1、文章編號: 10055630 (2002) 01003513光學元件技術要求與檢驗國際新標準的若干問題徐德衍(中國科學院上海光機所高功率激光物理國家實驗室, 上海 201800)摘要: 介紹了 ISO 10110 產生的背景及基本內容, 對其中一些內容予以側重闡述。 同時也簡略地提及該標準與其它一些標準的對應關系。 文末提了幾點建議。關鍵詞: ISO 10110; 光學技術要求中圖分類號: TN 2文獻標識碼: AA cer ta in n um ber of que st ion s a bout spec if ica t ion s an d te st of op t ica l e

2、lem en tsX U D e2y a n(Sh angh a i In st itu te o f O p t ic s and F ine M ech an ic s, T h e C h ine se A cadem y o f Sc ience s, Sh angh a i 201800, C h ina)A bstra c t: In th is p ap e r, th e b a sic co n ten t s o f th e ISO 10110 is in t ro du ced b r ief ly an d som e ev iden td iffe ren ce s

3、 b e tw een th e ISO 10110 an d o u r GB stan da rd a re de sc r ib ed in g rea t de ta ils.In th e en d, a sim p le p ropo sa l is p u t.Key word s: ISO10110;op t ica l sp ec if ica t io n1前言國際電工委員會 ( IEC ) 是第一個國際標準化組織, 該組織始于 19 世紀 80 年代后期。長期以來, IEC 僅是自愿性質的國際標準化組織, 但它卻孕育其他技術領域標準化組織構建的思想原則。 作為聯合國憲章國

4、際組織一部分, 國際標準化組織 ( ISO ) 成立于 1947 年, 其后, 處理各個技術領域中標準化問題的技術委員會相繼成立。1979 年, 以統一方式處理光學元件問題的一個新的技術委員會 (T C )成立, 其中包括 ISO /T C 172 光學和光學儀器。T C 172 下屬 9 個分會 (SC ) 處理這一領域不同學科的技 術問題, SC 中對應于 ISO 10110 是 SC 1 基本標準, SC I 包括三個工作組 (W G ) , ISO 10110 是W G2 光學制圖組起草完成的, 其他兩個工作組是W G1 光學檢驗以及W G3 環境檢驗。ISO /T C 172/SC

5、1/W G2 起草工作始于 1979 年, 被起草的標準稱為“光學制圖表示法”, 該文件定為ISO 10110。 長期以來一些學術上的問題, 推延了這個文件的正式頒發與實施。ISO 有一定規定, 當要起草一個國際標準時, 所有應邀起草成員都要攜帶其本國的相應標準作為起草 時的參考文件。在當時, 最早在 1957 年德國就擁有非常完善、富有價值的國家光學制圖技術標準D IN 3140 (D IN )。 與其它標準相比較, D IN 3140 被起草委員會們接受, 作為起草國際標準的基礎。 也就是說, ISO 10110 的基礎是來自于德國標準D IN 3140。不過, 在光干涉術, 表面計量術,

6、 以及激光技術等一些領域,收稿日期: 2001208207作者簡介: 徐德衍( 19392) , 男, 遼寧鳳城人, 教授級高級工程師, 主要從事光學與激光計量與精密檢測研究。·36·光 學 儀 器第 24 卷美國做出了較大的貢獻。光學技術的不斷發展, 需要淘汰和擯棄一些老的標準, 修改和充實一些新的、已被采用的內容。 例如, 表面粗糙度, 用相位干涉儀測量波面的描述等等。 換句話說 ISO 10110 中相當一些內容及表述方式與 D IN 3140 已有不小的差異。1980 年 4 月 16 日通過了W G2 完成的“光學制圖表示法”。不過, 所有的標準是“有生命的文件”

