1、第5章 CMOS集成電路的幅員設(shè)計主要內(nèi)容 5.1 MOS 場效應(yīng)管的幅員實現(xiàn) 5.2 幅員設(shè)計規(guī)那么 5.3 幅員系統(tǒng)的設(shè)置 5.4 幅員的建立 5.5 幅員的編輯 5.6 棍棒圖 5.7 幅員設(shè)計方法概述5.1 MOS 場效應(yīng)管的幅員實現(xiàn)場效應(yīng)管的幅員實現(xiàn) 5.1.1 單個單個MOS管的幅員實現(xiàn)管的幅員實現(xiàn) 1. MOS管的構(gòu)造和規(guī)劃管的構(gòu)造和規(guī)劃 MOS管的四種規(guī)劃圖管的四種規(guī)劃圖 直線形陳列的NMOS管 構(gòu)造圖 立體構(gòu)造和俯視圖 源區(qū)、溝道區(qū)和漏區(qū)合稱為MOS管的有源區(qū)(Active，而有源區(qū)之外的區(qū)域定義為場區(qū)Fox)。有源區(qū)和場區(qū)之和就是整個芯片外表。 Fox + Active =

2、 Surface 芯片外表包含有源區(qū)和場區(qū)兩部分 N阱CMOS集成電路運用P型襯底，NMOS管直接制造在P型襯底上，PMOS管做在N阱內(nèi)。 完好的MOS管版幅員必需包含兩個部分：a由源、柵和漏組成的器件；b襯底銜接。(a)PMOS管 (b)NMOS管 完好的MOS管幅員圖形 5.1.2 MOS管陣列的幅員實現(xiàn)管陣列的幅員實現(xiàn) 1.MOS管串聯(lián)管串聯(lián) (1) 兩個兩個MOS管的串聯(lián)。管的串聯(lián)。 N1的源、漏區(qū)為的源、漏區(qū)為X和和Y，N0的源、漏區(qū)為的源、漏區(qū)為Y和和Z。Y是它們的公共區(qū)域，假設(shè)把公共區(qū)域合并是它們的公共區(qū)域，假設(shè)把公共區(qū)域合并,得到得到圖圖5.7(d)所示的兩個所示的兩個MOS管

3、串聯(lián)銜接的幅員。管串聯(lián)銜接的幅員。 從電流的方向可以決議，當從電流的方向可以決議，當MOS管串聯(lián)時，它管串聯(lián)時，它們的電極按們的電極按S-D-S-D-S-D方式銜接。方式銜接。(a) 電路圖 (b) N1幅員 (c) N0幅員 (d) N1和N0串聯(lián)幅員 (2) 恣意個MOS管串聯(lián)。例如3個MOS管串聯(lián)的幅員。 (a)電路圖 (b) 幅員 2.MOS管并聯(lián)管并聯(lián)(并聯(lián)是指它們的源和源銜接，漏和漏銜接，各自的柵還是獨立的。并聯(lián)是指它們的源和源銜接，漏和漏銜接，各自的柵還是獨立的。) (1)柵極程度放置，節(jié)點柵極程度放置，節(jié)點X和和Y可用金屬連線銜接可用金屬連線銜接(圖圖b)；也可用有源區(qū)銜接；也

4、可用有源區(qū)銜接(圖圖c。(a)電路圖 (b)用金屬銜接節(jié)點 (c) 用有源區(qū)銜接節(jié)點 (2)柵極豎直方向陳列，節(jié)點銜接既可用金屬導線(圖b)，也可用有源區(qū)進展銜接(圖c。 (a)電路圖 (b)用金屬銜接節(jié)點 (c) 用有源區(qū)銜接節(jié)點 (3)三個或三個以上MOS管并聯(lián)。 全部用金屬進展源的銜接和漏的銜接(圖a,稱為叉指形構(gòu)造; 分別用金屬和有源區(qū)進展源和漏的并聯(lián)銜接; 金屬銜接和有源區(qū)銜接結(jié)合運用(圖b。(a)源和漏的并聯(lián)都用金屬銜接叉指型 (b)分別用有源區(qū)和金屬進展并聯(lián)銜接 3.MOS管的復聯(lián)管的復聯(lián) 復聯(lián)是復聯(lián)是MOS管先串后并和先并后串的銜接。管先串后并和先并后串的銜接。 (a) 電路圖

