材料表面工程第十二章第一頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日

12-1概述采用激光束、離子束、電子束這三類高能束流對材料表面進行改性或合金化的技術，是近十幾年來迅速發展起來的材料表面新技術，是材料科學的最新領域之一。

第二頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日用三束流對材料表面進行改性的技術主要包括兩個方面：（1）利用脈沖激光器可獲得極高的加熱和冷卻速度，從而可制成微晶、非晶及其它一些奇特的、熱平衡相圖上不存在的亞穩合金，從而賦予材料表面以特殊的性能。（2）利用離子注人技術可把異類原子直接引入表面層中進行表面合金化，引入的原子種類和數量不受任何常規合金化熱力學條件的限制。第三頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日三束流用于材料表面加熱時，由于加熱速度極快，整個基體的溫度在加熱過程中可以不受影響。用三束流直接加熱的材料表層一般深度在幾微米。電子束、離子束的脈沖寬度可短至109s，激光的脈沖寬度可短至1012s，在被照物體上，由表面向里能夠產生106～108K/cm的溫度梯度，使表面薄層迅速熔化。冷的基體又會使熔化部分以109～1011K/s的速度冷卻，致使固液界面以每秒幾米的速度向表面推進，使凝固迅速完成。

第四頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日高能束流技術對材料表面的改性是通過改變材料表面的成分或結構實現的，成分的改變包括表面合金化和熔覆；結構的改變包括組織和相的改變。利用高能束的表面合金化的重要特點是可以獲得結構上的亞穩組織。用平衡凝固的方法生產的合金不能滿足需要時，亞穩合金往往具有優異的抗蝕能力及較高的機械強度。第五頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日激光束、電子束、離子束表面改性技術不僅可用于提高機件表面的抗蝕性和耐磨性，還可用于半導體技術和催化劑技術。在半導體材料中，各種電性能通常是由材料的最外層微米數量級厚的成分和結構控制的。第六頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-2激光束技術12-2-1激光器的種類

目前工業上采用的激光器主要有YAG激光器和CO2激光器。YAG激光器是固體激光器，其工作物質是摻有釹離子的釔鋁石榴石晶體，連續輸出功率較小，大多為500W左右，最高可為lkW，波長為1.06m。CO2激光器是氣體激光器，以CO2為工作氣體，其連續輸出功率要高得多，1～5kW的屬中等功率，5～20kW的屬高功率激光器，波長為10.6m。第七頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-2-2激光束與金屬的交互作用

金屬激發態電子與原子點陣碰撞的能量弛豫時間約為

1012s，激光的脈沖寬度可短至1012s，因此激光束的能量會很快轉變為晶格的動能。金屬對激光波長的吸收因金屬而異，一般為10m左右。在臨界波長以上，金屬的反射率非常高，在90％以上；在臨界值以下，反射率急劇減小。第八頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日激光透人金屬的深度，僅為表面下105cm的范圍。所以激光對金屬的加熱，可以看做是一種表面熱源，在表面層光能變為熱能，此后熱能按一般的傳導規律向金屬深處傳導。第九頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-2-3激光加工的種類

用不同的激光功率密度和作用時間，可以對金屬進行不同的加工。第十頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-2-4激光相變硬化

1．激光相變硬化的特點1)加熱和冷卻速度高：加熱速率可達105～109C/s；對應的加熱時間為109～17s；冷卻速率可達104～107℃/s。2)硬度高：激光淬火層的硬度比常規淬火層提高15％～20％。

第十一頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日3)變形小：由于加熱層薄，加熱速率快，即使很復雜的零件，變形也非常小。4)表層顯微組織：加熱時間短，碳原子的擴散及晶粒的長大受到限制，得到的奧氏體晶粒小而不均勻。冷卻速率快，易得到隱針或細針馬氏體組織。第十二頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日2．激光熔化淬火提高激光功率，或者減小光束直徑、減小掃描速率，對金屬掃描時，表面薄層被熔化，當光束離開時，由于冷的基體的散熱作用，會產生固相相變硬化，使表層可產生一層液體金屬的激冷組織，這種硬化技術稱為激光熔化淬火，可使晶粒大大細化。第十三頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日3．激光非晶化