7、, 它將 在試行中吐故納新。1996 年正式發布 ISO 10110 的第 1、2、3、5、6、7、9、10 部分, 其余 4 部分于 1997 年正式發布。ISO 10110總的標題稱“光學和光學儀器光學元件及系統圖紙繪制”該標準文件全面制定了用于光學加工與檢驗 光學元件及系統的技術圖紙繪制及其技術要求的總的技術規范。2基本內容及簡要說明基本內容ISO 10110 共包括 13 個部分, 其內容大致可分 4 個方面:第一, 一般規范: P a r t l概述 第二, 光學材料缺陷, 包括:211應力雙折射P a r t2P a r t2氣泡與雜質P a r t3非均勻性與條紋 第三, 表面特

8、性, 包括:P a r t5面形偏差P a r t6中心偏差P a r t7表面缺陷偏差表面微觀輪廓P a r t8第四, 其他規定, 包括:P a r t9表面處理與鍍膜元件技術要求的格式非公差數據P a r t10P a r t11P a r t12非球面P a r t13激光輻射破壞閾值 一般規范21221211基本規定波長: 546109m (汞燈 e 線)單位: mm溫度: 22±2(除非特殊指明外)21212圖紙簡要說明視圖: 可用陰影線和非陰影線。 軸線: 光線自左向右;光軸雙點劃線;旋轉軸與中心線單點劃線。 引線: 圖內用逗點引線, 圖邊用箭頭引線。檢驗區: 5 e

9、表示有效通光口徑;用陰影線分區表示;用幾幅視圖表示;·37·第 1 期徐德衍: 光學元件技術要求與檢驗國際標準的若干問題體檢驗指明一般要求與特殊要求;尺寸與角度: 標注方式 (略)材料技術說明: 應有一般說明和特殊說明21213光學圖紙的附加說明一般說明: 倍率, 視場光闌位置尺寸, 焦平面尺寸等共 17 項 軸向間距: 可調軸間距用“A ”表示;可改變軸間距用“V ”表示;像點、瞳、視場光闌: 成像位置用“X ”表示;瞳位置用“I”表示;實際光闌用粗實線表示, 其像用虛線表示。213各部分內容說明表 1各部分內容說明標準編號及部分書寫形式說明ISO 1011020/A0/

10、材料應力雙折射的編碼號A 最大光程差, 以 nm /cm 為單位ISO 1011031/N ×A1/材料氣泡及雜質編碼號N 氣泡或雜質數目A 氣泡分級數目 ( 尺寸) 以mm 為單位, 是所允許缺陷最大尺寸截 面面積的平方根ISO 1011042/A ; B2/材料非均勻性和條紋編碼號A 非均勻性級數B 條紋級數ISO 1011053/A (B /C )- (B /C )A ( - /C )3/A (B )3/-3/A (B /C ) RM SX < D(a ll 5 )3/面形偏差編碼號A 最大表面誤差( 條紋)( - ) 若偏差是半徑偏差的一部分即不給出A 值B PV 不規

11、則性( - ) 未給出B 的值C 旋轉對稱性誤差( 條紋)若(B /C ) 是由A (B ) 代替, 則不要求 C 偏差若A B C 都無要求, 則由單一個( - ) 取代: 3/-X 代表如下之一 t偏離于與理論表面的總的 RM S 或 i不規則性數值的 RM S或 a從非球面度減去不規則性后仍存在的 RM S 非對稱性D 最大的 RM S 偏差( 條紋)5 待檢驗的口徑a ll 5 全口徑ISO 1011064/ /(L )4/定中心偏差編碼號面傾向 膠合楔角L 橫向偏移量·38·光學儀器第 24 卷續表 13值得關注的若干問題有些內容國標 GB 1332391 與 I

