掃描電鏡技術(shù)及其在材料科學(xué)中的應(yīng)用摘要：隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展進(jìn)步，人們不斷需要從更高的微觀層次觀察、認(rèn)識(shí)周圍的物質(zhì)世界。細(xì)胞、微生物等微米尺度的物體直接用肉眼觀察不到，顯微鏡的發(fā)明解決了這個(gè)問(wèn)題。目前，納米科技成為研究熱點(diǎn)，集成電路工藝加工的特征尺度進(jìn)入深亞微米，所有這些更加微小的物體光學(xué)顯微鏡也觀察不到，必須使用電子顯微鏡。電子顯微鏡可分為掃描電了顯微鏡簡(jiǎn)稱掃描電鏡（SEM）和透射電子顯微鏡簡(jiǎn)稱透射電鏡（TEM）兩大類。本文主要介紹掃描電子顯微鏡工作原理、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及其發(fā)展，闡述了掃描電子顯微鏡在材料科學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用。關(guān)鍵詞：電子顯微鏡；掃描電鏡；材料；應(yīng)用二十世紀(jì)60年代以來(lái)，出現(xiàn)了掃描電子顯微鏡（SEM）技術(shù)，這樣使人類觀察微小物質(zhì)的能力發(fā)生質(zhì)的飛躍依靠掃描電子顯微鏡的高分辨率、良好的景深和簡(jiǎn)易的操作方法，掃描電子顯微鏡（SEM）迅速成為一種不可缺少的工具，并且廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和工程實(shí)踐中近年來(lái)，隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，相繼開(kāi)發(fā)了環(huán)境掃描電子顯微鏡（ESEM）、掃描隧道顯微鏡（SEM）、原子力顯微鏡（AFM）等其它一些新的電子顯微技術(shù)這些技術(shù)的出現(xiàn)，顯示了電子顯微技術(shù)近年來(lái)自身得到了巨大的發(fā)展，尤其是大大擴(kuò)展了電子顯微技術(shù)的使用范圍和應(yīng)用領(lǐng)域在材料科學(xué)中的應(yīng)用使材料科學(xué)研究得到了快速發(fā)展，取得了許多新的研究成果［1-3］。1掃描電鏡的原理掃描電鏡（ScanningElectronMicroscope），簡(jiǎn)寫(xiě)為SEM,是一個(gè)復(fù)雜的系統(tǒng)，濃縮了電子光學(xué)技術(shù)、真空技術(shù)、精細(xì)機(jī)械結(jié)構(gòu)以及現(xiàn)代計(jì)算機(jī)控制技術(shù)。掃描電鏡的基本工作過(guò)程如圖1，用電子束在樣品表面掃描，同時(shí)，陰極射線管內(nèi)的電子束與樣品表面的電子束同步掃描，將電子束在樣品上激發(fā)的各種信號(hào)用探測(cè)器接收，并用它來(lái)調(diào)制顯像管中掃描電子束的強(qiáng)度，在陰極射線管的屏幕上就得到了相應(yīng)襯度的掃描電子顯微像。電子束在樣品表面掃描，與樣品發(fā)生各種不同的相互作用，產(chǎn)生不同信號(hào)，獲得的相應(yīng)的顯微像的意義也不一樣。入射電子與試樣相互作用產(chǎn)生圖2所示的信息種類［1-4］。這些信息的二維強(qiáng)度分布隨試樣表面的特征而變（這些特征有表面形貌、成分、晶體取向、電磁特性等），是將各種探測(cè)器收集到的信息按順序、成比率地轉(zhuǎn)換成視頻信號(hào)，再傳送到同步掃描的顯像管并調(diào)制其亮度，就可以得到一個(gè)反應(yīng)試樣表面狀況的掃描圖如果將探測(cè)器接收到的信號(hào)進(jìn)行數(shù)字化處理即轉(zhuǎn)變成數(shù)字信號(hào)，就可以由計(jì)算機(jī)做進(jìn)一步的處理和存儲(chǔ)掃描電鏡主要是針對(duì)具有高低差較

