PAGE1敬請參閱最后一頁特別聲明PAGE1敬請參閱最后一頁特別聲明投資邏輯ASMLEUV7nmASML、NikonCanon三家公司長期占據全球光刻機市場的主導地位。其中，ASML202461.2%EUVASML202441%15～20200～300mmEUVi-lineASML光學物鏡系統在面型精度、表面光潔度指標等方便仍有較大差距g(436nm)、i(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nmEUV(13.5nm（g-line（KrF雙工件臺系統是光刻機中承載和移動晶圓的關鍵子系統ASML01（套重大技術裝備推廣應KrFArFDUV投資建議建議積極關注產業鏈部分環節優質標的：匯成真空等。風險提示產業進展不及預期、終端需求不及預期、核心生產制造設備管控的風險。掃碼獲取更多服務行業深度研究掃碼獲取更多服務行業深度研究PAGE10敬請參閱最后一頁特別聲明PAGE10敬請參閱最后一頁特別聲明內容目錄一、光刻機：晶圓制造最核心設備之一，技術難度最高且當前國產化率最低 51、光刻機是推動半導體產業延續“摩爾定律”發展的基石 52、光刻機市場“三分天下”，高端機臺主要被ASML壟斷 73、高端機型主要被ASML壟斷，Nikon及Canon出貨主要集中在中低端品類 84、當前光刻機國產化率低，海外限制加劇背景下的國產替代勢在必行 10二、光學系統為光刻機最核心部件，蔡司是全球光學部件供應商 111、全球光刻機光學市場規模達35億美元，蔡司一家獨大 112、投影物鏡國產之路道阻且長，蔡司技術水平遙遙領先 13DUV投影物鏡之難：四大途徑縮小像差，設計、材料、工藝、組裝缺一不可 13EUV反射系統之難：原子級平整度，僅蔡司有生產能力 14超精密光學部件國產化雖已實現突破，但與蔡司相差甚遠、任重道遠 15三、光源及雙工臺同為光刻機核心部件，對光刻機效率起到重要作用 161、光源的波長對光刻機的工藝能力起到決定性作用 161.1汞燈 16準分子激光 17EUV光源 172、雙工臺在光刻機中起到承載和移動晶圓的作用 17四、相關供應鏈企業努力攻堅，國內高端光刻機突破勢在必行 181、茂萊光學：多品類光學鏡頭核心供應商，應用范圍廣泛 182、匯成真空：真空鍍膜設備供應商，客戶涵蓋業內知名科研院所 203、波長光電：產品覆蓋廣泛，光學技術儲備豐富 214、福晶科技：布局光學晶體及精密光學元件 215、福光股份：特種及民用光學鏡頭廠商 236、騰景科技：聚焦光學元件及透鏡產品 24五、風險提示 24圖表目錄圖表1：通過改變波長、數值孔徑等方案，光刻機向更高分辨率技術路線發展 5圖表2：光刻機歷經五次歷史迭代 5圖表3：光刻機為半導體設備中占比最大的品類，占比達24% 6圖表4：光刻技術水平決定芯片制造的精細化程度 6圖表5：光刻流程涵蓋涂膠顯影及曝光 7圖表6：ASML24年共計銷售臺光刻機 7圖表7：24年光刻機銷量約占全球市場61.2% 7圖表8：ASML最先進等級的光刻機內部結構圖 8圖表9：2024年全球及高端光刻機被壟斷 8圖表10：ASML光刻機銷量（臺） 9圖表11：隨產品持續迭代，24年光刻機均價有所提升（單位：百萬歐元） 9圖表12：2024年中國大陸地區收入占比達41%，是最重要的細分市場 9圖表13：近年來海外對華半導體政策出臺一系列管制措施，自主可控勢在必行 10圖表14：上海微電子SSX600系列光刻機 11圖表15：光學系統為光刻機的核心，物鏡系統為最主要光學部件 11圖表16：光刻機光學系統主要光學部件 12圖表17：ASML2024年各地區供應商分布 12圖表18：2024年全球光刻機光學市場規模約為億美元 12圖表19：2024年光刻機光學競爭格局 13圖表20：光刻機投影物鏡重量可達500kg 13圖表21：光刻機投影物鏡一般需要29枚鏡頭 13圖表22：蔡司最暢銷的幾款DUV（深紫外線）、NUV（近紫外線）物鏡系統 14圖表23：EUV光刻光學工藝更為復雜 15圖表24：EUV特性要求采用全反射的投影物鏡系統 15圖表25：蔡司主要EUV光學部件 