12、SO 10110 相似, 這里只談及兩者之間的差異和幾個值得關注的問題。311分級相反的規定ISO 101104 材料缺陷非均勻性及條紋的分級與國內標準分級含義恰恰相反, 見表 2 及表 3 所示。ISO 1011075/N ×A ; CN ×A ; LN ×A ”; EA ( 方法 1)5/TV 或/TV ; EA 5/RV 或RV ; EA ( 方法 2)5/表面缺陷編碼號N 缺陷數目A 級數( 缺陷面積的平方根) C 鍍膜缺陷標志N 鍍膜缺陷數目A 級數( 缺陷面積的平方根) L 長劃痕標志N 長劃痕數目A 長劃痕寬度(m n) E 倒棱標志A 倒掉棱的尺寸

13、T 透過檢驗V 可見度的級數R 反射檢驗E , A 倒棱, 同方法 1ISO 10110136/H ; H th; ;p dg; f p;nT s ×np( 脈沖的)6/E T h; ; nT s( 連續的)6激光輻射破壞閾值編碼號 H th 能量密度閾值 激光波長(nm )p dg脈沖寬度分組f p 脈沖重復頻率(H 3)nT s 所需要的檢驗部位數np 每一個檢驗部位的脈沖數E th 功率密度閾值ISO 101108表面輪郭符號G粗表面輪廓標志( 粗磨)R q最大可允許 RM S 表面粗糙度( m )L 取樣長度(nm )P 鏡面表面( 拋光過的) , 非定量的PM 有微缺陷拋光

14、面分級符號, M 取 1、2、3 或 4C 下限取樣長度(mm ) D 上限取樣長度(mm ) P S D 功率譜密度A 常數, 以( m ) 3- B 表示f 粗糙度表面的空間頻率(m - 1 )B 空間頻率 f 的指數( < 1< B < 3)ISO 101109涂膜符號涂膜技術要求與說明 保護性表面處理( 涂漆)·39·第 1 期徐德衍: 光學元件技術要求與檢驗國際標準的若干問題表 2ISO 101104 非均勻性類表表 3國標光學均勻性及條紋度(GB 90387)由上表 2 與表 3 比較可見, 國標中類別數字大, 均勻性差; ISO 中類別數字大

15、, 均勻性好。同樣地, 條紋度的分類也與國際相反。 在選定材料時必須予以特別當心。 表 4 和表 5 分別給出國外幾家大公司關于材料特性和條紋的標準對比。表 4幾家公司材料非均勻性標準的比較a: 在一次熔練中b: 在一塊坯料中。請注意 ISO 101104 中分類用“c la ss”一詞:Scho t t 公司用“G ro up ”; 而 H o ya 和D h a ra 公司用“G rade”一詞表 5幾家公司條紋標準的比較a: 條紋密度是條紋的有效面積與被檢驗面積之比的百分數b: 無條紋, 圖紙注釋中將詳細說明條紋密度% aISO 101104D IN 3140Scho t t dH o

16、ya( 級別)D h a ra( 級別) cM IL G174 ( 級別)- b1251054321P 1N V S N12, 3A B C DA B C eD e折射率變化×10- 6ISO 101104D IN 3140 ( 類別)Scho t t( 類別)H o ya( 級別)D h a ra( 級別)M IL G174±50±20±5±2±1±015012345H 1a H 2b H 3b H 4bH 1a H 2b H 3b H 4bA 20A 5A 2A 1無光學均勻性類別折射率最大偏差×10- 6條紋

17、度類別距離及結果說明( 略)H 1H 2H 3H 4±2±5±10±200 0012無 無 無有類別折射率允許最大變化值×- 6012345±50±20±5±2±1±015·40·光 學 儀 器第 24 卷c: 用M IL G 174 標準d: 用M IL G 174 檢驗e: 平行條紋標準中用方程 n = e/t 圖解求解材料厚度, 均勻性及波前畸變的關系 n 材料的非均勻性e以波長為單位的 PV 值所用的波長t 樣品厚度例如, 厚度 t= 215cm 的B K