5、 (b) 幅員 5.2 幅員設(shè)計規(guī)那么幅員設(shè)計規(guī)那么 設(shè)計規(guī)那么是由幾何限制條件和電學限制條設(shè)計規(guī)那么是由幾何限制條件和電學限制條件共同確定的幅員設(shè)計的幾何規(guī)定，這些規(guī)定件共同確定的幅員設(shè)計的幾何規(guī)定，這些規(guī)定是以掩膜版各層幾何圖形的寬度、間距及重疊是以掩膜版各層幾何圖形的寬度、間距及重疊量等最小允許值的方式出現(xiàn)的。量等最小允許值的方式出現(xiàn)的。 幅員設(shè)計規(guī)那么普通都包含以下四種規(guī)那幅員設(shè)計規(guī)那么普通都包含以下四種規(guī)那么：么： (1) 最小寬度最小寬度 例如，金屬、多晶、有源區(qū)或阱都必需堅持例如，金屬、多晶、有源區(qū)或阱都必需堅持最小寬度。最小寬度。 (2)最小間距 例如，金屬、多晶、有源區(qū)或阱都

6、必需堅持最小間距。 (3)最小包圍 例如，N阱、N+離子注入和P+離子注入包圍有源區(qū)應(yīng)該有足夠的余量;多晶硅、有源區(qū)和金屬對接觸孔周圍要堅持一定的覆蓋。(4)最小延伸 例如，多晶柵極須延伸到有源區(qū)外一定長度。 5.3 幅員系統(tǒng)的設(shè)置幅員系統(tǒng)的設(shè)置5.3.1建立幅員庫建立幅員庫 1. 建立新庫步驟建立新庫步驟 (1) 從從CIW進入庫管理器，選命令進入庫管理器，選命令ToolsLibrary Manager。進入庫管理器 (2) 在庫管理器中選命令FileNewLibrary，出現(xiàn)新庫對話框。 選建立新庫命令 新庫對話框 (3) 在Name 文本區(qū)輸入新庫名(例如mylib)。點擊OK按鈕，出現(xiàn)

7、新庫技術(shù)文件對話框，新庫mylib的技術(shù)文件有三種選項。對新庫的技術(shù)文件有三個選項 (4) 方法1：選“compile a new techfile，點擊OK按鈕，出現(xiàn)Load Technology File對話框。在框中ASCII Technology File的文本區(qū)輸入技術(shù)文件名(如csmc.tf)，按OK按鈕終了，出現(xiàn)對話框報告加載技術(shù)文件勝利，新庫已建立。在ASCII Technology File區(qū)輸入技術(shù)文件名 報告技術(shù)文件加載勝利 (5) 方法2：選“Attach to an existing techfile,出現(xiàn)Attach Design Library to Techno

8、logy File對話框。在Technology Library文本區(qū)下拉菜單中選擇技術(shù)庫，例如csmc15tech,按OK按鈕即完成建庫。 假設(shè)新庫名為abcd,建庫完成后在CIW中顯示： Design Libraryabcdsuccessfully attached to technology Library csms15tech新庫abcd已勝利建立。從庫管理器建立新庫的另一種方法 (6) 建立新文件:在庫管理器,選命令FileNewCell view。在Create New File框內(nèi)輸入庫名和單元名(inv)后，先將tool選為virtuoso，在View Name的文本區(qū)會自動生

9、成Layout，點擊Ok按鈕，將同時出現(xiàn)幅員編輯窗virtuoso Layout Editing和層選擇窗LSW：Layer Select window。建立新文件 同時出現(xiàn)幅員編輯窗和層選擇窗(LSW) 5.3.2 層選擇窗層選擇窗(LSW)的設(shè)置的設(shè)置1. 對對LSW的闡明的闡明層選擇窗 (LSW ) Current drawing or entry layerEdit menuTechnology fileInst buttonPin buttonAV and NV buttonsAS and NS buttonsScroll barLayers1) Edit編輯是個下拉式命令菜單，有六

10、個子菜單2) 層符號分三部分， 左表示層的顏色及圖案； 中為層名； 右表示層的用途。層的顏色及圖案層名層的用途 3) Inst設(shè)置Instance為可選或不可選。 4) Pin設(shè)置布線工具。 5)Technology file技術(shù)文件名。 6) AV和NV按鈕 AV設(shè)置各層都可視圖a)； 除輸入層外，NV設(shè)置其他各層不可視(層符號變灰)圖b； 擊鼠標中鍵使各層在可視和不可視間轉(zhuǎn)換圖c； 層原為可視，點擊中鍵變?yōu)椴豢梢暎冱c擊又恢復可視圖d)； 鼠標左鍵點擊原不可視的層就變?yōu)榭梢?，且成為輸入層圖e。 (a)(e)(d)(c)(b)7) AS和NS設(shè)置各層的選擇性(后面引見)。2. 對對LSW的設(shè)

