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文檔簡介
第3章場效應(yīng)管及其放大路3.1場效應(yīng)管3.2場效應(yīng)管及放大電路
3.1場效應(yīng)管
引言3.1.1結(jié)型場效應(yīng)管3.1.3場效應(yīng)管的主要參數(shù)3.1.2MOS場效應(yīng)管引言場效應(yīng)管FET
(FieldEffectTransistor)類型:結(jié)型JFET
(JunctionFieldEffectTransistor)絕緣柵型IGFET(InsulatedGateFET)特點(diǎn):1.單極性器件(一種載流子導(dǎo)電)3.工藝簡單、易集成、功耗小、
體積小、成本低2.輸入電阻高
(1071015,IGFET可高達(dá)1015)3.1.1結(jié)型場效應(yīng)管1.結(jié)構(gòu)與符號N溝道JFETP溝道JFET2.工作原理(1)uGS對導(dǎo)電溝道的控制作用2.uDS對iD的影響3.uDS和UGS共同作用uGS
0,uDS
>0此時uGD=UGS(off);
導(dǎo)電溝道楔型耗盡層剛相碰時稱預(yù)夾斷。當(dāng)uDS
,預(yù)夾斷點(diǎn)下移。3.轉(zhuǎn)移特性和輸出特性UGS(off)當(dāng)UGS(off)
uGS0時,uGSiDIDSSuDSiDuGS=–3V–2V–1V0V–3VOO3.1.2MOS場效應(yīng)管MOS場效應(yīng)管(絕緣柵場效應(yīng)管)N溝道絕緣柵場效應(yīng)管P溝道絕緣柵場效應(yīng)管增強(qiáng)型耗盡型增強(qiáng)型耗盡型一、增強(qiáng)型N溝道MOSFET
(MentalOxideSemi—FET)1.結(jié)構(gòu)與符號P型襯底(摻雜濃度低)N+N+用擴(kuò)散的方法制作兩個N區(qū)在硅片表面生一層薄SiO2絕緣層SD用金屬鋁引出源極S和漏極DG在絕緣層上噴金屬鋁引出柵極GB耗盡層S—源極SourceG—柵極Gate
D—漏極DrainSGDB2.工作原理反型層(溝道)1)uGS
對導(dǎo)電溝道的影響
(uDS=0)a.當(dāng)UGS=0
,DS間為兩個背對背的PN結(jié);b.當(dāng)uGS
UGS(th)
時,襯底中電子被吸引到表面,形成導(dǎo)電溝道。uGS
越大溝道越厚。2)
uDS
對iD的影響(uGS>UGS(th))DS間的電位差使溝道呈楔形,uDS,靠近漏極端的溝道厚度變薄。預(yù)夾斷(UGD=
UGS(th)):漏極附近反型層消失。預(yù)夾斷發(fā)生之前:uDSiD。預(yù)夾斷發(fā)生之后:uDSiD不變。3.轉(zhuǎn)移特性曲線2464321uGS/ViD/mAUDS=10VUGS(th)當(dāng)uGS>UGS(th)
時:uGS=2UGS(th)
時的
iD值開啟電壓O4.輸出特性曲線可變電阻區(qū)uDS<uGSUGS(th)uDSiD
,直到預(yù)夾斷飽和(放大區(qū))uDS,iD不變截止區(qū)uGS
UGS(th)全夾斷iD=0
iD/mAuDS/VuGS=2V4V6V8V截止區(qū)飽和區(qū)可變電阻區(qū)放大區(qū)恒流區(qū)O二、耗盡型N溝道MOSFETSGDBSio2絕緣層中摻入正離子在uGS=0時已形成溝道;在DS間加正電壓時形成iD,uGS
UGS(off)
時,全夾斷。輸出特性uGS/ViD/mA轉(zhuǎn)移特性IDSSUGS(off)夾斷電壓飽和漏極電流當(dāng)uGS
UGS(off)時,uDS/ViD/mAuGS=4V2V0V2VOO三、P溝道MOSFET增強(qiáng)型耗盡型SGDBSGDBN溝道增強(qiáng)型SGDBiDP溝道增強(qiáng)型SGDBiD2–2OuGS/ViD/mAUGS(th)SGDBiDN溝道耗盡型iDSGDBP溝道耗盡型UGS(off)IDSSuGS/ViD/mA–5O5FET符號、特性的比較OuDS/ViD/mA5V2V0V–2VuGS=2V0V–2V–5VN溝道結(jié)型SGDiDSGDiDP溝道結(jié)型uGS/ViD/mA5–5OIDSSUGS(off)OuDS/ViD/mA5V2V0VuGS=0V–2V–5V3.1.3場效應(yīng)管的主要參數(shù)開啟電壓UGS(th)(增強(qiáng)型)