18、7 的窗口, 其每面平面性的 PV波前畸變 PV 值 /4, 問均勻性要求為多少?值用 /10 ( = 546nm ) 的技術要求, 透過( /4) -( /10) = 0. 15e=圖 1 材料厚度、均勻性及波前畸變的關系舉例312關于面形誤差PV 值及 Pow e r 值的應用31211根據 ISO 101105 的表示法, 國外干涉儀測量輸出的信息至少有:PV 相當于 3/A (B /C ) RM SX 中的“B ”、“C ”值; RM S相當于 3/A (B /C ) RM SX 的“RM SX ”; Pow e r相當于 3/A (B /C ) RM SX 中的“A ”。另外, 為了

19、控制高頻和中高頻面形起伏的影響, 有的光學元件面形偏差還提出“梯度”要求值, 例如, 當空間波長大于 2cm 時, 梯度應小于 /25/cm ; 當空間波長小于 2cm 時, 梯度應小于 /10/cm 。 由上可說明 對局部誤差有一個具體范圍的確切量值。美國N IF 工程中光學元件面形誤差, 僅限定通過波前或反射波前的畸變 PV 值及梯度值 /X /cm 。如 表 6 所示。·41·第 1 期徐德衍: 光學元件技術要求與檢驗國際標準的若干問題表 6典型N IF 光學元件面形技術要求31212關于 PV 值及 Pow e r 值與N 及 N 的關系迄今為止, 絕大多數國內光學

20、廠家仍習慣沿用“N ”,“ ”表示面形偏差 (GB 283181) , 這種表示簡 明, 易懂但“粗”、且也遺漏些信息。下面解釋一下 PV 值及 Pow e r 值與N 及 N 之間的對應關系。從 PV 值及 Pow e r 值定義去考慮, 對于一個理想的大球波面, 其 PV 值等于 Pow e r 值, 換句話說, PV值與 Pow e r 值愈接近, 波面不規則性的影響愈小; 相反, PV 值與 Pow e r 值相差愈大, 波面不規則程度 ( 或 稱局部誤差) 愈明顯。 如圖 2 所示。(a)理想的球面(b ) 明顯不規則的球面圖 2 兩種波面 PV 值與 Pow e r 值的示意圖從圖

21、中可以看出, 對于較理想波面, 兩倍的 PV 值或 Pow e r 值 ( 一般均以波長為單位) 可作為光圈數N 的參考數; 對于不規則波面, PV - Pow e r 的兩倍可作為 N 的參考值, Pow e r 值的兩倍作為N 的參考 值。313關于表面缺陷偏差的幾個問題31311背景和現狀我國早期沿用前蘇聯標準, 將表面缺陷 ( 劃痕, 麻點等) 與微觀不平度通稱為表面光潔度1 , 用 P IP VI 表示 (GB 103168)。時至今日, 國內光學工廠大多仍習慣于用此標準。根據頒布的新標準, 表面缺陷用 符號B /G ×J 表示 (GB 118589) , 這相當于 ISO

22、 101107 中 5/N ×A 的表示式。 微觀不平度用表面粗糙度表示 (GB 103183) , 它相對于 ISO 101108 所述的內容。關于B /G×J 的詳細描述及換算已有介紹2 。31312ISO 101107 的某些說明3131211 關于兩種檢驗方式必須指出的是, 在 ISO 10110 圖紙標注中提出表面缺陷具體要求后, 還應指出用方法I 或方法 檢 驗, 這是必須注意的, 其中:方法I 遮蔽或影響面積法 (O b scu red o f affec ted a rea m e tho d)這種方法是我國相應標準推行的方法, 其實質是歸納出疵病總面積值大