15圖表26：蔡司光刻機光學加工工藝遠超茂萊光學 16圖表27：光刻機光源的變化 16圖表28：可見光譜圖示 17圖表29：ASMLTWINSCANXT系列工件臺 18圖表30：茂萊光學生產的光學器件及光學系統 19圖表31：茂萊光學生產的透鏡產品 19圖表32：2024年茂萊光學產品收入結構 20圖表33：匯成真空電子束蒸發高精密光學鍍膜機可以承載稀有金屬膜料鍍膜 20圖表34：匯成真空24年收5.2億元，同比+35.8% 21圖表35：匯成真空24年凈潤0.08億元，同比-16% 21圖表36：波長光電24年收4.16億元，同比+14.32% 21圖表37：波長光電24年凈潤0.37億元，同比-29.28% 21圖表38：福晶科技生產的晶體、光學元件及激光器件 22圖表39：至期光子股權結構（截止2025年6月8日） 22圖表40：至期光子2024年收0.76億元，同比長180.08% 23圖表41：福光股份生產的鏡頭產品 23圖表42：福光股份24年收6.21億元，同比+5.82% 23圖表43：福光股份24年凈潤0.08億元，同比+111.6% 23圖表44：騰景科技24年收4.5億元，同比+30.96% 24圖表45：騰景科技24年凈潤0.7億，同比+66.53% 24一、光刻機：晶圓制造最核心設備之一，技術難度最高且當前國產化率最低1、光刻機是推動半導體產業延續“摩爾定律”發展的基石365nm，2090248nm，本世紀初引入氬-193nm193nm0.931.35，193nm200613.5nm極紫外光刻技術成為破局關鍵——ASMLEUV7nm圖表1：通過改變波長、數值孔徑等方案，光刻機向更高分辨率技術路線發展來源：正勢利，國金證券研究所5436（g）,365(i248(KrF)，193(ArF)。19781.510.59045圖表2：光刻機歷經五次歷史迭代代數光源類型波長（nm）最小工藝節點（nm）工藝原理第一代g-line436800-250接觸式光刻機接近式光刻機第二代i-line365800-250接觸式光刻機接近式光刻機第三代KrF248180-130掃描投影式光刻機第四代ArF193130-65步進掃描投影光刻機45-22浸沒式步進掃描投影光刻機第五代EUV13.522-7極紫外光刻機來源：上海微系統所公共技術中心，國金證券研究所圖表3：光刻機為半導體設備中占比最大的品類，占比達24%20%24%6%9%21%20%來源：中商產業研究院，國金證券研究所SEMI2024圖表3：光刻機為半導體設備中占比最大的品類，占比達24%20%24%6%9%21%20%來源：中商產業研究院，國金證券研究所光刻機 刻蝕設備 薄膜沉積設備 測試設備 封裝設備 其他/光罩，利用光刻膠的光敏特性，將設計好的電路圖表4：光刻技術水平決定芯片制造的精細化程度來源：Nikon官網，國金證券研究所圖表5：光刻流程涵蓋涂膠顯影及曝光來源：佳鼎半導體，國金證券研究所2、光刻機市場“三分天下”，高端機臺主要被ASML壟斷ASMLNikonCanon202461.2%EUVASML圖表6：ASML24年共計銷售418臺光刻機圖表7：24年ASML光刻機銷量約占全球市場61.2%ASML Nikon CanonASML Nikon Canon2334183234.11%61.20%4.69%來源：ChipInsights，國金證券研究所來源：ChipInsights，國金證券研究所193ASML193ASML2013ASMLEUVASMLEUV圖表8：ASML最先進等級的EUV光刻機內部結構圖來源：ASML官網，國金證券研究所3、高端機型主要被ASML壟斷，Nikon及Canon出貨主要集中在中低端品類ASMLChipInsights2024機銷量數據顯示，ASMLEUV、ArFiCanonKrF、i-lineNikonEUVCanoni-lineKrFi-line圖表9：2024年全球EUV及ArFi高端光刻機被ASML壟斷ASML Nikon Canon200182180160 152140 12912010080 6560 44 5140 281820 