大、粗糙不平的厚塊試樣進(jìn)行觀察，因而在設(shè)計(jì)上突出了景深效果，一般用來(lái)分析斷口以及未經(jīng)人工處理的自然表面。電子槍圖1掃描電子顯微鏡的工作原理圖2電子束探針照射試樣產(chǎn)生的各種信息電子槍圖1掃描電子顯微鏡的工作原理圖2電子束探針照射試樣產(chǎn)生的各種信息掃描電子顯微鏡（SEM）中的各種信號(hào)及其功能如表1所示:表1掃描電鏡中主要信號(hào)及其功能收集信號(hào)類別功 能二次電子形貌觀察背散射電子成分分析特征X射線成分分析俄歇電子成分分析2掃描電鏡的構(gòu)成圖3給出了掃描電鏡的電子光學(xué)部分的剖面圖。其基本主要是由如下幾個(gè)部分構(gòu)成:電子槍——產(chǎn)生和加速電子。由燈絲系統(tǒng)和加速管兩部分組成。照明系統(tǒng)——聚集電子使之成為有一定強(qiáng)度的電子束。由兩級(jí)聚光鏡組合而成。樣品室——樣品臺(tái)，交換，傾斜和移動(dòng)樣品的裝置。成像系統(tǒng)——像的形成和放大。由物鏡、中間鏡和投影鏡組成的三級(jí)放大系統(tǒng)。調(diào)節(jié)物鏡電流可改變樣品成像的離焦量。調(diào)節(jié)中間鏡電流可以改變整個(gè)系統(tǒng)的放大倍數(shù)。觀察室——觀察像的空間，由熒光屏組成。照相室——記錄像的地方。除了上述的電子光學(xué)部分外，還有電氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)。提供電鏡的各種電壓、電流及完成控制功能［3］。

樣品的制備照明系統(tǒng)樣品室成像系統(tǒng)觀察室照相室la6樣品的制備照明系統(tǒng)樣品室成像系統(tǒng)觀察室照相室la6試樣制備技術(shù)在電子顯微術(shù)中占有重要的地位，它直接關(guān)系到電子顯微圖像的觀察效果和對(duì)圖像的正確解釋。如果制備不出適合電鏡特定觀察條件的試樣，即使儀器性能再好也不會(huì)得到好的觀察效果。掃描電鏡的有關(guān)制樣技術(shù)是以透射電鏡、光學(xué)顯微鏡及電子探針X射線顯微分析制樣技術(shù)為基礎(chǔ)發(fā)展起來(lái)的，有些方面還兼具透射電鏡制樣技術(shù)，所用設(shè)備也基本相同。但因掃描電鏡有其本身的特點(diǎn)和觀察條件，只簡(jiǎn)單地引用已有的制樣方法是不夠的。掃描電鏡的特點(diǎn)是：觀察試樣為不同大小的固體（塊狀、薄膜、顆粒），并可在真空中直接進(jìn)行觀察。試樣應(yīng)具有良好的導(dǎo)電性能，不導(dǎo)電的試樣，其表面一般需要蒸涂一層金屬導(dǎo)電膜。試樣表面一般起伏（凹凸）較大。觀察方式不同，制樣方法有明顯區(qū)別。試樣制備與加速電壓、電子束流、掃描速度（方式）等觀察條件的選擇有密切關(guān)系。上述項(xiàng)目中對(duì)試樣導(dǎo)電性要求是最重要的條件。在進(jìn)行掃描電鏡觀察時(shí)，如試樣表面不導(dǎo)電或?qū)щ娦圆缓茫瑢a(chǎn)生電荷積累和放電，使得入射電子束偏離正常路徑，最終造成圖像不清晰乃至無(wú)法觀察和照相。以導(dǎo)電性塊狀材料為例（導(dǎo)電性材料主要是指金屬，一些礦物和半導(dǎo)體材料也具有一定的導(dǎo)電性），介紹制備的具體過(guò)程。這類材料的試樣制備最為簡(jiǎn)單。只要使試樣大小不得超過(guò)儀器規(guī)定（如試樣直徑最大為025mm，最厚不超過(guò)20mm等），然后用雙面膠帶粘在載物盤(pán),再用導(dǎo)電銀漿連通試樣與載物盤(pán)（以確保導(dǎo)電良好），等銀漿干了（一般用臺(tái)燈近距離照射10分鐘，如果銀漿沒(méi)干透的話，在蒸金抽真空時(shí)將會(huì)不斷揮發(fā)出氣體，使得抽真空過(guò)程變慢）之后就可放到掃描電鏡中直接進(jìn)行觀察。