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文檔簡介

1、CH-3硬鉻添加劑及工藝一、簡介： CH-3鍍硬鉻添加劑系引進(jìn)國外先進(jìn)技術(shù)，采用進(jìn)口優(yōu)質(zhì)材料，面對(duì)國內(nèi)市場研制而成。在減震器、缸套、紡織配件、活塞環(huán)、彩印制版等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，效果極佳，是目前市場上理想的硬鉻電鍍添加劑。該工藝性能穩(wěn)定，高效節(jié)能，達(dá)到國際第三代最新水平。二、特點(diǎn)：1、陰極電流效率高，可達(dá)2227%；2、不腐蝕陰極低電流密度區(qū)的底材；3、鍍層平滑、細(xì)致、光亮、均勻；4、鍍層硬度可達(dá)HV1000以上；5、微裂紋數(shù)高，可在400條/厘米以上；6、沉積速度快，29.9128um/h；7、電流范圍寬：達(dá)20100A/dm2；8、鍍液穩(wěn)定，維護(hù)容易，控制簡單。三、電鍍工藝規(guī)范： 范

2、圍標(biāo)準(zhǔn)鉻酐CrO3220270g/l250g/l硫酸H2SO42.54.0g/l2.5g/l三價(jià)鉻24g/l2.5g/lCH-3A1820ml/l（開缸時(shí)一次加入） 電流密度3075A/dm260A/dm2溫度5560 58 陰陽極面積比123  正式生產(chǎn)后補(bǔ)加CH-3B     四、鍍液配制：1、用鍍液的總體積60%的去離子水或蒸餾水將鉻酐溶解；2、添加去離子水或蒸餾水至所需之液位高度；3、加熱至5560；4、取樣分析硫酸濃度并調(diào)整至工藝范圍；5、攪拌槽液慢慢把CH-3A加入到鍍液中，攪拌均勻；6、電解

3、、試鍍、電解46小時(shí)產(chǎn)生一定量的三價(jià)鉻；7、加入適量的鉻霧抑制劑；8、正式電鍍作業(yè)。五、補(bǔ)加方法：按以下兩種方法選用一種：（一）正式生產(chǎn)時(shí)，用CH-3B5.05.5ml或濃縮劑3.0ml3.5ml/KAH補(bǔ)加。（二）用45公斤鉻酐加去離子或蒸餾水慢慢加入CH-3B1500ml配成100升，或用50公斤鉻酐加去離子水或蒸餾水慢慢加入CH-3B濃縮劑1000ml配成110升。正式生產(chǎn)按350ml/KAH補(bǔ)加（也可保持鉻酐濃度補(bǔ)加）。六、沉積速度（參考）：電流密度（安培/平方分米）沉積速度（微米/小時(shí)）302030454050605070 757090七、轉(zhuǎn)缸 同普通鍍液轉(zhuǎn)化本工藝電鍍液非常方便，只需無機(jī)雜質(zhì)不超過7.5g/l。且不含氟化物（包括“稀土添加劑”）。八、其他：1、建議使用含錫7%左右的鉛陽極；2、CH鍍鉻液鍍前處理和后處

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