1、-重大關(guān)鍵核心技術(shù)研發(fā)工程資金申請報(bào)告工程名稱 高端微納光刻裝備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化工程承當(dāng)單位 蘇州蘇大維格光電科技股份 工程負(fù)責(zé)人 陳林森 聯(lián)系826 工程主持部門 江蘇省開展和改革委員會(huì)申報(bào)日期 2021 年3月11日 江蘇省推進(jìn)戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)開展工作領(lǐng)導(dǎo)小組辦公室二一五年一月目錄一、工程的背景和必要性3一國內(nèi)外現(xiàn)狀：3二技術(shù)開展趨勢：5三擬解決的關(guān)鍵技術(shù)和問題：6四對(duì)產(chǎn)業(yè)開展的作用與影響：7五市場分析：8二、工程法人根本情況9三、工程的技術(shù)根底13一成果來源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況13二產(chǎn)學(xué)研合作情況15三已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限17四技術(shù)或工藝特點(diǎn)以及與現(xiàn)

2、有技術(shù)或工藝比擬所具有的優(yōu)勢22五重大關(guān)鍵技術(shù)突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步的重要意義和作用24四、工程建立方案26一建立的主要內(nèi)容、建立規(guī)模26二工藝技術(shù)路線與技術(shù)工藝特點(diǎn)27三設(shè)備選型及主要技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)28四產(chǎn)品市場預(yù)測30五建立地點(diǎn)、建立周期和進(jìn)度安排、建立期管理等32五、工程投資34一工程總投資規(guī)模、資金來源、投資使用方案34二資金籌措方案35六、工程財(cái)務(wù)分析、經(jīng)濟(jì)分析及主要指標(biāo)36一財(cái)務(wù)分析36二風(fēng)險(xiǎn)分析38三經(jīng)濟(jì)效益分析39四社會(huì)效益分析39八、資金申請報(bào)告附件41本工程符合?江蘇省“十二五培育和開展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)規(guī)劃?中產(chǎn)業(yè)開展重點(diǎn)：七高端裝備制造產(chǎn)業(yè) -智能制造裝備，同時(shí)也是二新材料產(chǎn)業(yè)中

3、的上游核心設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝流程中前端制程，具有關(guān)鍵支撐作用。一、工程的背景和必要性國內(nèi)外現(xiàn)狀和技術(shù)開展趨勢，擬解決的關(guān)鍵技術(shù)和問題，對(duì)產(chǎn)業(yè)開展的作用與影響，市場分析。一 國內(nèi)外現(xiàn)狀：高端微納光刻裝備是開展微納新材料、半導(dǎo)體、MEMS、生物芯片、精細(xì)電路、平板顯示、固態(tài)照明等領(lǐng)域技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品生產(chǎn)的必要設(shè)備。目前，一場新型柔性功能材料的革命性改變正在發(fā)生：超薄柔性材料的功能化，成為推動(dòng)行業(yè)開展的革命性力量，使得精細(xì)加工制造技術(shù)向微米-納米構(gòu)造和智能制造開展。隨著移動(dòng)互聯(lián)的高速開展，便攜、可穿戴光電子器件需要進(jìn)一步解決節(jié)能、低本錢問題。柔性電子制造領(lǐng)域國家方案與政府投入：美國FDCASU方案、在20

4、21年美國“總統(tǒng)報(bào)告中將柔性電子制造作為先進(jìn)制造11個(gè)優(yōu)先開展的尖端領(lǐng)域、2021年NASA制定柔性電子戰(zhàn)略、2021年成了柔性混合電子器件制造創(chuàng)新中心；歐盟第7研究框架、地平線方案的印刷技術(shù)在柔性塑料基底上進(jìn)展制備、英國“拋石機(jī)方案、建立英國的未來方案將塑料電子作為制造業(yè)主要開展領(lǐng)域；德國投資數(shù)十億歐元建立柔性顯示生產(chǎn)線；韓國?韓國綠色I(xiàn)T國家戰(zhàn)略?2021年投資720億美金開展AMOLED；日本TRADIM方案在2021年成立先進(jìn)印刷電子技術(shù)研發(fā)聯(lián)盟；我國電子信息制造業(yè)“十二五開展規(guī)劃，新型顯示器件、太陽能光伏等作為開展重點(diǎn)方向，國家自然科學(xué)基金12-5、13-5規(guī)劃中將柔性電子作為微納制

5、造重要研究領(lǐng)域。柔性光電功能材料具有數(shù)以千億計(jì)的潛在市場需求。在下一代裸眼3D顯示、大尺寸柔性觸控屏、OLED照明的納米襯底、可穿戴電子器件，具有微米級(jí)線寬-納米構(gòu)造，現(xiàn)有的光刻設(shè)備達(dá)不到這種精度加工的要求。微納光刻裝備是高端技術(shù)密集型微納產(chǎn)業(yè)中的核心設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝流程中前端制程。這些產(chǎn)業(yè)的開展，離不開微納光刻裝備。高端微納光刻設(shè)備，對(duì)于科學(xué)研究中的工藝試驗(yàn)研究、新品研發(fā)、產(chǎn)品生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)跨越開展都具有重大意義。目前高端微納光刻裝備領(lǐng)域的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化工作開展較好的公司在國外，如德國Heidelberg Instruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech、美國Applied Ma

6、terial，能夠?qū)κ袌鲂枨蠛驮O(shè)備研發(fā)制造形成良性的循環(huán)，另外，韓國、日本等一些研發(fā)型公司也在進(jìn)展該項(xiàng)工作的推進(jìn)。我國科研院所在微納光刻領(lǐng)域的研究，主要模式是采購國外科研型設(shè)備，進(jìn)展工藝和器件的開發(fā)，對(duì)高端裝備技術(shù)的研究開展較少。國內(nèi)產(chǎn)業(yè)環(huán)境的開展，產(chǎn)品創(chuàng)新對(duì)高端微納直寫光刻與加工裝備具有大量需求；與國外企業(yè)相比，在技術(shù)溝通、效勞響應(yīng)能力方面具有優(yōu)勢；國內(nèi)還缺乏“微納級(jí)別的高端智能激光直寫光刻裝備的研發(fā)與制造企業(yè)，蘇大維格公司通過國家863方案的重點(diǎn)工程的資助，掌握了微納直寫裝備的核心技術(shù)，擁有人才團(tuán)隊(duì)，依托于國家發(fā)改委批準(zhǔn)的“國家地方聯(lián)合工程研究中心，公司在高端微納智能裝備的研發(fā)具有，同時(shí)公

7、司也是創(chuàng)業(yè)板上市公司在產(chǎn)業(yè)化上也有優(yōu)勢。值得一提的是，本公司蘇大維格在國家863方案和江蘇省攀登方案支持下，在高端微納光刻設(shè)備的研發(fā)上卓有成效，積累了假設(shè)干光機(jī)電關(guān)鍵技術(shù)，激光智能SLM干預(yù)直寫儀器等設(shè)備填補(bǔ)行業(yè)空白，在100nm特征尺寸的直寫系統(tǒng)上，研發(fā)成功HoloScanV、HoloMakerIII和iGrapher200等系列化的儀器設(shè)備，具有行業(yè)領(lǐng)先水平，在國內(nèi)著名高等研究院所應(yīng)用，并出口日本、以色列等國。獲2021年國家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)，省科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)。二技術(shù)開展趨勢：微納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)作為先導(dǎo)性領(lǐng)域，對(duì)我國新興產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新開展中具有不可或缺的先導(dǎo)作用，高端微納光刻裝備是進(jìn)展微納技術(shù)的科學(xué)