11、置的設(shè)置(1) 設(shè)置層符號。設(shè)置層符號。 在在LSW中，選擇中，選擇EditSet Valid LayersSet Valid Layer對話框。對話框。 Set Valid Layer對話框 點擊層符號右邊的選擇開關(guān)，開關(guān)變黑，本層被選。 點擊Apply按鈕，層符號出如今LSW中。 點擊LSW的EditSave，Save對話框。 按Ok存盤。(2) 設(shè)置層符號的顏色和圖案設(shè)置層符號的顏色和圖案 在在LSW中，選中，選EditDisplay Resource Editor，“Display Resource Editor對話框。對話框。Display Resource Editor對話框 設(shè)置

12、層的填充類型Fill sytle、填充顏色Fill color、外框顏色Outline Color、點畫Stipple和線型line sytle。 按Apply按鈕。 選FileSave，“Save Display Resource File框。 在Files區(qū)點擊左鍵，/root/display.drf, 左鍵點擊，使它進入Selection的文本框，點擊Ok封鎖。 對話框報告root/display.drf文件曾經(jīng)存在，按Yes鍵。建立顯示文件 按Yes鍵得到新的顯示文件 5.3.3 幅員編輯窗的設(shè)置幅員編輯窗的設(shè)置幅員編輯窗 1. 圖標欄Icon Menu) 圖標欄包含的命令 2. 形狀

13、欄形狀欄Status Banner) 位于幅員編輯窗的第二行。位于幅員編輯窗的第二行。3. 菜單欄菜單欄Menu Banner)位于幅員編輯窗第三行。位于幅員編輯窗第三行。 4. 啟動命令和取消命令的方法啟動命令和取消命令的方法 (1) 啟動命令啟動命令 從幅員窗的菜單欄選命令。從幅員窗的菜單欄選命令。 點擊幅員窗的圖標。點擊幅員窗的圖標。 用快捷鍵。用快捷鍵。 (2) 取消命令取消命令 按按Esc鍵。鍵。 點擊對話框中的點擊對話框中的Cancel。 (3) 命令的對話框命令的對話框 有兩種對話框：有兩種對話框： 1) 規(guī)范框。啟動命令時自動出現(xiàn)。規(guī)范框。啟動命令時自動出現(xiàn)。2) 選項框。 3

14、) 顯示對話框的方法： 假設(shè)菜單命令后有三點，規(guī)范框會自動出現(xiàn)； 運用命令時雙擊中鍵或按F3鍵。Move的選項對話框 5.3.4 運用運用Option菜單進展幅員編輯窗設(shè)置菜單進展幅員編輯窗設(shè)置 1. 顯示命令顯示命令 選命令選命令OptionDisplaye，“Display Options對話框?qū)υ捒?。 (1) Display ControlsDisplay Options 對話框 (2) Grid Controls 4個參數(shù)的缺省設(shè)置為1、5、0.5和0.5。對于1m或者亞微米的設(shè)計規(guī)那么，可設(shè)置為0.1、0.5、0.01和0.01。 (3) Snap Modes 在下拉菜單中包含了各

15、種選項。Creat的方式 Edit的方式 2. 編輯器選項 選命令Optionlayout EditorE,“l(fā)ayout Editor Options對話框 。可以設(shè)置Gravity Controls引力控制、Conic sides圓環(huán)邊數(shù))等。layout Editor Options 對話框 5.4 幅員的建立幅員的建立5.4.1設(shè)置輸入層設(shè)置輸入層(1) 鼠標左鍵單擊鼠標左鍵單擊LSW的層符號即為輸入層。的層符號即為輸入層。(2) 運用命令運用命令Edit Layout Tapt。光標點擊。光標點擊目的圖形，目的圖形所在層就變?yōu)檩斎雽?。目的圖形，目的圖形所在層就變?yōu)檩斎雽印?.4.2屏