23、小的方法。為了檢驗工作方便 起見 ISO 推薦兩種規格的標準板作為檢驗時對比之用, 其具體尺寸見表 7。光學元件PV , = 01633m梯度值主放大器釹玻璃片T : /6空間波長大于 6cm 時, 梯度小于 /25/cm空間波長 014cm 6cm 時, 梯度小于 /20/cm光傳輸反射鏡R : /2. 5空間波長大于 2cm 時, 梯度小于 /25/cm ,空間波長小于 2cm 時, 梯度小于 /10/cmV D P 開關晶體T : /4空間波長大于 2cm 時, 梯度小于 /25/cm空間波長大于 2cm 時, 梯度小于 /10/cm·42·光 學 儀 器第 24 卷

24、表 7疵病標準的具體數值方法 可見度法 (V isib ility m e tho d)該方法是基于被檢驗元件表面缺陷光散射與一個參考背景照明的比較原理, 其參考背景照度用一塊 標準樣品來調節。該方法需要兩套分別用于反射面和透過面的檢驗裝置。 見表 8。表 8方法 的可見度等級規定3131212存在一些問題兩種方法在檢驗中需要解決的問題是: (1) 在光學玻璃表面上制成真實的不同劃痕寬度并定量分類其 可見度是有難度的; (2) 由于衍射影響準確測量微小劃痕實際的寬度也是有難度的; ( 3) 實際上, 依靠有豐 富經驗檢驗者進行某些比較測量是最通用的方式。美國軍用標準M IL 20213830A

25、31313在美國光學工程技術中, 普遍采用M IL 20213830A 作為光學制圖標準, 所以在現在文獻和圖紙中?？梢姷竭@一標準。 該標準用兩組兩位數字表示表面缺陷大小。 例如 40/20 (或 4020) , 前者限制劃痕大小;后者限制坑點大小。 其號碼與缺陷尺度的對應數值如表 9。表 9劃痕/坑點號碼與尺寸對照表劃痕坑點號碼最大寬度( m )號碼最大直徑( m )10152011152123102030可見度級別被檢驗元件照度標準背景透過光檢驗反射光檢驗T 5T 4T 3T 2T 1R 5R 4R 3R 2R 13101×±5%625×±5%125

26、0×±5%2500×±5%2500×±5%可調 可調 可調 可調黑體級數A (mm )圓“缺陷”直徑( m )“劃痕”尺寸( m )標準板N o 110100401006010100101601025010404157111828451×16116×25215×40410×63013×10010×160標準板N o 12010400106001100011600125001400457011018028045010×16016×22525×400

27、40×63063×1000100×1600·43·第 1 期徐德衍: 光學元件技術要求與檢驗國際標準的若干問題續表 9另外, 有時圖紙上給出簡寫的符號表示疵病極限分辨法的分類和規定的觀察條件見表 10 及表 11。表 10疵病極限分辨法的分類 3 表 11劃痕標號與疵病極限分辨簡化符號近似對照31314ISO 101107 在N IF 光學圖紙中應用一塊應用于N IF 中的透鏡, 其表面缺陷從如下形式給出45/5×0105; L 1×01001; E 015 ( 最大劃痕長 40mm , 最多崩邊數為 1) , 這一要求解釋

28、為 ( 1) 在通光口徑 允許有 5 個坑, 其每個尺寸不大于 50m ; ( 2) 在通光口徑內允許有一個長 40mm , 不寬于 1m 的長劃痕;( 3) 允許有一個不大于 015mm 的崩邊; (4) 全部倒棱; 上述要求相當于M IL 標準中的 10/5 要求。為了應用 方便起見, 特將光學元件表面缺陷M IL 與 ISO 101107 的數據對應關系列于表 12 和表 13 中。這是美國勞倫斯 1 里弗莫爾實驗室 (L aw ren ce L ivem o re N a t io n a l L abo ra to ry L L N L ) 工程技術人員 的解讀并應用于N IF 圖紙

