1、第一章一、選擇題1.用來(lái)進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)分析的X射線學(xué)分支是（   ）A.X射線透射學(xué)；B.X射線衍射學(xué)；C.X射線光譜學(xué)；D.其它2. M層電子回遷到K層后，多余的能量放出的特征X射線稱(chēng)（ ）A. K；B. K；C. K；D. L。3. 當(dāng)X射線發(fā)生裝置是Cu靶，濾波片應(yīng)選（ ）A Cu；B. Fe；C. Ni；D. Mo。4. 當(dāng)電子把所有能量都轉(zhuǎn)換為X射線時(shí)，該X射線波長(zhǎng)稱(chēng)（ ）A.短波限0；B. 激發(fā)限k；C. 吸收限；D. 特征X射線5.當(dāng)X射線將某物質(zhì)原子的K層電子打出去后，L層電子回遷K層，多余能量將另一個(gè)L層電子打出核外，這整個(gè)過(guò)程將產(chǎn)生（ ） （多選題） A光

2、電子；B. 二次熒光；C. 俄歇電子；D. （A+C）二、正誤題1. 隨X射線管的電壓升高，0和k都隨之減小。（ ）2. 激發(fā)限與吸收限是一回事，只是從不同角度看問(wèn)題。（ ）3. 經(jīng)濾波后的X射線是相對(duì)的單色光。（ ）4. 產(chǎn)生特征X射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外，原子處于激發(fā)狀態(tài)。（ ）5. 選擇濾波片只要根據(jù)吸收曲線選擇材料，而不需要考慮厚度。（ ）三、填空題1. 當(dāng)X射線管電壓超過(guò)臨界電壓就可以產(chǎn)生 X射線和 X射線。2. X射線與物質(zhì)相互作用可以產(chǎn)生 、 、 、 、 、 、 、 。 3. 經(jīng)過(guò)厚度為H的物質(zhì)后，X射線的強(qiáng)度為 。 4. X射線的本質(zhì)既是 也是 ，具有 性。 5. 短

3、波長(zhǎng)的X射線稱(chēng) ，常用于 ；長(zhǎng)波長(zhǎng)的X射線稱(chēng) ，常用于 。第二章一、 選擇題1.有一倒易矢量為，與它對(duì)應(yīng)的正空間晶面是（ ）。A. （210）；B. （220）；C. （221）；D. （110）；。2.有一體心立方晶體的晶格常數(shù)是0.286nm，用鐵靶K（K=0.194nm）照射該晶體能產(chǎn)生（ ）衍射線。A. 三條； B .四條； C. 五條；D. 六條。3.一束X射線照射到晶體上能否產(chǎn)生衍射取決于（ ）。A是否滿足布拉格條件；B是否衍射強(qiáng)度I0；CA+B；D晶體形狀。4.面心立方晶體（111）晶面族的多重性因素是（ ）。A4；B8；C6；D12。二、 正誤題1.倒易矢量能唯一地代表對(duì)應(yīng)的正

4、空間晶面。（ ）2.X射線衍射與光的反射一樣，只要滿足入射角等于反射角就行。（ ）3.干涉晶面與實(shí)際晶面的區(qū)別在于：干涉晶面是虛擬的，指數(shù)間存在公約數(shù)n。（ ）4.布拉格方程只涉及X射線衍射方向，不能反映衍射強(qiáng)度。（ ）5.結(jié)構(gòu)因子F與形狀因子G都是晶體結(jié)構(gòu)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響因素。（ ）三、 填空題1. 倒易矢量的方向是對(duì)應(yīng)正空間晶面的 ；倒易矢量的長(zhǎng)度等于對(duì)應(yīng) 。2. 只要倒易陣點(diǎn)落在厄瓦爾德球面上，就表示該 滿足 條件，能產(chǎn)生 。3. 影響衍射強(qiáng)度的因素除結(jié)構(gòu)因素、晶體形狀外還有 ， ， ， 。4. 考慮所有因素后的衍射強(qiáng)度公式為 ，對(duì)于粉末多晶的相對(duì)強(qiáng)度為 。5. 結(jié)構(gòu)振幅用 表示，結(jié)構(gòu)因

5、素用 表示，結(jié)構(gòu)因素=0時(shí)沒(méi)有衍射我們稱(chēng) 或 。對(duì)于有序固溶體，原本消光的地方會(huì)出現(xiàn) 。四、 名詞解釋倒易點(diǎn)陣系統(tǒng)消光衍射矢量形狀因子相對(duì)強(qiáng)度第三章五、 選擇題1.最常用的X射線衍射方法是（ ）。A. 勞厄法；B. 粉末多法；C. 周轉(zhuǎn)晶體法；D. 德拜法。2.德拜法中有利于提高測(cè)量精度的底片安裝方法是（ ）。A. 正裝法；B. 反裝法；C. 偏裝法；D. A+B。3.德拜法中對(duì)試樣的要求除了無(wú)應(yīng)力外，粉末粒度應(yīng)為（ ）。A. <325目；B. >250目；C. 在250-325目之間；D. 任意大小。4.測(cè)角儀中，探測(cè)器的轉(zhuǎn)速與試樣的轉(zhuǎn)速關(guān)系是（ ）。A. 保持同步11 ；B.