16、幕顯示畫圖區(qū)屏幕顯示畫圖區(qū) 剛翻開的幅員窗，坐標原點在屏幕中央。剛翻開的幅員窗，坐標原點在屏幕中央。 1選命令windowPanTab，幅員窗和CIW都顯示： Point at center of the desired display：希望顯示的中點用鼠標左鍵點擊屏幕右上角某一點，該點立刻移到屏幕中心，第一象限成為畫圖區(qū)。 2用鍵盤上方向鍵實現(xiàn)坐標軸挪動。5.4.3建立幾何圖形建立幾何圖形 1. 矩形矩形Rectangle 1建立矩形命令：建立矩形命令：CreateRectangle。 2選輸入層。選輸入層。 3畫矩形。畫矩形。 (a) 點擊左鍵 (b) 挪動鼠標 (c) 點擊左鍵建立矩形

17、(d) 完成的矩形 4按Esc鍵停頓畫矩形命令。2. 多邊形polygon 1方法1 建立多邊形命令：Createpolygon。 選輸入層。 畫多邊形。 (a) 點擊第一點 (b) 繼續(xù)點擊 (c) 雙擊或按Enter鍵使多邊形封鎖 (d) 完成的多邊形2方法2 a矩形拼接或重疊構(gòu)成多邊形 b合并后的多邊形 (3加圓弧 命令Createpolygon把多邊形某一邊畫成圓弧。 雙擊鼠標中鍵或按F3鍵，出reate Polygon選項框。 在框中點擊Create Arc按鈕。 在多邊形中畫圓弧。(a) 點擊起點 (b) 點擊終點 (c) 挪動光標可看到圓弧 (d) 點擊建立圓弧 (3) 等寬線

18、(path) 建立等寬線命令Createpath。 在LSW中點擊輸入層。 雙擊鼠標中鍵或按F3鍵Create path 對話框。 Create path 對話框 設(shè)置線寬度。 畫等寬線。(a) 每次點擊建立另一段，終占雙擊 (b) 完成的等寬線 4. 圓錐曲線 1圓circle) 命令：Createconicscircle(a) 點擊圓心 (b) 挪動鼠標 (c) 在圓周上點擊畫圓 (d) 完成的圓 2橢圓Ellipse命令：CreateconicsEllipse(a) 點擊邊框第一角頂點 (b) 挪動鼠標 (c) 點擊邊框?qū)琼旤c (d) 完成的橢圓3圓環(huán)Donut命令：Createcon

19、icsDonut (a) 點擊圓心 (b) 點擊內(nèi)圓周 (c) 點擊外圓周 (d) 完成的圓環(huán) 5. 復制復制(Copy)命令：命令：Editcopy，或者選取，或者選取Copy圖標。圖標。 6. 其它命令 (1合并命令EditMergeM 選中圖形圖形高亮度，執(zhí)行合并命令。(2)切割命令 EditOtherChopC例題：設(shè)計CMOS反相器幅員用1.5m設(shè)計規(guī)那么畫幅員步驟：畫P管有源區(qū)，如圖(a。畫多晶硅柵極：用矩形；用等寬線(path) 。 格點設(shè)置為每格0.5m。(a) 有源區(qū)矩形 (b) 用矩形畫多晶柵極 (c) 用等寬線畫多晶柵極 畫P管有源區(qū)和多晶柵極 (3) 畫源和漏區(qū)的接觸孔

20、。 在源區(qū)畫一個1.5m1.5m接觸孔，孔至多晶柵間隔為1.5m，如圖(a)。 拷貝其他的接觸孔圖(b)。 將源區(qū)3個接觸孔一次全部拷貝到漏區(qū)，漏區(qū)接觸孔至多晶柵間距為1.5m。 (a) 先畫一個尺寸和位置都正確的孔 (b) 拷貝生成其它的孔 畫接觸孔 MOS管寬度(W)和長度(L)的決議：在1.5m設(shè)計規(guī)那么中，假設(shè)知W/L比值，那么W=(W/L)1.5m。畫一個接觸孔時有源區(qū)的寬度3.1m，畫二個接觸孔時寬度6.1m，；有源區(qū)矩形的最小長度L9.1m。 當有源區(qū)寬度3.1m為2m時，溝道區(qū)寬度不變，增大源區(qū)和漏區(qū)寬度3.1m能畫一個接觸孔。小寬長比MOS管的畫法 有源區(qū)覆蓋接觸孔0.8m，

