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IV石墨烯/TiO2復合材料的制備及其光催化性能研究概述石墨烯是一種新型的二維碳質材料，由于其特殊的性能，如：比表面積大，傳感，能源儲存，電容器和電池等領域有潛在的應用前景。采用水熱法制備了石墨烯/二氧化鈦復合材料，通過控制反應條件制備了不品進行了表征。并測試了該催化劑在紫外光下對羅丹明B染料的催化性能，結睫[1]。化鈦是較為普遍使用的半導體光催化劑。選用二氧化鈦作為催化劑的優點主要有：(1)合適的半導體禁帶寬度(3.0eV左右)；(2)光催化效率高。導帶和價帶的電位具有很強的氧化—還原能力，可分解大部分的有機污染物；(3)化學穩定性好，具有很強的抗光腐蝕性；(4)價格便宜，無毒而且原料易得[2]。IV基本理論躍遷到導帶，分別在價帶和導帶形成高活性的光生空穴和光生電子，即電子-空Ohveh2(1)X射線衍射(XRD)：X射線衍射是材料分析中最常用的表征手段之XRD量分析外，還可用來確定物其中d為(hkl)晶面的面間距，9為入射角(衍射半角)，入是入射X射線波hkl(2)掃描電子顯微鏡(SEM)：掃描電子顯微鏡以的制造依據是電子與物化鈦催化劑高溫處理過程易發生燒結，表面積降低，光催化性能下降[6]。鈦制備方法及應用8]。墨烯材料為單層被剝離的石墨片層(圖1-4-1)，碳原子之間有很強的鍵合作用，使得石最早用來制備石墨烯的方法，就是將石墨反復IV(2)化學氣象沉積法(CVD)：在一定的條件下，使導體金屬置于碳氫化(3)電化學法制備石墨烯：朱龍秀等[12]用電化學法成功制備了石墨烯并測

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