1、江西理工大學材料分析測試題可供參考一、名詞解釋共20分，每題2分。1. 輻射的發射：指物質吸收能量后產生電磁輻射的現象。2. 俄歇電子：X射線或電子束激發固體中原子內層電子使原子電離，此時原子實際是離子處于激發態，將發生較外層電子向空位躍遷以降低原子能量的 過程，此過程發射的電子。3. 背散射電子：入射電子與固體作用后又離幵固體的電子。4. 濺射：入射離子轟擊固體時，當外表原子獲得足夠的動量和能量背離外表運 動時，就引起外表粒子原子、離子、原子團等的發射，這種現象稱為濺 射。5. 物相鑒定：指確定材料樣品由哪些相組成。6. 電子透鏡：能使電子束聚焦的裝置。7. 質厚襯度：樣品上的不同微區無論是

2、質量還是厚度的差異，均可引起相應區域透射電子強度的改變，從而在圖像上形成亮暗不同的區域，這一現象稱為質厚襯度。8. 藍移：當有機化合物的結構發生變化時，其吸收帶的最大吸收峰波長或位置最大向短波方向移動，這種現象稱為藍移或紫移，或“向藍。9. 伸縮振動：鍵長變化而鍵角不變的振動，可分為對稱伸縮振動和反對稱伸縮 振動。10. 差熱分析：指在程序控制溫度條件下，測量樣品與參比物的溫度差隨溫度或 時間變化的函數關系的技術。二、填空題共20分，每題2分。1. 電磁波譜可分為三個局部，即長波局部、中間局部和短波局部，其中中間部分包括 紅外線、可見光 和紫外線,統稱為光學光譜。2. 光譜分析方法是基于電磁輻

3、射與材料相互作用產生的特征光譜波長與強度 進行材料分析的方法。光譜按強度對波長的分布曲線特點或按膠片記 錄的光譜表觀形態可分為連續光譜、帶狀光譜和線狀 光譜3類。3. 分子散射是入射線與線度即尺寸大小遠小于其波長的分子或分子聚集體相互作用而產生的散射。分子散射包括瑞利散射與拉曼散射 兩種。4. X射線照射固體物質樣品，可能發生的相互作用主要有 二次電子、背散射 電子、特征X射線、俄歇電子、吸收電子、透射電子5. 多晶體粉晶X射線衍射分析的根本方法為照相法和X射線衍射儀 法06. 依據入射電子的能量大小，電子衍射可分為 高能電子衍射和 低能電子衍射。依據電子束是否穿透樣品，電子衍射可分為投射式

4、電子衍射與反射式電子衍射。7. 衍射產生的充分必要條件是衍射矢量方程或其它等效形式加F2工0o8. 透射電鏡的樣品可分為直接樣品和 間接樣品。9. 單晶電子衍射把戲標定的主要方法有嘗試核算法和標準把戲對照法。10. 掃描隧道顯微鏡、透射電鏡、X射線光電子能譜、差熱分析的英文字母縮寫分別是stm 、 tem 、 xps 、 DTA 。11. X 射線衍射方法有勞厄法、轉晶法、粉晶法和衍射儀法_ o12. 掃描儀的工作方式有 _連續掃描_和步進掃描兩種。13. 在X射線衍射物相分析中，粉末衍射卡組是由粉末衍射標準聯合_委員會編制，稱為 JCPD§卡片，又稱為PDF 卡片。14. 電磁透鏡

5、的像差有 球差_、色差、軸上像散和 畸變 。15. 透射電子顯微鏡的結構分為光學成像系統、真空系統和電氣系統。16. 影響差熱曲線的因素有 升溫速度、粒度和顆粒形狀、裝填密度 和 壓力和氣氛0三、判斷題，表述對的在括號里打“/，錯的打“X共10分，每題1 分1. 干預指數是對晶面空間方位與晶面間距的標識。晶面間距為d11°/2的晶面其干預指數為220 o V 2. 倒易矢量r*HKL的根本性質為：r*HKL垂直于正點陣中相應的HKL晶面，其 長度r* HKL等于HKL之晶面間距dHKL的2倍。X 倒數3. 分子的轉動光譜是帶狀光譜。 X 線狀光譜4. 二次電子像的分辨率比背散射電子像

6、的分辨率低。X高5. 一束X射線照射一個原子列一維晶體，只有鏡面反射方向上才有可能產生衍射。X 6. 俄歇電子能譜不能分析固體外表的H和He。V 7. 低能電子衍射LEED不適合分析絕緣固體樣品的外表結構。V 8. d-d躍遷受配位體場強度大小的影響很大，而f-f躍遷受配位體場強度大小的影響很小。V 9. 紅外輻射與物質相互作用產生紅外吸收光譜必須有分子極化率的變化。X 10. 樣品粒度和氣氛對差熱曲線沒有影響。X 四、單項選擇題共10分，每題1分。1. 原子吸收光譜是A。A 線狀光譜 B、帶狀光譜 C、連續光譜2. 以下方法中，A 可用于測定方解石的點陣常數。A X射線衍射線分析 B、紅外光