21、按Ctrl+z鍵將圖形放大，使格點間距顯示為0.1m，容易畫0.8m的覆蓋。 (4) 在有源區(qū)外畫P+注入矩形，最小包圍為1m。 (5) 畫N阱，它對有源區(qū)的最小包圍為2m。完成的P管如圖(a)。 (6) 用拷貝方法畫N管：畫選擇框把P管的P+注入、有源區(qū)和接觸孔圖形都選中，豎直下拉至適宜位置有源區(qū)與N阱相距8.5m。 修正： 選N管的W=6.1m，在它的源漏區(qū)分別去除一個接觸孔： 向上挪動有源區(qū)和P+注入層矩形的下邊，使有源區(qū)覆蓋接觸孔0.8m； 把P+注入層改為N+注入； 多晶柵極向下延伸至N管有源區(qū)外至少0.8m。(a) 畫P+注入和N阱 (b) 拷貝生成NMOS管 (c) 對拷貝圖形作

22、修正 畫CMOS反相器過程 (7) 連線。用Metal1層銜接P管和N管的漏極作為反相器的輸出，且用Metal1畫電源線，如圖(a)。 (8) 畫一條Metal1線將P管源區(qū)的接觸孔和電源線銜接，如圖(b)。 (9) 將電源金屬線拷貝到N管下方作為地線，再畫一根豎直的金屬線將N管源區(qū)的接觸孔和金屬地線銜接，如圖(c)。 (10) 畫襯底接觸： 拷貝幾個接觸孔并旋轉(zhuǎn)90，放到電源金屬線下。 畫有源區(qū)矩形將上述接觸孔包圍。 在有源區(qū)外畫N+注入框。 把N阱的上邊拉到這個接觸區(qū)上方，使N阱包圍N+有源區(qū)(圖(d)。 (11) P型襯底和地線的接觸： 將N阱接觸的N+注入、有源區(qū)和接觸孔拷貝到地線金屬

23、層圖形下。 把拷貝的N+注入層改為P+注入層，如圖(e)。 (12)加一段多晶和多晶柵極銜接，作為反相器的輸入；加一段金屬和輸出金屬線銜接，作為反相器的輸出導線，如圖(f)。 (13將線名標注到圖中，并且把各層圖形中由矩形組成的多邊形進展合并。 完成后如圖(g)。 (a) (b) (c) (d) (e) (f) (g) 畫CMOS反相器過程續(xù) 5.5 幅員的編輯幅員的編輯5.5.1 設(shè)置層的可視性設(shè)置層的可視性1. 顯示一層顯示一層 有二種方法有二種方法: 1) 顯示層設(shè)置為輸入層，顯示層設(shè)置為輸入層， 鼠標點擊鼠標點擊LSW上上NV按鈕，選命令按鈕，選命令windowRedrawr。 2)

24、按按shift鍵，鼠標中鍵點擊鍵，鼠標中鍵點擊LSW中的中的顯示層，選命令顯示層，選命令windowRedrawr。 2. 添加顯示層添加顯示層 鼠標左鍵點擊鼠標左鍵點擊LSW中添加的顯示層，按快中添加的顯示層，按快捷鍵捷鍵r。 延續(xù)點擊延續(xù)點擊LSW的層，可以不斷添加顯示層。的層，可以不斷添加顯示層。 3. 顯示一切的層顯示一切的層 點擊點擊LSW的的AV按鈕，再按快捷鍵按鈕，再按快捷鍵r。 4. 減少顯示層減少顯示層 鼠標中鍵點擊鼠標中鍵點擊LSW中要減少的層符號，再中要減少的層符號，再按快捷鍵按快捷鍵r。被減少的顯示層不能為輸。被減少的顯示層不能為輸入層。入層。 延續(xù)運用可以不斷減少顯示

25、層。延續(xù)運用可以不斷減少顯示層。5.5.2 丈量間隔或長度丈量間隔或長度 1. 用直尺丈量用直尺丈量 1命令命令windowCreate Rulerk對話框。在丈量起點按鼠標左鍵，顯示對話框。在丈量起點按鼠標左鍵，顯示0。挪動光標至終點按左鍵，丈量數(shù)據(jù)在終點上方。挪動光標至終點按左鍵，丈量數(shù)據(jù)在終點上方。Create Ruler 對話框 2選命令windowClear All RulerK，消除顯示的全部丈量數(shù)據(jù)。2. 形狀欄顯示坐標及間隔5.5.3 圖形顯示圖形顯示 1. 顯示單元幅員的全貌顯示單元幅員的全貌 命令命令WindowFit Allf。 2. 前往前面的圖形前往前面的圖形 命令命