用激光的手段在金屬表面上制得一非晶層的技術，稱為激光上釉，是非晶態金屬獲得的一個重要手段。非晶體合金與對應的晶體相比，強度、韌性和硬度都高，導磁性可與鎳鐵鋁超級導磁合金媲美，電阻為晶體的2～3倍，耐蝕性超過不銹鋼，但耐疲勞性不及晶體。

第十四頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日4．激光退火激光退火一般用于半導體材料。當硅片和砷化鎵片進行離子注入后，由于出現晶格缺陷，注入層會失去電子活性，為了消除缺陷，使晶體結構有序化，就必須使半導體晶體在高溫下進行退火。第十五頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日激光退火可防止半導體晶片的擴散雜質的再分布，合金化效率高，可獲得高濃度電荷載流子，使電荷活性提高5～7倍。激光退火在室溫下就可進行，又不損害半導體的性能，因而在微型半導體器件工業中得到了廣泛應用。第十六頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日5．激光沖擊硬化以107W/mm2以上的高功率密度的脈沖激光照射金屬表面，使表面金屬劇烈氣化，形成的沖擊波反作用于表面使表面硬化。沖擊波的力量可達104MPa，從而使表面產生強烈的塑性變形，增加位錯的密度，提高材料的強度及疲勞壽命。第十七頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-2-5激光表面合金化與激光熔覆1．激光表面合金化

把合金元素、陶瓷等粉末以一定方式添加到基體金屬表面上，通過激光加熱使其與基體表面共熔而混合，形成表面特種合金層，稱為激光表面合金化。第十八頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日主要目的：①利用快速加熱和快速冷卻制造特殊的亞穩合金，賦予機件表面以特殊的性能；②制成理想的表面合金。第十九頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日向表面加入合金粉末的方法：共沉積法和預沉積法。共沉積法是激光照射的同時送人粉末，需要精度較高的送粉設備。預沉積法是預先涂上一層合金涂膜，然后用激光重熔。預涂的方法主要有：粉末涂刷、熱噴涂、真空鍍、電鍍、化學鍍、預置薄板或金屬箔等。

第二十頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日圖13-11是預沉積法激光表面合金化的示意圖，基體材料為B，表面膜為A。其中d表示光斑尺寸；R0表示材料對激光的反射率。

通過熔化，表面膜A和部分基體B把薄膜元素可控制地結合入基體B中。液態混合之后發生快速的再凝固，從而使合金化元素被結合到基體表面區附近。第二十一頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日利用激光對金屬和半導體的表面進行改性，通過調整各種參數可獲得各種平衡態下得不到的奇特合金，從而使機件獲得各種奇特的表面性能。

第二十二頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日鋼中加入Cr，Ni，Mo等貴重元素通常不是為了提高整體強度，而是為了防止環境對表面的損傷，此時采用表面合金化可使成本大大降低。例如，用70％Cr-30％Ni的金屬粉末對一般碳鋼進行激光表面合金化，表面可獲得29Cr-13Ni的合金，該合金在1mol/LH2SO4中的極化曲線與18-8不銹鋼的極化曲線相似，有幾乎一樣的鈍化能力，即具有相同的抗蝕性。第二十三頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日激光表面合金化另外一個應用領域是制作硅上面的金屬觸點，以形成歐姆式或Schottky式電觸點。例如，用Nd-YAG激光輻照，把Pt，Pd，Ni膜合金化到Si中，試樣表面被熔化并在橫向產生非常均勻的合金層。第二十四頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日2．表面激光熔覆激光表面熔覆是在金屬基體表面上預涂一層金屬、合金或陶瓷粉末，在進行激光重熔時，控制能量輸入參數，使添加層熔化并使基體表面層微熔，從而得到一外加的熔覆層。激光表面熔覆與表面合金化的不同在于母材微熔而添加物全熔，這樣一來避免了熔化基體對添加層的稀釋，可獲得具有原來特性和功能的強化層。

第二十五頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日激光熔覆用合金粉末的基本要求：①具有希望的性能；②熱脹系數應盡可能接近基體；③熔體對基體要有良好的潤濕性；④有良好的脫氧除氣、除渣能力；⑤熔點不應太高。目前采用最多的是鎳基、鐵基及鈷基自熔合金粉末。陶瓷涂層的激光熔覆也有較多的研究。

