北科大物理實驗低真空的獲得、測量與用直流濺射法制備金屬薄膜(共3頁)_第1頁
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1、精選優質文檔-傾情為你奉上 低真空的獲得,測量與用直流 實驗報告 濺射法制備金屬薄膜 學院 材料 班級 材料 1510 學號 姓名 張問 一、實驗目的與實驗儀器實驗目的: 1)學習真空基本知識和真空的獲得與測量技術基礎知識。 2)學習用直流濺射法制備薄膜的原理與方法。 3)實際操作一套真空鍍膜裝置,使用真空泵和真空測量裝置,研究該真空系統的抽氣特性。 4)用直流濺射法制備一系列不同厚度的金屬薄膜,為實驗研究金屬薄膜厚度對其電阻率影響制備樣品。實驗儀器: SBC-12 小型直流濺射儀(配有銀靶),機械泵,氬氣瓶、超聲波清洗器、玻璃襯底二、實驗原理 (要求與提示:限 400 字以內,實驗原理圖須用

2、手繪后貼圖的方式) 1.真空基本知識: 該實驗首先需制造一個真空條件,在中真空狀態,機械泵抽真空 2.用直流濺射法制備薄膜 濺射就是指荷能粒子轟擊表面,使得固體表面原子從表面射出的現象,這些從固體表面 射出的粒子大多呈原子狀態,通常稱為被濺射原子。濺射粒子轟擊靶材,使得表面成為被濺射原子,被濺射原子沉積到襯底上就形成了薄膜。所以這種方法稱為濺射法,干燥氣體在正常狀態下是不導電的,若在氣體中安置兩個電極并加上電壓,少量初始帶電粒子與氣體院子相互碰撞,使束縛電子脫離氣體原子成為電子,這時有電流通過氣體,這個現象稱為氣體放電。 本實驗所使用的是直流濺射法,利用了直流電壓產生的輝光放電,如圖所示,在對

3、系統抽真空后,充入適當壓力的惰性氣體,作為氣體放電的載體,在正負極高壓下,氣體分子被大量電離,并伴隨發出輝光。由放電形成的氣體正離子被朝著陰極方向加速,正離子和快速中性粒子獲得能量到達靶材,在這些粒子的轟擊下,被濺射出來的靶材原子冷凝在陽極上,從而形成了薄膜。 三、實驗步驟(要求與提示:限 400 字以內) (1) 把銀靶裝在鍍膜室頂蓋上,并使其到工作臺的距離為40mm。 (2) 把玻璃襯底放入盛有無水乙醇的燒杯中,用超聲波清洗機清洗3分鐘,用吹風機烘干玻璃襯底,烘干后放在鍍膜室的工作臺上;蓋上鍍膜室上蓋。 (3) 打開“電源”開關,機械泵對鍍膜室抽真空,觀測鍍膜室的真空度,小于4Pa時打開氬

4、氣控制閥門的針閥,緩慢向鍍膜室充入氬氣,當壓力表上顯示壓力呈動態平衡時,試觸檢查直流濺射表上電流大小為5mA。 (4) 設定好“定時器”時間60s。 (5) 按下啟動按鈕,銀靶被加上1000V的濺射電壓,銀薄膜沉積開始。可以看見鍍膜室等離子輝光放電現象。 (6) 當“定時器”所設定的沉積時間達到之后,濺射電壓變為0,濺射自動停止,濺射電流表顯示電流為零,完成了薄膜制備過程中一次濺射沉積。待冷卻60S后重復以上步驟。 (7)重復8次,制備沉積時間為8min的銀薄膜樣品。 (8)關閉針閥,關上電源,打開放氣閥,鍍膜室達大氣壓后,取出樣品。 四、數據處理 (要求與提示:對于必要的數據處理過程要貼手算

5、照片)此次實驗制備了沉積時間為8分鐘的銀膜。 膜厚計算經驗公式:d=kVIt(氬氣,銀的 k=0.37);可以計算得到薄膜厚度為: d=0.37x1000x0.005x60x8=88.8nm 故膜厚88.8nm五、分析討論(提示:分析討論不少于 400 字) 討論:通過觀察4min與8min的銀膜,發現其顏色不一樣,這里可以用光的干涉來解釋。入射的光在薄膜的上表面和下表面發生反射,反射的兩束光會發生干涉。當兩束光的光程差為入射光的波長的一半的偶數倍,則干涉后的光增強,就是所看到的顏色;如果光程差為入射光的波長的一半的奇數倍,則干涉后的光相互抵消減弱,這部分光就看不到了。而光程差與薄膜的厚度有關

6、。所以不同厚度的薄膜看上去顏色應該是不一樣的。同理,如果一張薄膜各處的顏色是不一樣,也就是說銀膜在各處的厚度可能不一樣。 通過計算,以h表示銀膜的厚度, 要使反射光干涉相消則有2nh=(2k-1)/2,k=1,2,3 因而介質膜的最小厚度為(k=1)h=/4n此時的透射光加強 要使反射光干涉相長則有2nh=k,k=1,2,3 因而介質膜的最小厚度為(k=1)h=/2n此時的反射光加強 假如反射光為紫光,=400nm干涉相消時h1=100/n(n>1)干涉相長時h2=200/n可以同過此公式來計算反射光的顏色解釋為何銀薄膜有不同的顏色。 本實驗中鍍膜用系統的極限真空度約為4Pa,在鍍膜過程前要特別注意用吹風機吹干薄膜的方法,薄膜上不能有液體,以免銀原子被氧化,同時污漬要朝向一個方向吹,以免制備的銀薄膜上有污痕。 誤差分析:a實驗過程中,應嚴格控制保溫時間,以免因保溫時間過短而使薄膜損壞。b 實驗設備的真空度對后續的輝光放電有很大影響,倘若設備真空度被破壞,那么激射無法完成,同時也要保證實驗剛開始時設備的真空度要極好。C 通入氬氣后,使真空度保持在一個動態平衡的范圍內,而在實驗過程中發現,鍍膜室的真空度會逐漸變高,濺射電流也逐漸變大,此時應注意微調氬氣控制閥

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