4 7 30EUV ArFi ArFdry KrF i-line等來源：ChipInsights，國金證券研究所ASML2024418EUVEUVASMLEUV4438%；ArFi129245圖表10：ASML（臺）EUVArFiArFdryKrFi-line20244412928152652023531253218455來源：ASML24ASMLEUVEXE（HighNAEUV）2ASML202420241.88Arfi0.74圖表11：隨產品持續迭代，24年ASML光刻機均價有所提升（單位：百萬歐元）2023 2024200180160140120100806040200EUV ArFi ArFdry KrF i-line來源：ASML投資者調研紀要，國金證券研究所ASMLASML2023ASML29Q127%圖表12：2024年ASML中國大陸地區收入占比達41%，是最重要的細分市場中國大陸 中國臺灣 其他60%50%40%30%20%10%0%2023 2024 2025Q1來源：ASML投資者調研紀要，國金證券研究所4、當前光刻機國產化率低，海外限制加劇背景下的國產替代勢在必行ASMLNikonCanon2018“1007圖表13：近年來海外對華半導體政策出臺一系列管制措施，自主可控勢在必行時間國家具體管制情況2022年4月美國美國政府提議與韓國、日本、中國臺灣地區建立“芯片四方聯盟”(CHIP4），試圖將中國大陸排除在全球半導體供應鏈聯盟之外。2022年7月美國美國商務部禁止ASML、應用材料等企業向中國出口14nm及以下先進制程設備，并限制美國公民參與中國芯片研發。2023年1月美日荷美日荷秘密達成三方協議，限制向中國出口DUV光刻機及零部件。荷蘭ASML隨后停止向中國出口部分DUV設備。2023年1月日本2023723包括光掩模鍍膜設備、光掩模檢測設備、光刻步進器以及符合氬氟化物（ArF）DUV性能標準或更高水平的掃描儀設備等。2024年9月美國美國商務部更新量子計算與半導體出口管制，限制中國獲取先進光刻機。2025年1月美國發布“全球AI管控新規”，將全球國家分為三級管控區，中國被列為最高風險等級，全面禁止AI芯片和模型對華出口。2025年5月美國BISSynopsys、CadenceEDAEDA通知，要求他們停止向中國提供服務。來源：國合中心、路透社等，國金證券研究所整理國內政策扶持光刻機加速發展。1966902002“863200790nm2008），02國內光刻機產業不斷突破。201690nmArFSSA600ASML202513.5nm3圖表14：上海微電子SSX600系列光刻機來源：上海微電子官網，國金證券研究所二、光學系統為光刻機最核心部件，蔡司是全球光學部件供應商1、全球光刻機光學市場規模達35億美元，蔡司一家獨大15～20200～300mmEUV圖表15：光學系統為光刻機的核心，物鏡系統為最主要光學部件來源：半導體工藝與設備，國金證券研究所圖表16：光刻機光學系統主要光學部件光學元器件功能物鏡（Lens）20種光學誤差技術難度就在于物鏡的設計難度大，精度的要求高。反射鏡（Mirror）光線反射到其它方向，傾斜反射鏡能夠將光線反射到不同的角度和位置。偏振器（Polarizer）和振幅，從而控制光斑的形成和分布。濾光片（Filter）光斑的形成和色彩。光闌（Aperture）能夠限制光線的傳播和散射，從而控制光斑的形成和分布。來源：中研普華研究院，國金證券研究所蔡司為ASMLASML5150CarlZeissSMTGmbHASMLASML26.9、33.3、39.5圖表17：ASML2024年各地區供應商分布北美洲

1400荷蘭 1600歐洲、中東和非洲（不包括荷蘭）