8、研究、新器件、新功能材料的研發(fā)與應(yīng)用的核心儀器，具有關(guān)鍵支撐作用。舉例說明，“光電轉(zhuǎn)換效率提升是新型光電器件LED，太陽能、新型照明、低耗能材料研究的核心問題，除了材料自身的光電特性之外，微納構(gòu)造分布與高效制備是推進(jìn)高性能器件研制的重要方向，例如，在LED領(lǐng)域，納米圖形化技術(shù)是提升器件發(fā)光效率的重要途徑，目標(biāo)到達(dá)每瓦150流明以上，納圖形理論和實(shí)驗(yàn)研究是重點(diǎn)領(lǐng)域；薄膜太陽能電池的效率提升需納米陷光構(gòu)造襯底的制備；在平板立體顯示領(lǐng)域，納米線柵構(gòu)造、3D位相延遲片偏振片、濾光片是提升顯示光能利用率的重要研究方向；在光電子、微機(jī)電系統(tǒng)器件等科學(xué)研究領(lǐng)域，需要有高分辨、高效、3D曝光的多功能圖形化手段

9、和檢測儀器，尤其在大尺寸納米構(gòu)造器件的無損檢測是急需解決的重大問題；在國防領(lǐng)域，超大幅面光柵的研制，需要有更好的檢測儀器。在納米印刷研究和開發(fā)領(lǐng)域，高端圖形化與檢測是提供無油墨納米色彩圖像品質(zhì)的必由之路。因此，該類型的高端微納圖形化儀器設(shè)備的研制，可打破國外技術(shù)壟斷，具有重大戰(zhàn)略意義。微納圖形直寫與檢測儀器設(shè)備的研制，對(duì)于科學(xué)研究中的工藝試驗(yàn)研究、新品研發(fā)中的圖形快速制備與檢測，實(shí)現(xiàn)跨越開展具有重大意義。三擬解決的關(guān)鍵技術(shù)和問題：1. 紫外大視場平場成像光學(xué)系統(tǒng)研制：光學(xué)系統(tǒng)是微納光刻裝備的根底性關(guān)鍵部件，對(duì)裝備的總體性能具有重要影響。針對(duì)各種不同影響，設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)將做相應(yīng)的設(shè)計(jì)和研制。本公

10、司在紫外位相-空間混合調(diào)制的微納光學(xué)系統(tǒng)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，是高效微納米圖形光刻的有效解決手段。2. 自動(dòng)化多軸控制技術(shù)：基于可編程多軸控制器的自動(dòng)化控制技術(shù)，是精細(xì)光刻設(shè)備運(yùn)行的關(guān)鍵技術(shù)。通過編寫程序?qū)崿F(xiàn)設(shè)備光、機(jī)、電的協(xié)調(diào)運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)設(shè)備的預(yù)期功能。控制技術(shù)包含了同步曝光技術(shù)、數(shù)據(jù)分割和上載技術(shù)、圖像處理技術(shù)、高速多軸平臺(tái)閉環(huán)控制技術(shù)等。本公司在基于PMAC、ACS等的控制器的控制技術(shù)有了長期研發(fā)根底，研發(fā)了飛行曝光技術(shù)、Z-校正自動(dòng)聚焦技術(shù)、積分曝光技術(shù)等，為設(shè)備功能多樣化開發(fā)積累了經(jīng)歷。3. 微納數(shù)據(jù)處理技術(shù)：大幅面微納構(gòu)造圖形的數(shù)據(jù)是海量的，例如，以數(shù)據(jù)解析分辨率為0.25um計(jì)算，10

11、00mm×1000mm圖形的數(shù)據(jù)量將到達(dá)16TB。微納構(gòu)造數(shù)據(jù)，采用具有行業(yè)共性的GDSII、DXF、GERBER、CIF等格式。數(shù)據(jù)處理技術(shù)，流程是：數(shù)據(jù)格式轉(zhuǎn)換-數(shù)據(jù)圖形化-圖形數(shù)據(jù)切割和組合。光刻是數(shù)據(jù)分批分隊(duì)列上載到光刻設(shè)備，通過控制軟件將圖形光刻輸出。4. 工藝開發(fā)和優(yōu)化：針對(duì)具體應(yīng)用方向，需要對(duì)光刻工藝進(jìn)展探索和研究，通過測試和分析結(jié)果，對(duì)工藝的控制參數(shù)、部件參數(shù)進(jìn)展優(yōu)化，最終滿足應(yīng)用需求。四對(duì)產(chǎn)業(yè)開展的作用與影響：“十二五期間，國家和江蘇省鼓勵(lì)新興產(chǎn)業(yè)開展，江蘇省及蘇州地方將納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)作為主導(dǎo)開展產(chǎn)業(yè)，迫切需要研究并解決產(chǎn)業(yè)開展中缺乏上游微納制造技術(shù)的共性問題。202

12、1年，國家開展改革委深入貫徹落實(shí)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)戰(zhàn)略，以加快經(jīng)濟(jì)構(gòu)造戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型為主攻方向，以改革創(chuàng)新促開展，切實(shí)推動(dòng)高技術(shù)產(chǎn)業(yè)和戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)平穩(wěn)安康開展。其中的一個(gè)重點(diǎn)就是深入推進(jìn)新型平板顯示、高性能醫(yī)學(xué)診療設(shè)備等重大創(chuàng)新開展工程建立，擴(kuò)大節(jié)能環(huán)保、信息惠民、衛(wèi)星導(dǎo)航、智能制造等領(lǐng)域的示范應(yīng)用，重點(diǎn)突破深刻影響產(chǎn)業(yè)開展的關(guān)鍵核心技術(shù)，推動(dòng)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造升級(jí)，加快培育新的經(jīng)濟(jì)增長點(diǎn)。高端微納光刻裝備是上述領(lǐng)域上游所需的核心設(shè)備，具有關(guān)鍵支撐作用。中國版工業(yè)4.0規(guī)劃?中國制造業(yè)開展綱要(2021 2025)?即將于2021 年出臺(tái)。作為牽頭制定中國制造業(yè)2025規(guī)劃的部門，工信部已著手研究制定裝備制造領(lǐng)域

13、相關(guān)專項(xiàng)規(guī)劃，規(guī)劃重點(diǎn)實(shí)施領(lǐng)域?yàn)樾乱淮畔⒓夹g(shù)產(chǎn)業(yè)、生物醫(yī)藥與生物制造產(chǎn)業(yè)、高端裝備制造產(chǎn)業(yè)、新能源產(chǎn)業(yè)等四大產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。本工程突破大尺度幅面、納米構(gòu)造及納米精度、微納構(gòu)造器件與材料的低本錢制造關(guān)鍵技術(shù)，開發(fā)高端微納制造裝備，滿足提升產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力，促進(jìn)區(qū)域經(jīng)濟(jì)開展方面的需求，建立微納構(gòu)造器件功能設(shè)計(jì)、微納米柔性制造關(guān)鍵技術(shù)與裝備、材料應(yīng)用及加工檢測創(chuàng)新平臺(tái)。對(duì)區(qū)域納米技術(shù)創(chuàng)新體系的完善，對(duì)相關(guān)產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)、高技術(shù)企業(yè)孵化、高端人才培養(yǎng)與引進(jìn)具有重大作用。高端微納光刻裝備對(duì)多個(gè)產(chǎn)業(yè)的開展具有重要作用：1. 平板顯示和觸控屏：用于光掩模版制備、大幅面觸摸屏電路圖形化光刻，例如55寸的大尺寸電容觸控屏

