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文檔簡介
脈沖酸銅電鍍制程RPPCOPPER-制程產品描述?
RPP制程是為印制線路板設計的,取代直流電鍍的反向脈沖電流電鍍制程.?
先進的RPP添加劑和反向脈沖電流的完美結合,使得即使在無低電流密度情況下,鍍層的厚度,分散性和覆蓋性都有了極大的改善,生產效率大大提高.產品優點?
槽液穩定,添加劑專門為反向脈沖電鍍而設計,鍍層為光亮或半光亮.?
RPP
制程大大改善鍍層的厚度,分散性和覆蓋性.?
使用高電流密度工作,生產效率大大提高.?
鍍層厚度和分散性的提高,減少阻焊膜和銅的用量.?
使用RPP體系,無需改動鍍槽的結構和尺寸.?
添加劑可以使用儀器Titraplate?
來分析analysis開缸參數RPP
垂直應用參數5H
O最佳值75g/L范圍60–
90g/L100–
140ml/L50–
90ppm5–
15ml/L0.5–
1.5m/LCuSO4.2H
SO4120ml/L70ppm10ml/L1ml/L2Cl-CarrierAdditive操作參數RPP
垂直應用參數最佳值28°C范圍24–
32°C溫度20–
40ASF48-96Hz1:1.5–
1:3.5平均電流密度電流頻率30ASF48Hz1:2.5正反向比開缸參數RPP
水平應用參數5H
O最佳值135g/L115ml/L90ppm10ml/L1ml/L范圍120–
150g/L105–
125ml/L70–
110ppm8–
12ml/LCuSO4.2H
SO42Cl-Carrier0.8–
1.2m/LAdditive操作參數RPP
水平應用參數最佳值28°C范圍24–
32°C溫度60–
100ASF48-96Hz1:1–
1:2.5平均電流密度電流頻率80ASF48Hz1:1.5正反向比測試數據RPP水平應用鍍層測試?
外觀
:?
結晶
:半光亮鍍層均勻細致?
導電率
:
0.59
mega-ohm/cm?
伸長率
:?
拉申強度
:?
可焊性
:>
14%47
Kpsi非常好?
熱沖擊
:
5周內沒有破裂
(一個循環為在288°C
的回流焊錫中10秒)?
滿足
MIL-P-55110-E的要求測試數據RPP
垂直應用板厚
2.4mm20ASF1:1.520:1112101
9697135
129119
11020ASF1:2.520:1孔徑
(inmm)測試數據RPP垂直應用板厚
2.4mm30ASF1:1.520:11001139785
8430ASF1:2.520:1104
95100孔徑
(inmm)氯離子濃度對不含添加劑的銅離子溶液的影響12108Copper
Stock
-
0
ppm
Cl-Copper
Stock
-
10
ppm
Cl-Copper
Stock
-
60
ppm
Cl-64200.10.050-0.05-0.1-0.15-0.2-0.25-0.3-0.35電勢(Volt)氯離子濃度對含有載體
CARRIER銅離子溶液的影響987654321Copper
Stock
-
0
ppm
Cl-Copper
Stock
w
ith
5
ml/l
Ca
rrie
r
-
0
ppm
Cl-Copper
Stock
w
ith
5
ml/l
Ca
rrie
r
-
10
ppm
Cl-Copper
Stock
w
ith
5
ml/l
Ca
rrie
r
-
60
ppm
Cl-00.10.050-0.05-0.1-0.15-0.2-0.25-0.3-0.35電勢(Volt)在含有載體CARRIER的銅離子溶液,BRIGHT
ENER的濃度影響654321Copper
Stock
w
ith
5
ml/l
Ca
rrie
r
-
60
ppm
Cl-Addition
of
0.5
ml/l
BrightenerAddition
of1
ml/l
Brighte
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