26、令windowUtilitiesPrevious Vieww。 3. 圖形的放大和減少圖形的放大和減少 1命令命令WindowzoomInz,圖形全屏顯圖形全屏顯示。示。 2命令命令WindowzoomIn by 2z，圖形，圖形放大放大2倍。倍。 3命令命令WindowzoomOut by 2z，圖形，圖形減少減少1半。半。 4. 用鼠標放大和減少圖形用鼠標放大和減少圖形 1放大圖形：按右鍵并拖動畫矩形框，框內(nèi)圖形放大圖形：按右鍵并拖動畫矩形框，框內(nèi)圖形全屏幕顯示。全屏幕顯示。 2減少圖形：按減少圖形：按shift鍵不放，同時按右鍵并鍵不放，同時按右鍵并拖動鼠標畫恣意的矩形，圖形減少到與矩形

27、同樣大小。拖動鼠標畫恣意的矩形，圖形減少到與矩形同樣大小。 5. 運用鍵盤的光標挪動鍵運用鍵盤的光標挪動鍵 顯示圖形的不同部分，顯示需求編輯的區(qū)域。顯示圖形的不同部分，顯示需求編輯的區(qū)域。5.5.4 選擇目的選擇目的 LSW有有NS和和AS兩個選擇按鈕幅員層不可選和可選。兩個選擇按鈕幅員層不可選和可選。選擇包括全選full和部分選partial兩種方式，顯示在幅員窗的形狀欄： Full方式 Partial方式 用F4鍵切換兩種選擇方式。 1. 圖形可選即選LSW中的AS的選擇 (1) 用鼠標選擇目的 1) 移到光標到目的圖形上，圖形邊框變?yōu)閯討B(tài)高亮度。 2) 左鍵點擊目的，圖形邊框變?yōu)楦吡炼龋?/p>

28、在全選方式，目的邊框全部高亮度。 3) 按快捷鍵d消除選擇，或左鍵在圖形外空白區(qū)點擊一次，圖形去除選擇。 4) 選擇一個目的后，再選第二個目的，前一個目的就不再選中。 5) 添加選擇目的，按住shift鍵，并用左鍵點擊新目的，可延續(xù)選多個目的。 6) 減少選擇目的：按住Ctrl鍵，并用左鍵點擊要減去的目的。 (2) 運用選擇框選擇目的 1)選擇集中的多個目的，用鼠標左鍵畫矩形框包圍目的。 2)被選擇目的數(shù)顯示在Fselect：的冒號后。 2. 部分選擇(p) select：0選擇目的的邊、角和整個圖形。 3. 運用LSW設(shè)置層的可選性 1) 點擊LSW的AS按鈕，層符號全部可選圖a 2) 點擊

29、NS，層符號全部不可選(層符號的中間和右邊變灰)圖b) 3) 點擊鼠標右鍵使各層在可選和不可選間轉(zhuǎn)換：原為可選，點擊一次變?yōu)椴豢蛇x，再點擊又恢復為可選 (圖c：右鍵點擊了一個層符號)。 4)原為不可選，右鍵點擊一次變?yōu)榭蛇x，再點擊又恢復為不可選 (圖d：右鍵點擊了二個層符號。(a) (b) (c) (d)5.5.5 改動圖形的層次改動圖形的層次三種方法：三種方法： 1) 消除原圖，在新層重畫一樣的圖。消除原圖，在新層重畫一樣的圖。 2) 用拷貝實現(xiàn)圖形層次的改動。用拷貝實現(xiàn)圖形層次的改動。 3) 用屬性改動圖形所屬的層。用屬性改動圖形所屬的層。 選中圖形，圖形高亮度；選中圖形，圖形高亮度； 按按q鍵：圖形是矩形鍵：圖形是矩形Edit Rectangle Properties框；框； 圖形是多邊形圖形是多邊形Edit polygon Properties框?？颉?要改動層次的圖形為矩形 要改動層次的圖形為多邊形 改動框內(nèi)layer的層符號，按Ok鍵。 5.5.6 加標志加標志命令：命令：Create Label.lCreate Label對話框。對話框。Label對話框 各種字形 產(chǎn)生信號非的標志：