29、中具體實例。表 12根據M IL 20213830 坑點技術要求與 ISO 10110 對應關系M IL 20213830AISO 10110, 方法I最大坑點尺寸(mm )每一個元件可有 1 個 最大坑點尺寸最大坑點尺寸每一 元件可有 5 個010555/1×01055/5×01050110105/1×01105/5×01100120205/1×01205/5×0120劃痕標號簡化符號觀察條件1020406080E F V F FMM C極細 很細 細 中等中粗分類簡寫符號光源觀察條件極輕EL標準中規定的光源肉眼或儀器很輕V L標準

30、中規定的光源觀察距離 30cm 處輕L標準中規定的光源觀察距離 60cm 處中等M熒光光源(B ST )觀察距離 60cm 處中等重M H室內光(L L S)觀察距離 30cm 處重H室內光(L L S)觀察距離 60cm 處劃痕坑點號碼最大寬度( m )號碼最大直徑( m )303550404101006061515080820200303004040050500·44·光 學 儀 器第 24 卷表 13根據M IL 20213830A 劃痕技術要求與 ISO 10110 的對應關系314關于表面結構特性主要指表面拋光程度即表面粗糙度的容許量和表示方法。這部分內容與國內相

31、應內容有較多差異。必 須倍加注意。光學工作者普遍認為, 用機械表面標準表述光學表面是極不充分的, 尤其在激光陀螺系統, 高功率激光光學, X 射線反射鏡等元件, 表面粗糙度是一個相當重要的參數。31411兩類光學表面現將光學表面分為兩類, 其中一類是表面高度變化大于可見光波長的光學表面為粗 (M a t te) 或研磨 表面, 用“G ”表示, 其高度變化值用 R q 表示。另一類是鏡面( sp ecu la r) 它有三種方式描述:(1) 表面粗糙度 RM S 值: 這是通常表示鏡面表面主要參數, 值得注意的是, 沒有指明取樣長度的上限 和下限, r. m. s 描述表面粗糙度是不充分的。(

32、 2) 微缺陷的定量化: 微缺陷可以理解為在光滑表面中的極有限的局部坑凹, 規定在每 10mm 光滑表面掃描長度內缺陷數目N , 用光學輪廓儀, 顯微鏡或顯微成像比較儀都可以定量測量微缺陷。(3) 功率譜密度 (Pow e r Sp ec t ra l D en sity P SD ) 函數P SD 函數是以單位長度的倒數表示的被測表面粗糙度的頻譜, 其潛隱的含義是粗糙度及測量儀器的 “帶寬”的概念。 對于設計者、制造者可根據 P SD 值決定是否修改其工藝。 使之滿足更精確表面粗糙度評 定, 所以 P SD 能充分地描述表面結構特性。5, 631412表示方法及說明有時, 在國外光學技術圖紙

33、上直接用字母 R a , R q , 及 R z 值表示對光學表面粗糙度的要求。 其中,R a 為表面粗糙度的算術平均值;R q 為表面粗糙度的均方差值(RM S) ;R z 為表面起伏最高與最低之差值 (PV ) , 其三者粗略關系及相關問題筆者曾有詳細說明7 。ISO 101108 中規定一種新的表面微輪廓表示法。 它由三個內容組成: ( 1) 粗糙表面 (m a t t su rface) , 用“G”表示; (2) 光滑表面 sp ec tu la r (O p t ica lly sm oo th ) su rface , 用“P ”表示; ( 3) 微缺陷 (m ic ro def

34、ec t) , 其 在尺寸上小于微米 (m ) , 在“P ”的后面用數字 1 4 表示微缺陷的程度。圖 3 表示粗糙表面的方法, 其中“G ”表示粗糙的研磨表面, 5 表示最小取樣長度 5mm , R q 值最低應為2m。圖 3 粗糙面的表示法圖 4 為光滑表面表示方法, P 后數字表示微缺陷的級別。拋光微缺陷級別如表 14 所示。從圖 4 中可以 看出 P 3 表示 3 級, 意指在取樣長度 10mm 內, 微缺陷數少于 16 個; 在取樣范圍 01002mm 1mm 之間, 其M IL 20213830AISO 10110, 方法I最大劃痕寬度測比較檢驗劃痕標準最大劃痕寬度每一 元件可有