14、電路制備等。2. TV超薄背光源BLU：平板電腦、液晶顯示器、電視機(jī)的超薄化趨勢，用于超薄導(dǎo)光板的熱壓模具制備例如70寸微透鏡金屬壓印模具。3. 高密度柔性電路、IC載板：10m以下線寬工藝，是下一代集成電路3D封裝必須的關(guān)鍵技術(shù)，目前需要0.25微米分辨率的高精度直寫光刻設(shè)備。4. MEMS芯片：MEMS芯片制備，需要解決厚膠圖形化光刻工藝。5. 公共平安：特殊微納構(gòu)造的視讀特征，是實(shí)現(xiàn)證卡平安、產(chǎn)品保護(hù)、金融平安等領(lǐng)域公共平安的有效手段。6. 科研、國家工程需求：微納加工技術(shù)，是諸多科研領(lǐng)域的共性技術(shù)，小型微納光刻設(shè)備，可用于高等院所的實(shí)驗(yàn)室，特殊定制的微納光刻裝備，可以效勞于國家重大工程

15、。五市場分析：柔性電子技術(shù)已經(jīng)并將開辟出許多創(chuàng)新的電子產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域，從而，帶來一場電子信息技術(shù)革命。據(jù)IDTechEx預(yù)測，2021年柔性電子的市場銷售額將高達(dá)49.3億美元，2021年為469.4億美元，2028年為3010億美元。柔性電子制造技術(shù)和裝備是穿戴式電子、新能源、高端顯示、物聯(lián)網(wǎng)和智能家居領(lǐng)域開展的關(guān)鍵技術(shù)，可提供原創(chuàng)性柔性電子器件、知識(shí)產(chǎn)權(quán)和關(guān)鍵技術(shù)，能為新興市場培育、高層次人才培養(yǎng)提供新機(jī)遇，效勞并推動(dòng)相關(guān)信息產(chǎn)業(yè)的跨越開展。二、工程法人根本情況工程法人的所有制、主營業(yè)務(wù)，近三年的銷售收入、利潤、稅收、固定資產(chǎn)、資產(chǎn)負(fù)債率、銀行信用等級(jí)、企業(yè)技術(shù)開發(fā)、經(jīng)營管理、資金籌集、市場

16、開拓等情況。企業(yè)名稱：蘇州蘇大維格光電科技股份企業(yè)性質(zhì)： 股份制企業(yè)，深交所創(chuàng)業(yè)板上市公司代碼：300331企業(yè)地址：蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)；資本：9300萬人民幣主營業(yè)務(wù)：激光光刻直寫系統(tǒng)與納米壓印裝備、LED納米圖形光刻設(shè)備、OGS掩膜和灰度光刻設(shè)備；光學(xué)鐳射膜：定制光學(xué)鐳射印材、防偽解決方案和材料；平板顯示照明：超薄導(dǎo)光板、大尺寸電容觸控屏非ITO；光掩模板。公司已于2021年6月在深交所創(chuàng)業(yè)板上市股票代碼：300331，銀行信用等級(jí)：AA級(jí)近三年財(cái)務(wù)情況： 萬元年度銷售收入利潤稅收固定資產(chǎn)資產(chǎn)負(fù)債率202121871.82459.281871.355030.3319.16%20212

17、4572.321936.681084.9412388.616.83%202127661.863012.932021.4614087.2417.50%公司建有國家級(jí)研究平臺(tái)“數(shù)碼激光成像與顯示國家地方聯(lián)合工程研究中心國家發(fā)改委批準(zhǔn)，2021年，設(shè)有“江蘇省微納柔性制造工程技術(shù)研究中心2021年，省政府批準(zhǔn)，擁有6000平米用于工程研究和產(chǎn)品中試的實(shí)驗(yàn)室。圖1 公司場地具有面向新型顯示、照明和成像領(lǐng)域的微納制造工程研發(fā)與檢測條件。設(shè)有四個(gè)研發(fā)方向：先進(jìn)光學(xué)顯示器件、微納制造技術(shù)與裝備、柔性材料與器件和納米印刷技術(shù)。公司建有江蘇省院士工作站和全國博士后工作站。圖2 國家工程中心和院士工作站公司擁有國

18、際一流創(chuàng)的新團(tuán)隊(duì)，江蘇省科技創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)。重大成果獲得：國家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng)2021年度、江蘇省科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)2021年度，2007年度、第十二屆、十四屆“中國優(yōu)秀專利獎(jiǎng)2021年，2021年、第七屆江蘇省專利金獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)。為此，公司榮獲首屆江蘇省企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)全省19家企業(yè)。圖3 重大科技獲獎(jiǎng)公司擁有授權(quán)創(chuàng)造專利49項(xiàng)，其中與本工程相關(guān)自主研發(fā)設(shè)備和技術(shù)已獲得創(chuàng)造專利16項(xiàng)。公司建立了以市場為導(dǎo)向、自主創(chuàng)新為推動(dòng)力的經(jīng)營管理制度，從產(chǎn)品設(shè)計(jì)、品質(zhì)管理、客戶溝通與效勞、到產(chǎn)品質(zhì)量體系認(rèn)證、新品導(dǎo)入與跟蹤，有完整的管理制度，力圖與國際體系接軌。形成了一個(gè)研發(fā)、設(shè)計(jì)、裝備改良、制程提升、各戶認(rèn)證的快速

19、反響能力。對(duì)于新品導(dǎo)入工程，成立工程領(lǐng)導(dǎo)小組，以董事長為負(fù)責(zé)人，總經(jīng)理執(zhí)行人的工程領(lǐng)導(dǎo)組，協(xié)調(diào)與處理工程研發(fā)、市場實(shí)施過程中的各種問題。業(yè)內(nèi)第一個(gè)研發(fā)成功并批量化14寸0.5mm厚度LED超薄導(dǎo)光板卷對(duì)卷產(chǎn)線，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用； · 創(chuàng)造并實(shí)現(xiàn)消色差光學(xué)膜的高效光刻方法； · 創(chuàng)造了“寬幅衍射光變圖像高速光刻方法與設(shè)備：解決了微納構(gòu)造工業(yè)化制備的行業(yè)難題； · 率先建立了“微納柔性制造生產(chǎn)線，從“微納構(gòu)造設(shè)計(jì)、材料特性研究、重大裝備研發(fā)和成果產(chǎn)業(yè)化工藝鏈； · 第一個(gè)研制成功“3D光變圖像全息制版系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了全息圖像的微納構(gòu)造表達(dá)，并推進(jìn)了立體圖像的工業(yè)化應(yīng)用

20、； · 創(chuàng)造“定位激光轉(zhuǎn)移紙張印刷第一色概念，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化； · 第一個(gè)研發(fā)成功數(shù)字化“數(shù)碼激光全息制版系統(tǒng)，國內(nèi)外廣泛使用； · 提出并實(shí)現(xiàn)了導(dǎo)模共振納米光子晶體變色薄膜。三、工程的技術(shù)根底成果來源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況，產(chǎn)學(xué)研合作情況，已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限，技術(shù)或工藝特點(diǎn)以及與現(xiàn)有技術(shù)或工藝比擬所具有的優(yōu)勢，該項(xiàng)技術(shù)的突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步的重要意義和作用。一成果來源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況核心技術(shù)來源于蘇大維格公司的技術(shù)積累和產(chǎn)學(xué)研合作，公司在高精度激光微納米直寫和加工技術(shù)方面開展了長期研發(fā)創(chuàng)新，主要包括微光學(xué)元器件開發(fā)、納米精度光機(jī)構(gòu)造研發(fā)、4-6軸