第二十六頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日鋁合金的激光熔覆：由于鋁基體太軟，在其表面熔覆一硬的耐磨層，意義特別重大。遇到的最困難問題是，熔覆層的熔點都要大大高于鋁。能量一高，界面鋁層就會大量熔化，熔鋁由于比重較小，會迅速上浮，使覆層稀釋，形成大量軟區。若采用適當的工藝則可以獲得稀釋度很小而又有良好結合力的熔覆層。鋁合金的激光熔覆目前已在國外獲得應用。

第二十七頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日

12-3離子束技術離子注入是核科學技術在材料工業方面的應用技術，其基本工藝是將幾萬到幾十萬電子伏的高能離子流注入到固體材料表面，從而使材料表面的物理、化學或機械性能發生變化，達到表面改質的目的。離子注入技術首先應用于半導體材料。該技術使大規模集成電路的研究和生產獲得了極大的成功。二十世紀70年代以后才開始用于金屬材料的表面改質。

第二十八頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-3-1注入離子的產生氣態元素的離子化比較容易，例如把N2引入裝置的離子源內，在高溫燈絲加速電子的情況下，氮離子被電離，形成等離子體，正離子經由狹縫從離子源中被抽出，隨后被加速。金屬離子的電離較為復雜，需要比較復雜的設備。產生金屬離子束，要先加熱離子源中的揮發性金屬化合物。

第二十九頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日離子注入機的結構示意圖：正離子從離子源中引出后，具有一定的初速度。磁分析器從引出的正離子中選出所需要注入的純度極高的離子。加速管將選出的正離子加速到所需能量，以控制注入深度。聚集掃描系統將離子束聚焦掃描，有控制地注入工件的表面。第三十頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-3-2離子注入改性的一般機理離子注入金屬后能顯著地提高其表面硬度、耐磨性、抗蝕性等。基本改性機理如下：1．損傷強化作用具有高能量的離子注入金屬表面后，將和基體金屬離子發生碰撞，從而使晶格大量損傷。嚴重的輻射損傷可使金屬表面原子構造從長程有序變為短程有序；甚至形成非晶態，使性能發生大幅度改變。所產生的大量空位在注入熱效應作用下會集結在位錯周圍，對位錯產生釘扎作用而把該區強化。第三十一頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日2．注入摻雜強化

N，B等注入元素被注入金屬后，與金屬形成’-Fe4N，CrN，TiN等氮化物，Be6B，Be2B等硼化物星點狀嵌于材料中，構成硬質合金彌散相，使基體強化。

第三十二頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日3．噴丸強化作用高速離子轟擊基體表面，有類似于噴丸強化的冷加工硬化作用。離子注入處理能把20％～50％的材料加入近表面區，使表面成為壓縮狀態。這種壓縮應力能起到填實表面裂紋和降低微粒從表面上剝落的作用，從而提高抗磨損能力。4．增強氧化膜、提高潤滑性離子注入會促進粘附性表面氧化物的生長，其原因是輻射溫度與輻射本身對擴散的促進作用，該類氧化膜可顯著減少摩擦系數。

第三十三頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日

不同基體注入不同離子時對性能的影響：

第三十四頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-4-3離子注入技術的特點和應用由于注入的離子純潔，首先被用于半導體元件的制造，目前市場上大部分硅元件都采用該工藝制造。隨著高能量離子注入設備的開發，離子注入能力增大，許多新的應用領域被開發。