但在制備試樣過(guò)程中，還應(yīng)注意：為減輕儀器污染和保持良好的真空，試樣尺寸要盡可能小些。切取試樣時(shí)，要避免因受熱引起試樣的塑性變形，或在觀察面生成氧化層。要防止機(jī)械損傷或引進(jìn)水、油污及塵埃等污染物。觀察表面，特別是各種斷口間隙處存在污染物時(shí)，要用無(wú)水乙醇、丙酮或超聲波清洗法清理干凈。這些污染物都是掩蓋圖像細(xì)節(jié)，引起試樣荷電及圖像質(zhì)量變壞的原因。故障構(gòu)件斷口或電器觸點(diǎn)處存在的油污、氧化層及腐蝕產(chǎn)物，不要輕易清除。觀察這些物質(zhì)，往往對(duì)分析故障產(chǎn)生的原因是有益的。如確信這些異物是故障后才引入的，一般可用塑料膠帶或醋酸纖維素薄膜粘貼幾次，再用有機(jī)溶劑沖洗即可除去。試樣表面的氧化層一般難以去除，必要時(shí)可通過(guò)化學(xué)方法或陰極電解方法使試樣表面基本恢復(fù)原始狀態(tài)。4樣品的測(cè)試與分析測(cè)試與分析是掃描電鏡技術(shù)中最重要環(huán)節(jié)之一，測(cè)試出我們想要的圖像并做出分析總結(jié)是掃描電鏡工作的目的。掃描電鏡的測(cè)試步驟主要分為：電子束合軸：調(diào)整電子束對(duì)中（合軸）的方法有機(jī)械式和電磁式。①機(jī)械式是調(diào)整合軸螺釘②電磁式則是調(diào)整電磁對(duì)中線圈的電流，以此移動(dòng)電子束相對(duì)光路中心位置達(dá)到合軸目的放入試樣：將試樣固定在試樣盤(pán)上，并進(jìn)行導(dǎo)電處理，使試樣處于導(dǎo)電狀態(tài)。將試樣盤(pán)裝入樣品更換室，預(yù)抽三分鐘，然后將樣品更換室閥門(mén)打開(kāi)，將試樣盤(pán)放在樣品臺(tái)上，在抽出試樣盤(pán)的拉桿后關(guān)閉隔離閥。高壓選擇：掃描電鏡的分辨率隨加速電壓增大而提高，但其襯度隨電壓增大反而降低，并且加速電壓過(guò)高污染嚴(yán)重，所以一般在20kV下進(jìn)行初步觀察，而后根據(jù)不同的目的選擇不同的電壓值。聚光鏡電流的選擇：聚光鏡電流與像質(zhì)量有很大關(guān)系，聚光鏡電流越大，放大倍數(shù)越高。同時(shí)，聚光鏡電流越大，電子束斑越小，相應(yīng)的分辨率也會(huì)越高5?光闌選擇：光闌孔一般是400》、300卩、200卩、100卩四檔，光闌孔徑越小，景深越大，分辨率也越高，但電子束流會(huì)減小。一般在二次電子像觀察中選用300》或200》的光闌。6?聚焦與像散校正：聚焦分粗調(diào)、細(xì)調(diào)兩步。由于掃描電鏡景深大、焦距長(zhǎng),所以一般采用高于觀察倍數(shù)二、三檔進(jìn)行聚焦，然后再回過(guò)來(lái)進(jìn)行觀察和照像。即所謂“高倍聚焦，低倍觀察”。像散校正主要是調(diào)整消像散器，使其電子束軸對(duì)稱直至圖像不飄移為止。7.亮度與對(duì)比度的選擇：二次電子像的對(duì)比度受試樣表面形貌凸凹不平而引起二次電子發(fā)射數(shù)量不同的影響。反差與亮度的選擇則是當(dāng)試樣凸凹嚴(yán)重時(shí)，襯度可選擇小一些，以達(dá)明亮對(duì)比清楚，使暗區(qū)的細(xì)節(jié)也能觀察清楚。也可以選擇適當(dāng)?shù)膬A斜角，以達(dá)最佳的反差。當(dāng)所以參數(shù)都調(diào)節(jié)到合適樣品觀察的位置時(shí)即可觀測(cè)，并拍照儲(chǔ)存用于日后的分析工作。5掃描電鏡在材料科學(xué)中的應(yīng)用掃描電鏡結(jié)合上述各種附件,其應(yīng)用范圍很廣,包括斷裂失效分析、產(chǎn)品缺陷原因分析、鍍層結(jié)構(gòu)和厚度分析、涂料層次與厚度分析、材料表面磨損和腐蝕分析、耐火材料的結(jié)構(gòu)與蝕損分析等［1-2］。