21、運(yùn)動(dòng)控制技術(shù)、CCD影像檢測處理技術(shù)、海量圖形數(shù)據(jù)處理和傳輸技術(shù)等，為本工程開發(fā)積累了大量核心和關(guān)鍵技術(shù)。依托單位是本行業(yè)內(nèi)惟一建有國家工程研究中心“數(shù)碼激光成像與顯示國家地方聯(lián)合工程研究中心國家發(fā)改委批準(zhǔn)，2021年，說明了行業(yè)領(lǐng)先地位。目前，我國唯一具有大面積微納金屬模具制備能力、能夠?qū)崿F(xiàn)大尺寸納米尺度圖形掩模、配套納米壓印全制程、擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，目前支持42尺寸微納透明導(dǎo)電材料。依托單位在微納制造裝備的應(yīng)用根底研究、技術(shù)創(chuàng)新、材料研發(fā)和高端裝備研制方面，形成了完整的創(chuàng)新鏈，并已在多個(gè)產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)規(guī)模應(yīng)用。本工程經(jīng)過國家重大863專項(xiàng)的支持，已經(jīng)完成了技術(shù)攻關(guān)，即將進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化階段。在激光直寫

22、和加工技術(shù)領(lǐng)域，獲得創(chuàng)造專利授權(quán)16項(xiàng)：專利名稱專利號(hào)光學(xué)加工系統(tǒng)和方法ZL 202110114482.4光學(xué)加工系統(tǒng)和方法ZL 202110076397.3光學(xué)加工系統(tǒng)和方法ZL 202110076272.0一種步進(jìn)式光學(xué)加工系統(tǒng)和加工方法ZL 202110323729.9一種透明導(dǎo)電膜及其制作方法ZL 202110533228.9一種光刻裝置和光刻方法ZL 202110503788.X一種金屬母板的制作方法ZL 202110287422.3一種導(dǎo)光膜制作裝置ZL 202110224529.3一種卷對(duì)卷紫外納米壓印裝置及方法ZL 202110224532.5并行光刻直寫系統(tǒng)ZL 202110

23、170978.4用于紫外激光干預(yù)光刻直寫系統(tǒng)的光學(xué)鏡頭ZL 202110028297.1多視角圖形輸入的三維圖形直寫方法ZL 202110028296.7一種彩色濾光片的制作方法與裝置ZL 202110123711.2一種精細(xì)數(shù)字化微納米壓印的方法ZL 200710132387.6對(duì)光滑外表進(jìn)展微米構(gòu)造光刻蝕的方法及裝置ZL 200610037797.8衍射光變圖像的高速激光直寫方法和系統(tǒng)ZL 200510095775.2受理創(chuàng)造專利17項(xiàng)。專利名稱申請?zhí)栆环N導(dǎo)光膜制作裝置PCT/CN2021/079736APPARATUS FOR MANUFACTURING LIGHT GUIDE FILM

24、US13583290一種紫外固化微納米構(gòu)造拼版裝置及拼版工藝202110152954.X三維激光打印方法與系統(tǒng)202110166341.1分束器件、多光束干預(yù)光路系統(tǒng)202110234223.X納米圖形化襯底制備裝置與方法202110236124.5一種標(biāo)簽簽注方法與系統(tǒng)202110291009.8連續(xù)可調(diào)構(gòu)造光照明的超分辨顯微成像方法與系統(tǒng)PCT/CN2021/087883超薄觸控傳感器及其制作方法202110037667.9一種三維碼及其制作方法202110042021.5一種激光直寫系統(tǒng)與光刻方法202110042111.9一種變色燙印膜及其制造方法202110062088.X掩膜版及其

25、制備方法和圖形化方法202110224727.8彩色動(dòng)態(tài)圖的激光打印裝置及方法202110448548.2一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法202110621284.6一種多視角像素指向型背光模組及裸眼3D顯示裝置202110852242.3基于大面積多臺(tái)階二元光學(xué)元件的激光直寫方法2021 10012577.9軟件著作權(quán)4項(xiàng)：登記號(hào)軟件名稱2021SR037129基于DXF的并行激光直寫加工圖形處理軟件V1.02021SR037127基于DirectX的空間光調(diào)制器圖形發(fā)生軟件V1.02021SR041635蘇大維格頻閃曝光直寫系統(tǒng)2021 SR017923HoloMakerIIIC Syste

26、mV1.0獲獎(jiǎng)清單如下：工程名稱獎(jiǎng)勵(lì)名稱獲批時(shí)間大幅面微納圖形制造技術(shù)及產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用國家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)2021.12卷對(duì)卷納米壓印關(guān)鍵技術(shù)及應(yīng)用江蘇省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步一等獎(jiǎng)2021.2面向微納柔性制造的創(chuàng)新工程江蘇省企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)2021.2衍射光變圖像高速制作方法與系統(tǒng)中國專利優(yōu)秀獎(jiǎng)2021.11微光變圖像的激光直寫方法及裝置中國專利優(yōu)秀獎(jiǎng)2021.11寬幅智能激光SLM光刻系統(tǒng)與應(yīng)用江蘇省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步一等獎(jiǎng)2021.5亞波長光學(xué)制造技術(shù)研究與應(yīng)用教育部科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng)2021.1一種消色差變色銀衍射圖像的制作方法江蘇省專利金獎(jiǎng)2021.12微構(gòu)造制造的高效光刻技術(shù)與應(yīng)用教育部技術(shù)創(chuàng)造二等獎(jiǎng)20

27、21.1二產(chǎn)學(xué)研合作情況“十二五期間，在國家高技術(shù)研究863方案方案重大工程、國家自然基金重點(diǎn)工程的資助下，蘇州蘇大維格光電科技股份與相關(guān)業(yè)內(nèi)企業(yè)和高校協(xié)同合作，攻克了“微納柔性制造工藝裝備、“3D成像納米印刷技術(shù)、“彩色全息顯示的根底問題方面關(guān)鍵根底問題和技術(shù)難題，取得國內(nèi)外矚目的重大成果，引起國內(nèi)外同行的高度關(guān)注。第一，前瞻性重大技術(shù)創(chuàng)新取得突破。從原理上，現(xiàn)有的技術(shù)手段如金剛石加工僅能加工柱光柵膜的模具不能加工全息原理的裸眼3D顯示，必須突破納米加工技術(shù)瓶頸。蘇大維格在高端微納裝備及關(guān)鍵技術(shù)方面取得重大研究進(jìn)展，在國際上率先實(shí)現(xiàn)“四獨(dú)立變量微納構(gòu)造快速制造、“大幅面微納混合光刻等新技術(shù)方