第三十五頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日對于離子注入技術，目前研究的兩個主要突破方向是：(1)把離子注入作為改進材料的力學或化學性能的有效手段；(2)把離子注入作為冶金手段來研究液態介質腐蝕、高溫氧化及溶質捕獲等基本機制。第三十六頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日離子注入技術主要特點：(1)注入離子的能量很高，可以高出熱平衡能量的2～3個數量級。原則上講，周期表上的任何元素，都可注人任何基體材料。(2)注入元素的種類、能量、劑量均可選擇，用這種方法形成的表面合金，不受擴散和溶解度的經典熱力學參數的限制，即可得到用其它方法得不到的新合金相。(3)離子注入層相對于基體材料沒有邊緣清晰的界面，因此表面不存在粘附破裂或剝落問題，與基體結合牢固。第三十七頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日(4)離子注入控制電參量，易于精確控制注入離子的濃度分布。(5)離子注入一般是在常溫真空中進行，加工后的工件表面無形變、無氧化，能保持原有尺寸精度和表面粗糙度，特別適于高精密部件的最后工藝。(6)可有選擇地改變基體材料的表面能量(濕潤性)，并在表面內形成壓應力。第三十八頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日離子注入技術的缺點：設備昂貴，成本較高，目前主要用于重要的精密關鍵部件。離子注入層較薄，如十萬電子伏的氮離子注入GCrl5鋼中的平均深度僅為0.1m，這就限制了它的應用范圍。離子注入不能用來處理具有復雜凹腔表面的零件。離子注入零件要在真空室中處理，受到真空室尺寸的限制。

第三十九頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日用離子注入改變材料的摩擦磨損性能：(1)減少表面摩擦力；(2)提高表面抗磨損性。

第四十頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日離子注入在腐蝕工程中的應用利用離子注入技術可以改進金屬及合金的抗腐蝕性。在鋼表面上進行Cr+的注入可以顯著提高鋼的抗腐蝕性，B+和N+的注入有助于降低鋼在酸性和酸性氯化物介質中的腐蝕速率。第四十一頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日Mo在Al中是不可溶的，但是在20keV下鋁中注入1017Mo+/cm2可得到單相固溶體，使純鋁的一般腐蝕性能和點蝕抗力有了較大的改善。在40keV，107離子/cm2條件下，將P+離子注入304SS和316SS鋼中，可產生非晶態表面合金，使耐腐蝕性明顯提高。第四十二頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日離子注入在研究合金基礎理論中的應用

在合金的基礎理論及顯微狀態研究中，離子注入有突出的特點：(1)離子注入可產生與相圖無關的特定成分的混合物，這在與亞穩相有關的研究中顯示出特殊的優越性。(2)離子注入元素的深度分布范圍可控制，在單相的基體上可引入若干不同成分的層，通過觀察各層間的溶質流動，可解釋多相平衡、溶質捕獲這樣的復雜問題。(3)用離子溝道效應來分析離子注入注入后的基材，對于研究溶質原子在晶格中的位置和研究捕獲對象特別有用的。

第四十三頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日離子注入發展動向離子注入技術的發展包括工藝的改進和應用領域的拓寬。工藝改進主要體現在離子注人已由單純的一次注入發展為轟擊擴散鍍層及離子束混合技術和不同能量的重疊注入方法。應用領域已廣泛地用于電子、宇航尖端零件、重要化工零件、醫學矯形件以及模具、刀具和磁頭的表面改質，而且作為陶瓷和高分子材料的改性技術也引起人們關注。第四十四頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-4電子束技術

12-4-1電子束對材料表面的作用

電子束射到材料表面會同材料的原子核及電子發生交互作用。由于與核的質量差別極大，兩者的碰撞基本上屬于彈性碰撞，能量傳遞主要是通過與基體的電子碰撞實現的。第四十五頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日用激光照射時，均勻介質最大能量沉淀發生在表面，而且吸收和反射對表面結構極為敏感。而用電子束輻照時，能量沉積僅依賴于入射能量E和靶材原子序數(Z)。改變電子束的入射角，沉積能量也會隨之改變。隨著入射角的減少，沉積能量峰值向表面移動，入射角越小表面溫度梯度越高。第四十六頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日12-4-2電子束表面改性電子束在真空條件下可以像激光束技術一樣用于材料的表面改性。方法與激光類似，包括：電子束淬火：即利用鋼鐵材料的馬氏體相變進行表面強化。

第四十七頁，共五十二頁，編輯于2023年，星期日(2)電子束表面合金化：如果提高電子束功率，材料表面會發生熔化，若在熔池中添加合金元素即可進行電子束合金化。(3)電子束覆層：基材不熔化而形成另一種材料的薄層。(4)制造非晶態層：使熔化的表面層激冷而獲得薄的微晶或非晶態