材料的組織形貌觀察材料剖面的特征、零件內(nèi)部的結(jié)構(gòu)及損傷的形貌，都可以借助掃描電鏡來(lái)判斷和分析反射式的光學(xué)顯微鏡直接觀察大塊試樣很方便，但其分辨率、放大倍數(shù)和景深都比較低而掃描電子顯微鏡的樣品制備簡(jiǎn)單，可以實(shí)現(xiàn)試樣從低倍到高倍的定位分析，在樣品室中的試樣不僅可以沿三維空間移動(dòng)，還能夠根據(jù)觀察需要進(jìn)行空間轉(zhuǎn)動(dòng)，以利于使用者對(duì)感興趣的部位進(jìn)行連續(xù)、系統(tǒng)的觀察分析；掃描電子顯微圖像因真實(shí)、清晰，并富有立體感，在金屬斷口（圖4）和顯微組織三維形態(tài)（圖5）的觀察研究方面獲得了廣泛地應(yīng)用。鍍層表面形貌分析和深度檢測(cè)有時(shí)為利于機(jī)械加工，在工序之間也進(jìn)行鍍膜處理由于鍍膜的表面形貌和深度對(duì)使用性能具有重要影響，所以常常被作為研究的技術(shù)指標(biāo)鍍膜的深度很薄，由于光學(xué)顯微鏡放大倍數(shù)的局限性，使用金相方法檢測(cè)鍍膜的深度和鍍層與母材的結(jié)合情況比較困難，而掃描電鏡卻可以很容易完成使用掃描電鏡觀察分析鍍層表面形貌是方便、易行的最有效的方法，樣品無(wú)需制備，只需直接放入樣品室內(nèi)即可放大觀察。微區(qū)化學(xué)成分分析在樣品的處理過(guò)程中，有時(shí)需要提供包括形貌、成分、晶體結(jié)構(gòu)或位向在內(nèi)的豐富資料，以便能夠更全面、客觀地進(jìn)行判斷分析為此，相繼出現(xiàn)了掃描電子顯微鏡—電子探針多種分析功能的組合型儀器。掃描電子顯微鏡如配有X射線能譜(EDS)和X射線波譜成分分析等電子探針附件，可分析樣品微區(qū)的化學(xué)成分等信息材料。內(nèi)部的夾雜物等，由于它們的體積細(xì)小，因此，無(wú)法采用常規(guī)的化學(xué)方法進(jìn)行定位鑒定掃描電鏡可以提供重要的線索和數(shù)據(jù)工程材料失效分析常用的電子探針的基本工作方式為：對(duì)樣品表面選定微區(qū)作定點(diǎn)的全譜掃描定性；電子束沿樣品表面選定的直線軌跡作所含元素濃度的線掃描分析；電子束在樣品表面作面掃描，以特定元素的射線訊號(hào)調(diào)制陰極射線管熒光屏亮度，給出該元素濃度分布的掃描圖像。一般而言，常用的X射線能譜儀能檢測(cè)到的成分含量下限為0.1%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))可以應(yīng)用在判定合金中析出相或固溶體的組成、測(cè)定金屬及合金中各種元素的偏析、研究電鍍等工藝過(guò)程形成的異種金屬的結(jié)合狀態(tài)、研究摩擦和磨損過(guò)程中的金屬轉(zhuǎn)移現(xiàn)象以及失效件表面的析出物或腐蝕產(chǎn)物的鑒別等方面。顯微組織及超微尺寸材料的研究鋼鐵材料中諸如回火托氏體、下貝氏體等顯微組織非常細(xì)密，用光學(xué)顯微鏡難以觀察組織的細(xì)節(jié)和特征在進(jìn)行材料、工藝試驗(yàn)時(shí)，如果出現(xiàn)這類組織，可以將制備好的金相試樣深腐蝕后，在掃描電鏡中鑒別下貝氏體與高碳馬氏體組織在光學(xué)顯微鏡下的形態(tài)均呈針狀，且前者的性能優(yōu)于后者。但由于光學(xué)顯微鏡的分辨率較低，無(wú)法顯示其組織細(xì)節(jié)，故不能區(qū)分電子顯微鏡卻可以通過(guò)對(duì)針狀組織細(xì)節(jié)的觀察實(shí)現(xiàn)對(duì)這種相似組織的鑒別在電子顯微鏡下(SEM),可清楚地觀察到針葉下貝氏體是有鐵素體和其內(nèi)呈方向分布的碳化物組成。6現(xiàn)代掃描電鏡的發(fā)展近代掃描電鏡的發(fā)展主要是在二次電子像分辨率上取得了較大的進(jìn)展。但對(duì)不導(dǎo)電或?qū)щ娦阅懿惶玫臉悠愤€需噴金后才能達(dá)到理想的圖像分辨率。