28、法，研發(fā)成功“納米級(jí)制造設(shè)備，使得中國在“大幅面微納構(gòu)造制造方面擁有了自主高端裝備。先后獲國家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)2021、江蘇省科技一等獎(jiǎng)2021和中國專利獎(jiǎng)2021。因此，在納米加工設(shè)施、知識(shí)產(chǎn)權(quán)方面，為本項(xiàng)建議任務(wù)提供關(guān)鍵手段支撐。第二，需求牽引的組織模式創(chuàng)新。通過運(yùn)行機(jī)制的創(chuàng)新，納米技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用，形成上下游的創(chuàng)新鏈，協(xié)同產(chǎn)業(yè)和高校共同推進(jìn)在納米印刷3D圖像印刷、柔性電子微構(gòu)造透明導(dǎo)電膜、平板顯示超薄導(dǎo)光板的產(chǎn)業(yè)應(yīng)用，并取得重大進(jìn)展，培育了1家上市公司2021年上市和5家國家高新技術(shù)企業(yè)。從根底環(huán)節(jié)創(chuàng)新、整個(gè)過程的技術(shù)工藝創(chuàng)新，直至推進(jìn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用，探索了產(chǎn)業(yè)鏈創(chuàng)新的成功路徑，為取得顛

29、覆性重大目標(biāo)產(chǎn)品提供了組織上經(jīng)歷。第三，以重大任務(wù)目標(biāo)產(chǎn)品為目標(biāo)的創(chuàng)新能力建立。蘇大維格公司組建了“國家地方聯(lián)合工程研究中心數(shù)碼激光成像顯示國家發(fā)改委2021年批準(zhǔn)，6000平米研發(fā)場所，1萬平米中試平臺(tái)。在重大目標(biāo)產(chǎn)品的取得突破，得到同行專家、領(lǐng)導(dǎo)和市場高度評(píng)價(jià)。華為科技、京東方科技、龍騰光電、蘇大維格光電等一批企業(yè)具備合作推進(jìn)裸眼3D顯示關(guān)鍵技術(shù)和部件研制的根底能力。 為今后以重大任務(wù)位目標(biāo)的組織實(shí)施，提供了更好的創(chuàng)新平臺(tái)和產(chǎn)業(yè)合作根底。第四、培養(yǎng)一支敢于承當(dāng)風(fēng)險(xiǎn)和奉獻(xiàn)、能承當(dāng)重大任務(wù)的團(tuán)隊(duì)。通過協(xié)同合作和體制機(jī)制改革，培養(yǎng)了一支高素質(zhì)的團(tuán)隊(duì)，團(tuán)隊(duì)成員以中青年成員為主，包括國家863方案重

30、大工程首席專家，千人方案人才、海外特聘教授和國內(nèi)出色年輕人才構(gòu)成的充滿活力創(chuàng)新與創(chuàng)新混合的團(tuán)隊(duì)。在 “裸眼3D顯示的根底問題，“納米構(gòu)造3D成像原理、“納米導(dǎo)光板研究方面做了大量工作，敢于突破和自主創(chuàng)新。三已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限1、根據(jù)不同的行業(yè)應(yīng)用需求和加工的尺度不同，已完成四種類型樣機(jī)的研發(fā)：1、高速激光圖形直寫光刻裝備應(yīng)用樣機(jī)：iGrapher系列iGrapher專門用于精細(xì)電路、光掩模光罩MASK、微納構(gòu)造無掩模光刻的“高端激光直寫設(shè)備(UV laser pattern generator)。幅面：8英寸-65英寸，應(yīng)用90nm-130nm節(jié)點(diǎn)0.22um-0.5um

31、光學(xué)分辨率柔性電路和光掩膜板制備。iGrapher突破了一系列關(guān)鍵難題技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了上述大幅面微圖形高速直寫功能，對(duì)光掩模文件、集成電路文件全兼容。iGrapher采用高速空間光調(diào)制器spatial light modulation，陣列圖形輸入模式可達(dá)8k幀，3D導(dǎo)航飛行曝光3D navigation flying exposure、納秒時(shí)序平鋪曝光parallelism、 nano-second patterning技術(shù)，專用于光掩模、柔性電子的微圖形線寬1um-10um、LIGA工藝、微納模具的高效光刻。2、多功能微圖形光刻設(shè)備工程樣機(jī)：MicrolabMicroLab100是一款適應(yīng)微構(gòu)

32、造圖形光刻的名副其實(shí)的小型微加工實(shí)驗(yàn)室，系統(tǒng)操作方便在微納構(gòu)造功能器件、生物與微納界面作用微流控、基因芯片、探針和光電子、微光學(xué)等研究中，MicroLab 是一種理想的、高性價(jià)比的微加工手段。尤其適合于小尺寸精細(xì)掩膜、CGH、微光學(xué)器件、光束整形、MEMS、衍射與折射光學(xué)陣列的研制。MicroLab100支持灰度光刻grayscale lithography，拖曳曝光形狀光闌積分曝光laser dragging，圖形化parallel patterning，3D形貌等高級(jí)加工，比方，閃耀槽型、微透鏡陣列、多臺(tái)階圖形、點(diǎn)陣圖形等，支持薄膠和厚膠工藝。支持DXF，GDSII，位圖文件。只

33、要有根本計(jì)算機(jī)背景和圖像知識(shí)，適當(dāng)培訓(xùn)后，就可以上機(jī)操作。支持24小時(shí)不連續(xù)運(yùn)行，運(yùn)行本錢低，占地4平方米，根本免維護(hù)。適合于科學(xué)研究、研究生培養(yǎng)之用途。3、大幅面微納金屬模具激光加工設(shè)備工程樣機(jī)：iEngraver大幅面激光精細(xì)微加工設(shè)備，用于超薄TV背光源金屬模具制備。可實(shí)現(xiàn)幅面1570寸。大尺寸精細(xì)導(dǎo)光板的模具光學(xué)性能為業(yè)內(nèi)做好水平，精細(xì)模具加工設(shè)備與工藝成熟度得到充分驗(yàn)證，加工的超薄導(dǎo)光板的光學(xué)效率、導(dǎo)光均齊度為業(yè)內(nèi)最高水準(zhǔn)。性能參數(shù)：最小微構(gòu)造尺寸15um激光光源：30kHz10W機(jī)臺(tái)：花崗石機(jī)臺(tái)光學(xué)頭單次掃描面積：10mmx10mm - 15mmx15mm加工速率：4-10小時(shí)不同

34、模具尺寸和光學(xué)網(wǎng)點(diǎn)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)：直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)定位精度：0.1um行程：根據(jù)型號(hào)確定軟件：光學(xué)設(shè)計(jì)文檔格式，或*.DXF；*.ARR配套：整套網(wǎng)點(diǎn)設(shè)計(jì)和處理工藝4、激光動(dòng)態(tài)圖形簽注系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了不需要位移和旋轉(zhuǎn)的3D動(dòng)態(tài)圖形的實(shí)時(shí)簽注方法和關(guān)鍵技術(shù)。采用曲面擴(kuò)散片實(shí)現(xiàn)3D動(dòng)態(tài)圖像簽注的景深變化，實(shí)現(xiàn)簽注的動(dòng)態(tài)聚焦，同時(shí)設(shè)計(jì)不同棱角位置與棱角鍥角，通過軟件控制記錄圖形的位置，分別對(duì)應(yīng)在相應(yīng)鍥形棱鏡位置，一次性簽注將能獲得不同再現(xiàn)視角的角度與方向的效果。簽注效率高，適合工程化應(yīng)用。能夠同時(shí)滿足變景深、多視角簽注的要求，提高了簽注圖形技術(shù)門檻。圖形簽注僅需5秒至10秒，能滿足激光簽注的工程化應(yīng)用。在工業(yè)化應(yīng)用

