產質量量。高純水的主要控制指標是電阻率和固體顆粒,其余輔助指標有可氧化的總碳量(TOC)、細菌、被溶解的二氧化硅、離子濃度等。目前,高純水的生產工藝較為成熟,較常有是先經過離子交換柱和微過濾器,獲取一般純水,而后再采納反浸透、電滲析等各種膜技術進一步辦理,最后配合殺菌和超微過濾即可獲取高純水。對主要生產設備資料及設備制造技術、包裝技術的要求較為嚴格。廠房、解析室、庫房等環境潔凈度要求較高，與成品接觸部分要達到100級。整個生產過程中對產質量量管理要求極高。生產工藝技術特色雜質砷是電子級氫氟酸中需要控制的一種重要雜質指標，在氫氟酸原猜中砷一般以三價態形式存在，并且AsF3與氫氟酸的沸點相差不大，所以僅靠精餾對其分其余成效不會十分理想。為去除雜質砷，可在精餾前，加入適當的強氧化劑（如高錳酸鉀等）將三價態的砷進行氧化，使其在精餾過程中堆積于塔釜中而被除去。生產設備與工藝：生產設備全采納碳鋼襯聚四氟乙烯資料，生產工藝采納常壓、全封閉、連續化，采納熱水低溫(小于100度)精餾.蒸餾工藝,工藝參數采納DCS集散控制系統生產。高純水制備：經過離子交換與過濾器先制得一般純水，再經過反浸透、電滲析后進入殺菌、超微過濾制得高純水。在無水氫氟酸預辦理槽邊、精餾塔及蒸餾塔邊、成品包裝區設置HF有毒氣體濃度探測、集中報警系統。設置尾氣汲取塔、堿汲取塔，尾氣可達標排放。質量指標目前，因各微電子生產企業對電子級氫氟酸要求的標準不一樣，可將其劃分為四個品位：①低檔產品，用于>μmIC工藝技術的制作；②中低檔產品，適用于～mIC工藝技術的制作；③中高檔產品，適用于～μmIC工藝技術的制作；④高檔產品，適用于～μm和＜μmIC工藝技術的制作。產品包裝方法：采納高密度聚乙烯（或四氟乙烯、氟烷基乙烯基醚共聚物、聚四氟乙烯）專用密封工藝制造塑料桶25公斤桶裝。國際SEMI（SemiconductorEquipmentandMaterialsInternational）標準化組織依據高純試劑在世界范圍內的實質發展狀況，按品種進行分類，每個品種歸并為一個指導性的標準，此中包含多個用于不一樣工藝技術的等級，詳盡見下表。SEMI國際標準等級C11SEMI標準C1(Grade1)C7(Grade2)C8(Grade3)C12(Grade4)(Grade5)(VLSIGrade)金屬雜質≤1ppm≤10ppb≤1ppb≤ppb≤ppb≤50ppb控制粒徑μ≥≥≥