夾斷電壓
UGS(off)(耗盡型)指uDS=某值,使漏極電流iD為某一小電流時的uGS值。UGS(th)UGS(off)2.飽和漏極電流IDSS耗盡型場效應(yīng)管,當(dāng)uGS=0時所對應(yīng)的漏極電流。IDSSuGS/ViD/mAOUGS(th)UGS(off)3.直流輸入電阻RGS指漏源間短路時,柵、源間加
反向電壓呈現(xiàn)的直流電阻。JFET:RGS>107
MOSFET:RGS=109
1015IDSSuGS/ViD/mAO4.低頻跨導(dǎo)gm
反映了uGS對iD的控制能力,單位S(西門子)。一般為幾毫西
(mS)uGS/ViD/mAQOPDM=uDSiD,受溫度限制。5.漏源動態(tài)電阻rds6.最大漏極功耗PDM3.2.3場效應(yīng)管與晶體管的比較管子名稱晶體管場效應(yīng)管導(dǎo)電機(jī)理利用多子和少子導(dǎo)電利用多子導(dǎo)電控制方式電流控制電壓控制放大能力較低高直流輸入電阻小約幾kΩ大JFET可達(dá)107Ω以上,MOS可達(dá)1010Ω穩(wěn)定性受溫度和輻射的影響較大溫度穩(wěn)定性好、抗輻射能力強(qiáng)噪聲中等很小結(jié)構(gòu)對稱性集電極和發(fā)射極不對稱,不能互換漏極和源極對稱,可互換使用適用范圍都可用于放大電路和開關(guān)電路等3.2
場效應(yīng)管放大電路3.2.2分壓式自偏壓放大電路3.2.1場效應(yīng)管放大電路3.2.1場效應(yīng)管放大電路三種組態(tài):共源、共漏、共柵特點(diǎn):輸入電阻極高,噪聲低,熱穩(wěn)定性好
1.固定偏壓放大電路一、電路的組成(1)合適的偏置(2)能輸入能輸出+VDDRDC2+C1+uiRGGDRL+UoVGG柵極電阻RG的作用:為柵偏壓提供通路源極電阻RS的作用:提供負(fù)柵偏壓漏極電阻RD的作用:把iD的變化變?yōu)閡DS的變化+VDDRDC2CS+++uoC1+uiRGRSGSD二、靜態(tài)分析UGS+VDDRDC1RGRSGSDIDUDSRL估算法
2.自給偏壓放大電路
UDSQ=VDD–
IDQ(RS+RD)
UGS+VDDRDC1RGRSGSDIDUDSUGSQ
=–IDQRS1.場效應(yīng)管的等效電路三、動態(tài)分析—場效應(yīng)管電路小信號等效電路分析法移特性可知,gm是轉(zhuǎn)移特性在靜態(tài)工作點(diǎn)Q處gm為低頻跨導(dǎo),反映了管子的放大能力,從轉(zhuǎn)切線的斜率.rds為場效應(yīng)管的共漏極輸出電阻,為輸出特性在Q點(diǎn)處的切線斜率的倒數(shù),如圖所示,通常rds在幾十千歐到幾百千歐之間。從輸入端口看入,相當(dāng)于電阻
rgs()。從輸出端口看入為受
ugs控制的電流源。id=gmugs小信號模型根據(jù)rgs
Sidgmugs+ugs+udsGDrds2.場效應(yīng)管放大電路的微變等效電路RLRD+uo+uiGSD+ugsgmugsidiiRG3.計算放大電路的動態(tài)指標(biāo)注意:自給偏壓電路只適用耗盡型場效應(yīng)管放大電路3.2.2分壓式自偏壓放大電路調(diào)整電阻的大小,可獲得:UGSQ>0UGSQ=0UGSQ<0RL+VDDRDC2CS+++uoC1+uiRG2RSGSDRG1一、電路組成二、靜態(tài)分析
UDSQ=VDD–
IDQ(RS+RD)
三、動態(tài)分析RLRD+uo+uiRG2GSDRG1+ugsgmugsidii四、改進(jìn)電路目的:為了提高輸入電阻有CS時:RL+VDDRDC2CS+++uoC1+uiRG2RSGSDRG1RG3RLRD
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