隨著材料科學(xué)的發(fā)展特別是半導(dǎo)體工業(yè)的需求,要盡量保持試樣的原始表面,在不做任何處理的條件下進(jìn)行分析。早在20世紀(jì)80年代中期,便有廠家根據(jù)新材料（主要是半導(dǎo)體材料）發(fā)展的需要,提出了導(dǎo)電性不好的材料不經(jīng)過(guò)任何處理也能夠進(jìn)行觀察分析的設(shè)想,到90年代初期,這一設(shè)想就已有了實(shí)驗(yàn)雛形,90年代末期,已變成比較成熟的技術(shù)。其工作方式便是現(xiàn)在已為大家所接受的低真空和低電壓,最近幾年又出現(xiàn)了模擬環(huán)境工作方式的掃描電鏡,這就是現(xiàn)代掃描電鏡領(lǐng)域出現(xiàn)的新名詞“環(huán)掃”,即環(huán)境掃描電鏡［2,5］。6.1低電壓掃描電鏡在掃描電鏡中,低電壓是指電子束流加速電壓在1kV左右。此時(shí),對(duì)未經(jīng)導(dǎo)電處理的非導(dǎo)體試樣其充電效應(yīng)可以減小,電子對(duì)試樣的輻照損傷小,且二次電子的信息產(chǎn)額高,成像信息對(duì)表面狀態(tài)更加敏感,邊緣效應(yīng)更加顯著,能夠適應(yīng)半導(dǎo)體和非導(dǎo)體分析工作的需要。但隨著加速電壓的降低,物鏡的球像差效應(yīng)增加,使得圖像的分辨率不能達(dá)到很高,這就是低電壓工作模式的局限性。6.2低真空掃描電鏡低真空為是為了解決不導(dǎo)電試樣分析的另一種工作模式。其關(guān)鍵技術(shù)是采用了一級(jí)壓差光欄,實(shí)現(xiàn)了兩級(jí)真空。發(fā)射電子束的電子室和使電子束聚焦的鏡筒必須置于清潔的高真空狀態(tài),一般用1個(gè)機(jī)械泵和擴(kuò)散泵來(lái)滿足之。而樣品室不一定要太高的真空,可用另一個(gè)機(jī)械泵來(lái)實(shí)現(xiàn)樣品室的低真空狀態(tài)。當(dāng)聚焦的電子束進(jìn)入低真空樣品室后,與殘余的空氣分子碰撞并將其電離,這些離化帶有正電的氣體分子在一個(gè)附加電場(chǎng)的作用下向充電的樣品表面運(yùn)動(dòng),與樣品表面充電的電子中和,這樣就消除了非導(dǎo)體表面的充電現(xiàn)象,從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)非導(dǎo)體樣品自然狀態(tài)的直接觀察,在半導(dǎo)體、冶金、化工、礦產(chǎn)、陶瓷、生物等材料的分析工作方面有著比較突出的作用。6.3環(huán)境掃描電鏡（ESEM）上述低真空掃描電鏡樣品室最高低真空壓力為400Pa，現(xiàn)在有廠家使用專利技術(shù)，可使樣品室的低真空壓力達(dá)到2600Pa，也就是樣品室可容納分子更多，在這種狀態(tài)下，可配置水瓶向樣品室輸送水蒸氣或輸送混合氣體，若跟高溫或低溫樣品臺(tái)聯(lián)合使用則可模擬樣品的周圍環(huán)境，結(jié)合掃描電鏡觀察，可得到環(huán)境條件下試樣的變化情況。環(huán)掃實(shí)現(xiàn)較高的低真空，其核心技術(shù)就是采用兩級(jí)壓差光柵和氣體二次電子探測(cè)器，還有一些其它相關(guān)技術(shù)也相繼得到完善。它是使用1個(gè)分子泵和2個(gè)機(jī)械泵，2個(gè)壓差（壓力限制）光柵將主體分成3個(gè)抽氣區(qū)，鏡筒處于高真空，樣品周圍為環(huán)境狀態(tài)，樣品室和鏡筒之間存在一個(gè)緩沖過(guò)渡狀態(tài)。使用時(shí)，高真空、低真空和環(huán)境3個(gè)模式可根據(jù)情況任意選擇,并且在3種情況下都配有二次電子探測(cè)器,都能達(dá)到3.5nm的二次電子圖像分辨率。ESEM的特點(diǎn)是:非導(dǎo)電材料不需噴鍍導(dǎo)電膜,可直接觀察,分析簡(jiǎn)便迅速,不破壞原始形貌；可保證樣品在100%濕度下觀察,即