750亞洲 14000 20040060080010001200140016001800來源：ASML公告，國金證券研究所我們估算全球光刻機光學部件市場規模為53億美元。ASMLASML41，ASML206264億美元，我們估算全球光刻機光學市場規模為53億美元。圖表18：2024年全球光刻機光學市場規模約為53億美元2024全球光刻機市場規模（億美元）264全球光刻機光學市場規模（億美元）53蔡司半導體營收（億歐元）41ASML光刻機收入（億歐元）206來源：ChipInsights，蔡司官網，國金證券研究所1）ASMLCarlZeissSMTGmbHEUV3）佳能和尼康ASML61%60%以上，為絕對龍頭。圖表19：2024年光刻機光學競爭格局蔡司 佳能 尼康5%34%61%來源：Chipinsights，公司公告，國金證券研究所2、投影物鏡國產之路道阻且長，蔡司技術水平遙遙領先DUV投影物鏡之難：四大途徑縮小像差，設計、材料、工藝、組裝缺一不可ASML140種鏡片的數量超過15片。圖表20：光刻機投影物鏡重量可達500kg圖表21：光刻機投影物鏡一般需要29枚鏡頭來源：蔡司官網，國金證券研究所來源：半導體行業觀察，國金證券研究所四大途徑縮小像差，設計、材料、工藝、組裝缺一不可：1）3）通過采用多片可動鏡片：即自適應光學技術，各種像差。4）要求更高的投影物鏡的偏振控制性能：在引入偏振光照明后，在數值孔徑圖表22：蔡司最暢銷的幾款DUV（深紫外線）、NUV（近紫外線）物鏡系統光源最小工藝節點圖示ArFdry193nm40nmKrF248nm90-110nmi-line365nm220nm來源：Zeiss官網，國金證券研究所EUV反射系統之難：原子級平整度，僅蔡司有生產能力DUV1）原子級平整度要求。ASMLEUVxEUV1000.025nm（原子級別）0.25nmEUV2）真空潔凈度要求。顆粒都會對工藝質量造成極大破壞，所以整套系統要求極高的真空潔凈度，蔡司位于Oberkochen的實驗室能達到該要求。DUV光刻機EUV光刻機光源193nm深紫外線光源13.5nm極紫外線光源物鏡系統折射式物鏡反射式物鏡制造過程復雜DUV光刻機EUV光刻機光源193nm深紫外線光源13.5nm極紫外線光源物鏡系統折射式物鏡反射式物鏡制造過程復雜度精密的加工工藝來源：ASML公司官網，國金證券研究所 來源：ASML官網，國金證券研究所圖表25：蔡司主要EUV光學部件光學元件作用圖示投影光學元件EUV子是世界上最精確的反射鏡，用于將納米范圍內的掩模結構成像到光刻膠涂層晶圓上。200002鏡塊鏡塊使晶圓能夠與掩模和投影光學器件精確對準，以實現晶圓曝光。盡管晶圓掃描儀存在熱和高動態載荷，但鏡塊幾乎保持完美穩定。來源：Zeiss官網，國金證券研究所超精密光學部件國產化雖已實現突破，但與蔡司相差甚遠、任重道遠1鏡片面形精度是描述鏡片表面形狀偏差的一種參數。PVPeak-to-Valley2）表面光潔度指標表示光學元件表面疵病，用于描述允20/1020103）國產的物鏡系統已實現了工藝上的突破，如茂萊光學i-lineASMLEUV光學部件國產化任重道遠。1要生產制造高面形精度、2）現有的先進光學制造技術已不再是簡單的/融合/超分辨/頻率域處理等圖像算法等圖表26：蔡司光刻機光學加工工藝遠超茂萊光學主要公司面形精度表面光潔度已實現應用蔡司PV<0.12nm原子層面EUV茂萊光學PV<30nm20/10KrF、ArF、i-line來源：中研網，茂萊光學招股說明書，國金證券研究所三、光源及雙工臺同為光刻機核心部件，對光刻機效率起到重要作用1、光源的波長對光刻機的工藝能力起到決定性作用g(436nm)、i(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nmEUV(13.5nm（g-line（KrF圖表27：光刻機光源的變化來源：薩科微官網，國金證券研究所汞燈（如氬氣g-line光源波長圖表28：可見光譜圖示來源：ASML官網，國金證券研究所準分子激光(DUV)光源之一,是一種輻射幾十納秒脈寬的紫EUV光源EUV（LPP）LPP13.5nmASMLEUV（LPP）2570EUV500002、雙工臺在光刻機中起到承載和移動晶圓的作用ASML的雙工件臺系統通過兩個ASML2001TWINSCAN（硅片“測量-曝光-測量”的流水式作業。圖表29：ASMLTWINSCANXT系列工件臺來源：光刻人的世界，國金證券研究所光刻機工件臺是承載硅片完成光刻過程中一系列超精密動作的運動系統，由吸盤模塊、驅動模塊、導向模塊、位置測量模塊和運動控制模塊組成。