7、譜C、原子吸收光譜 D 紫外光譜子能 譜3. 合金鋼薄膜中極小彌散顆粒直徑遠小于1 m的物相鑒定，可以選擇DA、X射線衍射線分析 B、紫外可見吸收光譜 C、差熱分析D、多功能透 身寸電鏡4. 幾種高聚物組成之混合物的定性分析與定量分析，可以選擇 A 。A、紅外光譜 B、俄歇電子能譜 C、掃描電鏡 D、掃描隧道顯微鏡5. 以下B 晶面不屬于100晶帶。A 001 B 、 100 C 、 010 D 、 0016. 某半導體的外表能帶結構測定，可以選擇D 。A紅外光譜B、透射電鏡 C、X射線光電子能譜 D 紫外光電子能譜7. 要分析鋼中碳化物成分和基體中碳含量，一般應選用 A 電子探針儀，A、波譜

8、儀型B、能譜儀型8. 要測定聚合物的熔點，可以選擇 C 0A、紅外光譜B、紫外可見光譜 C、差熱分析D、X射線衍射9. 以下分析方法中，A 不能分析水泥原料的化學組成。A、紅外光譜B、X射線熒光光譜 C、等離子體發射光譜D、原子吸收光譜10. 要分析陶瓷原料的礦物組成，優先選擇 C oA、原子吸收光譜 B、原子熒光光譜 C、X射線衍射D、透射電鏡11. 成分和價鍵分析手段包括【b】aWDS 能譜儀EDS 和 XRD bWDS EDS 和 XPScTEM WDS和 XPS d XRD FTIR 和 Raman12分子結構分析手段包括【a 】a拉曼光譜Raman、核磁共振NMR和傅立葉變換紅外光譜

9、 FTIR bNMR FTIR 和 WDScSEM TEM和 STEM 掃描透射電鏡dXRD FTIR 和 Raman13. 外表形貌分析的手段包括【d 】a X射線衍射XRD和掃描電鏡SEM b SEM 和透射電鏡TEMc波譜儀WDS和X射線光電子譜儀XPS d掃描隧道顯微鏡STM 和SEM14. 透射電鏡的兩種主要功能：【b 】a外表形貌和晶體結構b內部組織和晶體結構c外表形貌和成分價鍵d內部組織和成分價鍵五、簡答題共40分，每題8分答題要點：1. 簡述分子能級躍遷的類型，比擬紫外可見光譜與紅外光譜的特點。答：分子能級躍遷的類型主要有分子電子能級的躍遷、振動能級的躍遷和轉動能級的躍遷。紫外

10、可見光譜是基于分子外層電子能級的躍遷而產生的吸收 光譜，由于電子能級間隔比擬大，在產生電子能級躍遷的同時，伴隨著振動和 轉動能級的躍遷，因此它是帶狀光譜，吸收譜帶峰寬緩。而紅外光譜是基于分子振動和轉動能級躍遷產生的吸收光譜。一般的中紅外光譜是振-轉光譜，是帶狀光譜，而純的轉動光譜處于遠紅外區，是線狀光譜。2. 簡述布拉格方程及其意義。答：晶面指數表示的布拉格方程為2dhkisin =n，式中d為hkl 晶面間距，n為任意整數，稱反射級數，為掠射角或布拉格角，為X射線的波長。干涉指數表示的布拉格方程為2dHKSin =。其意義在于布拉格方程表達了反射線空間方位與反射晶面面間距d及入射線方位和波長

11、的相互 關系，是X射線衍射產生的必要條件，是晶體結構分析的根本方程。3. 為什么說掃描電鏡的分辨率和信號的種類有關？試將各種信號的分辨率上下作一比擬。答：掃描電鏡的分辨率和信號的種類有關，這是因為不同信號的性質和來 源不同，作用的深度和范圍不同。主要信號圖像分辨率的上下順為：掃描透射 電子像與掃描電子束斑直徑相當二次電子像幾nm與掃描電子束斑直徑相當背散射電子像50-200nm吸收電流像 特征X射圖像100nm-1000nm4. 要在觀察斷口形貌的同時，分析斷口上粒狀夾雜物的化學成分，選擇什么儀器？簡述具體的分析方法。答：要在觀察斷口形貌的同時，分析斷口上粒狀夾雜物的化學成分，應選 用配置有波

12、譜儀或能譜儀的掃描電鏡。具體的操作分析方法是：先掃描不同放 大倍數的二次電子像，觀察斷口的微觀形貌特征，選擇并圈定斷口上的粒狀夾 雜物，然后用波譜儀或能譜儀定點分析其化學成分確定元素的種類和含量。5. 簡述影響紅外吸收譜帶的主要因素。答：紅外吸收光譜峰位影響因素是多方面的。一個特定的基團或化學鍵只k值才固定有在和周圍環境完全沒有力學或電學偶合的情況下，它的鍵力常數不變。一切能引起k值改變的因素都會影響峰位變化。歸納起來有：誘導效應、共軛效應、鍵應力的影響、氫鍵的影響、偶合效應、物態變化的影響等。6. 透射電鏡主要由幾大系統構成 ？各系統之間關系如何？答：四大系統:電子光學系統，真空系統，供電控制系統，附加儀器系統。其中電子光學系統是其核心。其他系統為輔助系統。7. 透射電鏡中有哪些主要光闌 ？分別安裝在什么位置？其作用如何？答：主要有三種光闌： 聚光鏡光闌。在雙聚光鏡系統中，該光闌裝在第二聚光鏡下方。作用 ：限制照明孔徑角。 物鏡光闌。安裝在物鏡后焦