35、方面，可應(yīng)用在銀行卡、護(hù)照、等證卡的個(gè)性化序列號(hào)和動(dòng)態(tài)圖形的簽注，號(hào)牌激光平安防偽簽注，食品平安三維碼溯源簽注技術(shù)等公共平安領(lǐng)域上。2、完成場地建立：2000平方米場地。1、機(jī)械部件裝配間2、電氣部件裝配間3、總裝調(diào)試間4、部件、材料、成品倉庫5、員工培訓(xùn)室6、生產(chǎn)調(diào)度室鑒定年限：本工程的鑒定年限為2021年3 月。四技術(shù)或工藝特點(diǎn)以及與現(xiàn)有技術(shù)或工藝比擬所具有的優(yōu)勢技術(shù)特點(diǎn)：1攻克了空間-位相調(diào)制的圖形化技術(shù)，微米-納米混合光場調(diào)制，從而能實(shí)現(xiàn)l/4構(gòu)造分辨率的國際領(lǐng)先水平在355波長下，實(shí)現(xiàn)100nm構(gòu)造；2納秒時(shí)序3D導(dǎo)航飛行曝光，實(shí)現(xiàn)大面積微納米構(gòu)造的快速光刻，定位精度到達(dá)±

36、20nm；3海量數(shù)據(jù)處理和直寫軟件與硬件技術(shù)；支持40TB的數(shù)據(jù)處理。44-6軸的納米精度控制技術(shù)；5微納功能材料加工的工藝：力圖在國際上率先實(shí)現(xiàn)3D納米印刷技術(shù)，為柔性材料功能化提供關(guān)鍵技術(shù)手段。在應(yīng)用工藝上，重點(diǎn)攻克在顯示、新型照明和觸控傳感材料低本錢制造技術(shù)，推進(jìn)展業(yè)合作和潛在重大應(yīng)用，與相關(guān)產(chǎn)業(yè)例如華為共同研發(fā)攻關(guān)“微納米構(gòu)造手機(jī)功能光刻工藝研究。技術(shù)先進(jìn)性優(yōu)勢：1、微納直寫光刻與加工設(shè)備，綜合了微納光學(xué)、精細(xì)機(jī)械、數(shù)控電氣、納米精度控制，利用計(jì)算機(jī)或工作站進(jìn)展4-5軸的光機(jī)電聯(lián)合控制，高端技術(shù)的集成度高，設(shè)備自動(dòng)化化運(yùn)行，屬于高端智能裝備。2、該類加工裝備，加工宏觀尺寸到達(dá)米級(jí)，微構(gòu)

37、造的尺寸到達(dá)亞微米級(jí)，部件運(yùn)行精度、數(shù)據(jù)分辨率定義，均需到達(dá)100納米以下級(jí)別，實(shí)現(xiàn)大幅面、微構(gòu)造、高精度特征的統(tǒng)一。3、海量數(shù)據(jù)：以0.1微米分辨率電路為例，200mmx200mm的電路的數(shù)據(jù)量為4.0TB, 一幅600mmX1000mm電路數(shù)據(jù)達(dá)60Tb,因此，這種精細(xì)電路圖形的海量處理技術(shù)和軟件、數(shù)據(jù)傳輸與壓縮、光電轉(zhuǎn)換和光刻模式等，具有極高難度。4、微納直寫光刻與加工設(shè)備，是多行業(yè)生產(chǎn)工藝流程中的關(guān)鍵核心裝備，用于提供光掩模板、微米線寬電路制備與模板、或進(jìn)展直接圖形構(gòu)造加工，比方超薄導(dǎo)光板模具，是微納功能材料裸眼3D顯示、柔性電路、觸控、器件背光源等等行業(yè)不可缺少的工具。工藝優(yōu)勢：本工

38、程申請單位，長期從事微納制造領(lǐng)域的研發(fā)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化，尤其在超精細(xì)大幅面光刻直寫等裝備制造方面具有10余年的工藝積累，公司是我國唯一具有整套微納米柔性制造產(chǎn)線的企業(yè)，具有國際領(lǐng)先水平。國內(nèi)外同行和專家參觀后給予充分贊賞和肯定，為此，公司曾承當(dāng)了國家863方案和電子開展基金等工程，并圓滿完成。在微納精細(xì)制造領(lǐng)域，工程申請單位無疑在國內(nèi)同行中具有領(lǐng)先地位，并在國外同行中具有影響。工藝設(shè)備上：申請單位是我國唯一的具有獨(dú)立研制“高端激光直寫光刻與納米壓印設(shè)備企業(yè)，厚膠曝光設(shè)備800mmx1300mm，擁有自主研發(fā)的“大型紫外激光直寫設(shè)備iGrapher820-1500，1100mmx1300mm，支持5

39、.5代線光掩模板的制備，在光刻分辨率、CD和綜合寫入速率等，具有國際同行的先進(jìn)水準(zhǔn)。圖4 高端裝備實(shí)驗(yàn)場地國內(nèi)產(chǎn)業(yè)環(huán)境的開展，對(duì)高端微納裝備具有大量的需求；與國外企業(yè)相比，在技術(shù)溝通、效勞響應(yīng)能力方面具有優(yōu)勢；國內(nèi)還缺乏微納裝備企業(yè)，維格公司掌握了核心技術(shù)，擁有人才團(tuán)隊(duì)，依托于“國家地方聯(lián)合工程研究中心，維格公司具有高端裝備產(chǎn)業(yè)化的優(yōu)勢。圖5 國家地方聯(lián)合工程中心配套生產(chǎn)條件五重大關(guān)鍵技術(shù)突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步的重要意義和作用我國的信息顯示、光電子等行業(yè)已有很大的產(chǎn)業(yè)根底，江蘇省納米產(chǎn)業(yè)在全國具有優(yōu)勢地位。“十二五期間，江蘇省大力開展戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)，重點(diǎn)開展新能源、新材料、高端制造、生物技術(shù)和新醫(yī)藥

40、、節(jié)能環(huán)保和新一代信息技術(shù)等六大新興產(chǎn)業(yè)。在這些產(chǎn)業(yè)中，新型顯示、固體照明、納米印刷與柔性光電子等是國家中長期科技開展規(guī)劃、江蘇省科技規(guī)劃中的重點(diǎn)開展領(lǐng)域，與“柔性微納材料與制造技術(shù)嚴(yán)密相關(guān)。蘇州工業(yè)園區(qū)布局了國際科技園、蘇州納米城等載體，提供了孵化等系列效勞，是蘇州納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)化基地。蘇州納米城將占地約100公頃，規(guī)劃建筑面積約130萬平方米，于2021年11月啟動(dòng)建立，重點(diǎn)開展納米新材料、納米光電子、微納制造、納米生物醫(yī)藥和納米環(huán)保等五大產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域，以構(gòu)建產(chǎn)業(yè)生態(tài)圈。蘇大維格在高端微納裝備上的自主研發(fā)能力，無疑提高了自身的競爭優(yōu)勢和可持續(xù)開展性，根本不依賴于國外的設(shè)備限制。為此，國家、省部相