吸盤模塊的作用是固定晶圓，確保其在光刻過程中保持穩定，避免因振動或位移導致驅動模塊提供工件臺運動的動力，實現晶圓在多維度的精密移動與定位。主要有三種（如直線或旋轉軸高精度運動，抑制偏擺、俯仰等非期望運動。位置測量模塊實時監測工件臺的位置、速度和姿態，為閉環控制提供反饋數據。測量數據通過高速采集卡傳輸至運動控制模塊，形成閉環控制回路，實現實時誤差補償。運動控制模塊根據光刻工藝需求，協調各模塊工作，生成運動軌跡指令，并通過閉環雙工件臺技術雖然提高了光刻機的產率，同時也帶來了諸多技術挑戰：對準精度高：芯片制造中圖形的曝光需多層疊加，掩膜曝光的圖形必須和前一層掩膜2nmASMLDUV17g運作穩定：雙工件臺頻繁的位置互換，對加減速防震、精確定位及減少磨損等要求極四、相關供應鏈企業努力攻堅，國內高端光刻機突破勢在必行攻堅克難正當時，產業進展有望迎來加速期。自02專項以來，以上海微為代表的光刻機01（套重大技術裝KrFArFDUV1、茂萊光學：多品類光學鏡頭核心供應商，應用范圍廣泛DUVAR/VRCamtekKLA圖表30：茂萊光學生產的光學器件及光學系統類別產品圖示應用光學器件透鏡：球面透鏡、非球面透鏡、柱面鏡、膠合透鏡等平片：多光譜濾光片、熒光濾光片、反射鏡、相位延遲窗口等棱鏡：膠合棱鏡、異形棱鏡等廣泛運用于航空航天、生物醫療等光學系統中光學鏡頭顯微物鏡系列、機器視覺鏡頭、成像鏡頭和監測鏡頭應用于半導體檢測設備、基因測序顯微設備和3D掃描、光電傳感、航天監測及激光雷達等領域光學系統DUV光顯微系統、體視顯微系統、AR/VR2D/3D手術、模等醫療儀器和設備中；AR/VR的性能測量來源：公司年報，公司官網，國金證券研究所圖表31：茂萊光學生產的透鏡產品產品名稱產品圖示產品介紹應用圖示應用領域簡介DUV該產品選用高純度石英、CaF2材料，經由高質量拋光、半導體紫外光譜段鍍膜后可實現高面型與表面光潔度，口徑在100nm-300nm，達到深紫外波段要求。該產品用于光刻機光學系統照明、曝光模塊，是保證光刻機高質量成像的關鍵組件。來源：公司年報，國金證券研究所20245.039.78%。細分市場來看，主要是半導體2.3346.29%圖表32：2024年茂萊光學產品收入結構精密光學元件先進光學系統高端光學鏡頭服務費收入其他業務0.41% 0.05%27.32%44.54%27.69%來源：Wind，國金證券研究所2、匯成真空：真空鍍膜設備供應商，客戶涵蓋業內知名科研院所圖表33：匯成真空電子束蒸發高精密光學鍍膜機可以承載稀有金屬膜料鍍膜來源：匯成真空公司官網、國金證券研究所20245.20.680.28圖表34：匯成真空24年營收5.2億元，同比+35.8%圖表35：匯成真空24年凈利潤0.08億元，同比-16%營收（億元） 同比（%）6 40355 30254 203 15102 501 -100 -152021 2022 2023 2024 2025Q1凈利潤（億元） 同比（%）0.9 400.8 300.70.6 200.5 100.4 00.3 -100.20.1 -200.0 -302021 2022 2023 2024 2025Q1來源：Wind，國金證券研究所來源：Wind，國金證券研究所3、波長光電：產品覆蓋廣泛，光學技術儲備豐富IPG阿帕奇，美國FLIR圖表36：波長光電24年營收4.16億元，同比+14.32%圖表37：波長光電24年凈利潤0.37億元，同比-29.28%營收（億元） 同比（%）4.5 254.03.5 203.02.5 152.0 101.51.0 50.50.0 02021 2022 2023 2024 2025Q1凈利潤（億元） 同比（%）0.7 300.6 200.5 1000.4-100.3-200.2 -300.1 -400.0 -502021 2022 2023 2024 2025Q1來源：Wind，國金證券研究所來源：Wind，國金證券研究所與浙大簽署戰略合作協議，共建“聯合實驗室”。