35、 1 個最大劃痕寬度每一 元件可有 5 個01001105/L 1×010015/L 5×0100101002205/L 1×010025/L 5×0100201004405/L 1×010045/L 5×01004·45·第 1 期徐德衍: 光學元件技術要求與檢驗國際標準的若干問題中 R q 01001m。附帶指出的是, 早期試行的 ISO 10110 中還曾用德國D IN 3140 標準中相應部分中的棱形() 數表示拋光級別8規定的相同。, 即用一個“”表示 P 1, 兩個“”表示 P 2, 其取樣長度及微缺陷

36、數與表 12 中圖 4 光滑面的表示法表面微缺陷的 4 個級別表 14如圖 5 表示 P SD 及拋光要求。該拋光級別為 4, 即在每 10mm 取樣長度內微缺陷數少于 3 個, 在取樣長度 01001mm 1mm 之間, P SD 10- 6 /f2 (m 3 ) 1圖 5P SD 及拋光要求表示法綜上所述, 其內容可歸納為表 15。表 15用字母表示與說明不同表面結構特性4其它兩個內容411圖紙上元件參數與性能的列表格式在 P a r t10 中規定了圖紙上的內容與格式: (1) 光學元件圖在上方(2) 列表在圖紙下方, 包括 3 部分內容:左欄: 元件左表面的參數;中欄: 材料的技術要求

37、;右欄: 元件右表面參數粗糙的或研磨表面拋光表面微缺陷RM S 表面粗糙度P SDaGP nP 或 P nP 或 P nbR qm inR qR qm ax 或R qm ax( m )R q R qm ax( m )A /Bclm in 或 lm in /lm ax(mm )lm in /lm ax(mm )C /D (mm )拋光級別每 10mm 取樣長度內微缺陷數NP 180N 400P 216N 80P 33N 16P 4N < 3·46·光 學 儀 器第 24 卷(3) 標題欄元件的名稱;類型;參考編號;部件編號;其它等等圖 6給出一個具體的透鏡元件的例子,

38、即作為上述內容一個綜合。圖 6 透鏡元件圖紙中的內容與格式舉例表 16412關于非公差數據在 P a r t 11 中提出了圖紙中未指明公差時允許的偏差量及材料缺陷, 現摘錄如表 17。雖然在一些光學左表面材料技術說明右表面R 60, 43 CCe35保護性倒棱 0. 20. 4A R 207b3/2 ( 015)4/5/5×0116; L 2×0104; E 015B K 7ne11518 72±01001v e63196±018%0/101/5×01162/1; 2R 50117C ×e34保護性倒棱 0. 2 0. 43/3 (

39、 1)4/25/5×0116; L 2×0104; E 015待膠合的按 ISO 10110 說明透鏡 1241736·47·第 1 期徐德衍: 光學元件技術要求與檢驗國際標準的若干問題技術書 (手冊) 中也可能查到相關的數據, 但參考本表這些數據或許更合適些。表 17圖紙未給出技術情況下可允許的偏差值和材料缺陷5結束語(1) 鑒于國際上已推行按 ISO 10110 標準繪制圖紙和提出技術要求, 學習該標準有利于國內科技人員閱讀光學文獻, 資料, 查尋專利等。尤其美國N IF 光學工程圖紙自 1999 年以來全部采用 ISO 10110 技術規 范。 我國從事相應工程技術人員應引起足夠的重視。( 2) 我國與國際科技交往日益增多, 國內光學科技人員, 尤其到國外的科技人員都應該讀懂光學圖紙或能夠按 ISO 10110 規范確切讀懂和提出光學技術要求。(3) 來自國外的客商及光學產品訂單越來越多, 國內光學技