41、關(guān)領(lǐng)導(dǎo)和業(yè)內(nèi)專家屢次視察和調(diào)研本工程申請單位的高端裝備和平板顯示關(guān)鍵器件的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化進(jìn)展和做法。國家發(fā)改委副主任朱之鑫、工信部副部長蘇波、科技部副部長曹健林等重要領(lǐng)導(dǎo)視察后，均給予充分肯定和鼓勵(lì)。 國家發(fā)改委的祁司長等領(lǐng)導(dǎo)視察，對(duì)申請單位在高端微納光刻設(shè)備和平板顯示領(lǐng)域研發(fā)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化給予肯定。工信部蘇波部長考察蘇大維格人大副委員長視察蘇大維格并題詞 科技部曹健林副部長視察維格公司圖6 領(lǐng)導(dǎo)肯定四、工程建立方案工程建立的主要內(nèi)容、建立規(guī)模、采用的工藝路線與技術(shù)特點(diǎn)、設(shè)備選型及主要技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)、產(chǎn)品市場預(yù)測、建立地點(diǎn)、建立周期和進(jìn)度安排、建立期管理等。一建立的主要內(nèi)容、建立規(guī)模面向平板顯示和大

42、尺寸電容觸控屏、精細(xì)柔性電路、精細(xì)PCB及封裝、MEMS、公共平安、科研等不同行業(yè)應(yīng)用，用3年時(shí)間建立達(dá)產(chǎn)業(yè)化階段，開發(fā)出相對(duì)應(yīng)的、具有國際先進(jìn)水平及滿足工廠產(chǎn)業(yè)需求的微納加工裝備，完成四種型號(hào)設(shè)備的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化：1、大幅面掩模版制版光刻設(shè)備：大型紫外高速圖形化直寫設(shè)備，用于55英寸以上平板顯示、大尺寸電容觸控屏生產(chǎn)用掩模版制備。主要技術(shù)指標(biāo)：典型線寬2um，圖形化光刻速度4000mm2/min。 2、MEMS、封裝光刻機(jī)：中小型紫外圖形化直寫設(shè)備，用于6-8英寸MEMS、封裝等工藝制程，可適用于厚膠工藝。可用于科研院所的器件工藝研究和小批量制備。主要技術(shù)指標(biāo)：典型線寬1um，精細(xì)圖

43、形的光刻速度500mm2/min，可適用厚膠光刻工藝大于10um。 3、精細(xì)柔性電路、PCB無掩模光刻機(jī)：高速無掩模曝光機(jī)，用于下一代10um以下精細(xì)電路生產(chǎn)。主要技術(shù)指標(biāo)：最小線寬5um，光刻速度大于20000mm2/min。 4、背光模具光刻機(jī)：大幅面激光精細(xì)微加工設(shè)備，用于超薄TV背光源金屬模具制備。主要技術(shù)指標(biāo)：導(dǎo)光構(gòu)造最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。 建立期內(nèi)新增場地建立2000平米，累計(jì)完成銷售1.25億元，利潤1664萬元，稅收1165萬元。工程建立完成后，形成年銷售規(guī)模大于1億元的高端微納光刻直寫裝備制造和銷售能力，同時(shí)帶動(dòng)下游相關(guān)應(yīng)用行業(yè)

44、，產(chǎn)生10億左右的經(jīng)濟(jì)效益。基于公司在高端智能裝備研發(fā)和應(yīng)用的技術(shù)積累，整合資源，合理利用自有和外部資金、人才資源，建立高端成套微納光刻裝備的研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化、銷售、效勞條件，面向國際市場，擴(kuò)大面向多領(lǐng)域的產(chǎn)品線，建立國際一流的綜合性微納裝備公司，與德國Heidelberg Instruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech等進(jìn)展市場競爭，成為國際微納裝備領(lǐng)域的重要供給商。二工藝技術(shù)路線與技術(shù)工藝特點(diǎn)1、設(shè)備制造工藝路線：總體方案設(shè)計(jì)光、機(jī)、電分解設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)綜合評(píng)審圖紙加工采購設(shè)備組裝編程調(diào)試測試檢驗(yàn)交付。2、技術(shù)工藝特點(diǎn)：1） 技術(shù)和知識(shí)密集型工藝。2） 無化學(xué)試劑、無排放、無污

45、染。3） 低能耗。4） 場地占用面積小。三設(shè)備選型及主要技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)1、檢測設(shè)備選型1共焦顯微鏡：型號(hào)：奧林巴斯OLS4100主要技術(shù)指標(biāo)：最高橫向分辨率0.12m、縱向分辨率1nm。2激光干預(yù)儀型號(hào)：雷尼紹XL-80主要技術(shù)指標(biāo)：線性測量精度±0.5ppm、分辨率1nm。3激光功率計(jì)型號(hào)：Vega+3A/30A主要技術(shù)指標(biāo)：10uw-3w/20mw-30w4自動(dòng)圖形檢測儀型號(hào)：LI712主要技術(shù)指標(biāo)：檢測分辨率0.5m；檢測速度0.19 sec/ cm2。5掃描電鏡型號(hào)：Sigma/VP主要技術(shù)指標(biāo)：分辨率1.3nm 20KV、1.5nm 15KV、 2.8nm 1KV。2、技術(shù)經(jīng)

46、濟(jì)指標(biāo)還是要補(bǔ)充一下技術(shù)指標(biāo)：1技術(shù)指標(biāo)：1、大幅面掩模版制版光刻設(shè)備：主要技術(shù)指標(biāo)：典型線寬2um，圖形化光刻速度4000mm2/min。 2、MEMS、封裝光刻機(jī)：主要技術(shù)指標(biāo)：典型線寬1um，精細(xì)圖形的光刻速度500mm2/min，可適用厚膠光刻工藝大于10um。 3、精細(xì)柔性電路、PCB無掩模光刻機(jī)：主要技術(shù)指標(biāo)：最小線寬5um，光刻速度大于20000mm2/min。 4、背光模具光刻機(jī)：主要技術(shù)指標(biāo)：導(dǎo)光構(gòu)造最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。(2)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)工程面向不同行業(yè)市場需求，完成四種型號(hào)的高端微納制造裝備的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，執(zhí)行期內(nèi)累計(jì)完成銷售額

47、1.25億元，凈利潤1,665萬元，稅收1165萬元。四產(chǎn)品市場預(yù)測國內(nèi)市場：1高校科研院所和研究構(gòu)造，各大測試加工平臺(tái)。目前已經(jīng)成功推廣的代表性客戶有哈工大、南開大學(xué)、蘇州大學(xué)、中科院納米所、上海通用識(shí)別研究所等。而近年來，隨著各大高校和研究機(jī)構(gòu)對(duì)微納學(xué)科加大投入，本工程將有更大的應(yīng)用市場替代國外進(jìn)口設(shè)備。2企業(yè)：由于目前國內(nèi)的企業(yè)升級(jí)轉(zhuǎn)型自身的開展需求，也在研發(fā)與測試儀器上加大了投入，同時(shí)，企業(yè)端的客戶認(rèn)證需要，對(duì)產(chǎn)品本身的測試要求提升。例如，在平板顯示行業(yè)，需要對(duì)各類材料的外表構(gòu)造形貌的參數(shù)進(jìn)展測量，在微加工行業(yè)，需要對(duì)加工的微構(gòu)造的尺寸進(jìn)展標(biāo)定。據(jù)預(yù)測，僅國內(nèi)就有數(shù)百臺(tái)的市場需求。為此