20255224、福晶科技：布局光學晶體及精密光學元件20242.351.5114.898.63%；3.1124.18AR/VR圖表38：福晶科技生產的晶體、光學元件及激光器件類別產品圖示用途晶體非線性光學晶體、激光晶體、雙折射晶體、磁光晶體、聲光及電光晶體、閃爍晶體等主要用途：作為固體激光器的工作物質、非線性頻率轉換、磁光材料、電光材料等主要細分應用市場：固體激光器、光纖激光器等精密光學元件非球面透鏡、球面透鏡、柱面透鏡、反射鏡、窗口片、棱鏡、波片、偏振鏡、分光鏡、光柵等主要用途：聚焦、光路傳輸、光束整形、偏振轉換、分光合束等主要細分應用市場：固體激光器、光纖激光器、光通訊、AR/VR、激光雷達、半導體設備、光學檢測設備、分析儀器、生命科學等激光器件動器、光開關、光學鏡頭（掃描場鏡、擴束鏡）、光纖傳輸器件等主要用途：光纖與固體激光器的聲光調制器、電光調制器、Q開關、隔離器等主要細分應用市場：固體激光器、光纖激光器、光通訊等來源：公司年報，國金證券研究所202245.79%，至期光子主要面向高端光學應圖表39：至期光子股權結構（截止2025年6月8日）來源：Wind，國金證券研究所20247609.602025年至期光子目標營收為1.5億元。圖表40：至期光子2024年營收0.76億元，同比增長180.08%20232024營收（萬元）2716.947609.60同比（%）180.08凈利潤（萬元）-1837.22-1198.61同比（%）34.76來源：公司投資者調研公告，國金證券研究所5、福光股份：特種及民用光學鏡頭廠商圖表41：福光股份生產的鏡頭產品類別產品圖示應用定制產品特種光學鏡頭及光電系統定制產品主要用于航天工程、空間觀測、制導、艦船、飛機、車載、跟蹤瞄準、周界探測等領域。非定制產品安防鏡頭、車載鏡頭、紅外鏡頭、機器視覺鏡頭、投影光機等非定制產品主要應用于智慧安城市、車聯網、物聯網、AR/VR等領域。來源：公司年報，國金證券研究所20246.210.08111.6%1.46113.26%，0.847.95%20251.1415.61%-0.21.43%。圖表42：福光股份24年營收6.21億元，同比+5.82% 圖表43：福光股份24年凈利潤0.08億元，同比+111.6%營收（億元） 同比（%）98765432102021 2022 2023 2024

20151050-10-15-20-25-30

0.0-0.2-0.4-0.6-0.8

凈利潤（億元） 同比（%）

20212022202120222024 2025Q120231000-100來源：Wind，國金證券研究所 來源：Wind，國金證券研究所6、騰景科技：聚焦光學元件及透鏡產品AI20240.7+66.53%20251.130.15AI圖表44：騰景科技24年營收4.5億元，同比+30.96%圖表45：騰景科技24年凈利潤0.7億，同比+66.53%營收（億元） 同比（%）5.0 354.5 304.0 253.53.0 202.5 152.0 101.5 51.00.5 00.0 2021 2022 2023 2024 2025Q1凈利潤（億元） 同比（%）0.8 800.7 600.60.5 400.4 200.3 00.20.1 -200.0 -402021 2022 2023 2024 2025Q1來源：Wind，國金證券研究所來源：Wind，國金證券研究所五、風險提示行業投資評級的說明：3－615%以上；3－65%－15%；3－6-5%－5%；3－65%以上。特別聲明：國金證券股份有限公司經中國證券監督管理委員會批準，已具備證券投資咨詢業務資格。何形式的復制、轉發、轉載、引用、修改、仿制、刊發，或以任何侵犯本公司版權的其他方式使用。經過書面授權的引用、刊發，需注明出處為“國金證券股份有限公司”，且不得對本報告進行任何有悖原意的刪節和修改。本報告的產生基于國金證券及其研究人員認為可信的公開資料或實地調研資料，但國金證券及其研究人員對這些信息的準確性和完整性不作任何保證。本報告反映撰寫研究人員的不同設想、見解及分析方法，故本報告所載觀點可能與其他類似研究報告的觀點及市場實際情