48、，本工程會(huì)根據(jù)客戶對(duì)儀器設(shè)備的具體要求，開發(fā)不同類型的儀器。確保能夠滿足行業(yè)應(yīng)用需求，替代進(jìn)口。國外市場：由于前期本公司已經(jīng)開展了儀器設(shè)備產(chǎn)品開發(fā)工作，通過市場的反響可以看出，由于各國都將微納制造作為重點(diǎn)開展的領(lǐng)域，國外很多高校、企業(yè)都對(duì)本公司現(xiàn)有的納米圖形化儀器表現(xiàn)出高度關(guān)注。目前，現(xiàn)有的儀器設(shè)備已經(jīng)出口日本、韓國、以色列的企業(yè)，作為研究工具。由于本公司在這方面領(lǐng)先的技術(shù)根底以及有力的價(jià)格競爭優(yōu)勢，國外市場也將作為今后本工程的目標(biāo)市場。工程目標(biāo)產(chǎn)品采取局部型號(hào)市場推廣，局部型號(hào)提供給合作公司新興產(chǎn)業(yè)應(yīng)用方向進(jìn)展產(chǎn)品培育的模式。合作公司的光導(dǎo)膜、大尺寸電容觸摸屏等產(chǎn)品，當(dāng)前效勞的企業(yè)大于30家

49、。公司的技術(shù)積累和新品以及開發(fā)能力得到合作企業(yè)的好評(píng)和認(rèn)可，并與業(yè)內(nèi)一批企業(yè)形成長期嚴(yán)密合作關(guān)系。圖7 行業(yè)合作五建立地點(diǎn)、建立周期和進(jìn)度安排、建立期管理等1、建立地點(diǎn)：建立地點(diǎn)位于蘇州蘇大維格光電科技股份新廠區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)。公司在蘇州工業(yè)園區(qū)擁有110畝建立用地。目前，建有4.5萬平米廠房。其中，本工程前期投入已建立了2000平米廠房，擬增加面積2000平米凈化面積。其中，黃光凈化區(qū)1500平米、檢測面積500平米。圖8 工程已建立場地2、建立工期和進(jìn)度安排：工程完成期限：自工程下達(dá)之日起3年內(nèi)完成。進(jìn)度安排：第一年，完成4套工程樣機(jī)制造，二臺(tái)為紫外高速圖形直寫光刻設(shè)備，另二臺(tái)為

50、532nm綠光，大功率微納直接加工設(shè)備。以這些樣機(jī)作為實(shí)驗(yàn)平臺(tái)，用于設(shè)備應(yīng)用開發(fā)的性能測試與驗(yàn)證、產(chǎn)品市場展示與應(yīng)用，以及各個(gè)功能模塊的研發(fā)。建立高水平專業(yè)銷售團(tuán)隊(duì)，儲(chǔ)藏人才隊(duì)伍。公司現(xiàn)有微納光刻設(shè)備產(chǎn)品，本年度實(shí)現(xiàn)銷售2500萬元。第二年，持續(xù)開拓新市場，開發(fā)面向3-4個(gè)行業(yè)的微納光刻設(shè)備。建立完整的設(shè)備銷售、量產(chǎn)和效勞團(tuán)隊(duì)，實(shí)現(xiàn)設(shè)備在精細(xì)柔性電路、大尺寸液晶面板背光源等行業(yè)應(yīng)用，實(shí)現(xiàn)銷售大于4000萬元。第三年，開拓TFT掩模版、MEMS等行業(yè)，實(shí)現(xiàn)高端光刻設(shè)備的規(guī)模化量產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)銷售收入大約6000萬元。工程建立完成后，形成年銷售規(guī)模大于1億元的高端微納光刻直寫裝備制造和銷售能力，同時(shí)帶動(dòng)

51、下游相關(guān)應(yīng)用行業(yè)，產(chǎn)生10億左右的經(jīng)濟(jì)效益。3、建立期管理：公司已通過ISO 9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證和ISO 14001環(huán)境管理體系認(rèn)證。產(chǎn)品涉及大尺寸觸控屏、光掩模版、高端裝備、國家公共平安證卡和包裝印刷。公司地處中國-新加坡合作的蘇州工業(yè)園區(qū)科教創(chuàng)新區(qū)，因此，公司對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)與原材料環(huán)保極其關(guān)注，有嚴(yán)格的質(zhì)量保障和檢測體系，購置了先進(jìn)的檢測儀器，建有凈化車間和檢測分析實(shí)驗(yàn)室，在原料、生產(chǎn)制程與過程管控等各個(gè)環(huán)節(jié)均建立了環(huán)保控制程序。工程實(shí)施將嚴(yán)格按照質(zhì)量管理體系建立標(biāo)準(zhǔn)化工藝流程。建立工程責(zé)任人以及工程進(jìn)展報(bào)告制度。對(duì)于工程工程建立嚴(yán)格執(zhí)行“四制，即法人責(zé)任制、工程監(jiān)理制、工程招投標(biāo)制、工

52、程合同制。本工程的建立將按照公司現(xiàn)有質(zhì)量及環(huán)保體系嚴(yán)格管理。五、工程投資工程總投資規(guī)模，資金來源及籌措方案、投資使用方案、貸款歸還方案。一工程總投資規(guī)模、資金來源、投資使用方案本工程總投資10000萬元，前期已投入2000萬元企業(yè)自籌資金包括基建和裝配車間，局部樣機(jī)設(shè)備紫外激光直寫光刻設(shè)備、激光簽注設(shè)備、掃描光刻設(shè)備等。類別投資額萬元設(shè)備106根底建立(廠房、配電、污水、道路、裝修)727原材料227試制費(fèi)940合計(jì)2000新增投資8000萬元，為企業(yè)自籌資金投入。申請專項(xiàng)經(jīng)費(fèi)補(bǔ)助2000萬元。類別金額(萬元)建筑工程費(fèi)凈化1100設(shè)備購置及試制費(fèi)1700其他工程和費(fèi)用200鋪底流動(dòng)資金500

53、0合計(jì)8000附: 主要設(shè)備購置清單萬元序號(hào)設(shè)備名稱設(shè)備型號(hào)擬引進(jìn)國別單價(jià)臺(tái)數(shù)總價(jià) 1 共焦顯微鏡 lext4000  日本 75 2 140 2 激光干預(yù)儀 xl80  英國 1002 200 3 激光功率計(jì) NOVA2  以色列 45 20 4 自動(dòng)圖形檢測儀 lasertec x700  日本 1000 1 1000 5 掃描電鏡 zeiss

54、 EiGMA  日本 3001 300合計(jì)111660二資金籌措方案工程總投資10000萬元，前期企業(yè)自籌已投入2000萬元。新增投資8000萬元，來源于公司自籌資金。申請專項(xiàng)經(jīng)費(fèi)補(bǔ)助2000萬元。公司自籌資金來源于公司自有資金和利潤積累的再投入，公司股東會(huì)議一致通過該項(xiàng)出資方案。六、工程財(cái)務(wù)分析、經(jīng)濟(jì)分析及主要指標(biāo)內(nèi)部收益率、投資利潤率、投資回收期、貸款歸還期等指標(biāo)的計(jì)算和評(píng)估，工程風(fēng)險(xiǎn)分析，經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益分析。一財(cái)務(wù)分析生產(chǎn)和銷售預(yù)測： 單位：萬元年度第一年第二年第三年第四年第五年合計(jì)年銷售量套5050486593306銷售單價(jià)(未稅)50.0080125154161570.14銷售收入(未稅)25004000600010,00015,00037,500.00生產(chǎn)本錢1,452.02,192.43,407.0