6、21 ；C. 12 ；D. 10 。5.衍射儀法中的試樣形狀是（ ）。A. 絲狀粉末多晶；B. 塊狀粉末多晶；C. 塊狀單晶；D. 任意形狀。六、 正誤題1.大直徑德拜相機(jī)可以提高衍射線接受分辨率，縮短暴光時(shí)間。（ ）2.在衍射儀法中，衍射幾何包括二個(gè)圓。一個(gè)是測(cè)角儀圓，另一個(gè)是輻射源、探測(cè)器與試樣三者還必須位于同一聚焦圓。（ ）3.選擇小的接受光欄狹縫寬度，可以提高接受分辨率，但會(huì)降低接受強(qiáng)度。（ ）4.德拜法比衍射儀法測(cè)量衍射強(qiáng)度更精確。（ ）5.衍射儀法和德拜法一樣，對(duì)試樣粉末的要求是粒度均勻、大小適中，沒(méi)有應(yīng)力。（ ）七、 填空題1. 在粉末多晶衍射的照相法中包括 、 和 。2. 德拜

7、相機(jī)有兩種，直徑分別是 和 mm。測(cè)量角時(shí)，底片上每毫米對(duì)應(yīng) º和 º。3. 衍射儀的核心是測(cè)角儀圓，它由 、 和 共同組成。4. 可以用作X射線探測(cè)器的有 、 和 等。5. 影響衍射儀實(shí)驗(yàn)結(jié)果的參數(shù)有 、 和 等。第四章八、 選擇題1.測(cè)定鋼中的奧氏體含量，若采用定量X射線物相分析，常用方法是（ ）。A. 外標(biāo)法；B. 內(nèi)標(biāo)法；C. 直接比較法；D. K值法。2. X射線物相定性分析時(shí)，若已知材料的物相可以查（ ）進(jìn)行核對(duì)。A. Hanawalt索引；B. Fenk索引；C. Davey索引；D. A或B。3.德拜法中精確測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)其系統(tǒng)誤差來(lái)源于（ ）。A. 相機(jī)尺寸

8、誤差；B. 底片伸縮；C. 試樣偏心；D. A+B+C。4.材料的內(nèi)應(yīng)力分為三類(lèi)，X射線衍射方法可以測(cè)定（ ）。A. 第一類(lèi)應(yīng)力（宏觀應(yīng)力）；B. 第二類(lèi)應(yīng)力（微觀應(yīng)力）；C. 第三類(lèi)應(yīng)力；D. A+B+C。5.Sin2測(cè)量應(yīng)力，通常取為（ ）進(jìn)行測(cè)量。A. 確定的角；B. 0-45º之間任意四點(diǎn)；C. 0º、45º兩點(diǎn)；D. 0º、15º、30º、45º四點(diǎn)。九、 正誤題1.要精確測(cè)量點(diǎn)陣常數(shù)。必須首先盡量減少系統(tǒng)誤差，其次選高角度角，最后還要用直線外推法或柯亨法進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。（ ）2. X射線衍射之所以可以進(jìn)行物相定性分

9、析，是因?yàn)闆](méi)有兩種物相的衍射花樣是完全相同的。（ ）3.理論上X射線物相定性分析可以告訴我們被測(cè)材料中有哪些物相，而定量分析可以告訴我們這些物相的含量有多少。（ ）4.只要材料中有應(yīng)力就可以用X射線來(lái)檢測(cè)。（ ）5.衍射儀和應(yīng)力儀是相同的，結(jié)構(gòu)上沒(méi)有區(qū)別。（ ）十、 填空題6. 在一定的情況下， º，sin ；所以精確測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)應(yīng)選擇 。7. X射線物相分析包括 和 ，而 更常用更廣泛。8. 第一類(lèi)應(yīng)力導(dǎo)致X射線衍射線 ；第二類(lèi)應(yīng)力導(dǎo)致衍射線 ；第三類(lèi)應(yīng)力導(dǎo)致衍射線 。9. X射線測(cè)定應(yīng)力常用儀器有 和 ，常用方法有 和 。10. X射線物相定量分析方法有 、 、 等。第五章十一、

10、 選擇題1.若H-800電鏡的最高分辨率是0.5nm，那么這臺(tái)電鏡的有效放大倍數(shù)是（ ）。A. 1000；B. 10000；C. 40000；D.600000。2. 可以消除的像差是（ ）。A. 球差；B. 像散；C. 色差；D. A+B。3. 可以提高TEM的襯度的光欄是（ ）。A. 第二聚光鏡光欄；B. 物鏡光欄；C. 選區(qū)光欄；D. 其它光欄。4. 電子衍射成像時(shí)是將（ ）。A. 中間鏡的物平面與與物鏡的背焦面重合；B. 中間鏡的物平面與與物鏡的像平面重合；C. 關(guān)閉中間鏡；D. 關(guān)閉物鏡。5.選區(qū)光欄在TEM鏡筒中的位置是（ ）。A. 物鏡的物平面；B. 物鏡的像平面C. 物鏡的背焦面

11、；D. 物鏡的前焦面。十二、 正誤題1.TEM的分辨率既受衍射效應(yīng)影響，也受透鏡的像差影響。（ ）2.孔徑半角是影響分辨率的重要因素，TEM中的角越小越好。（ ）3.有效放大倍數(shù)與儀器可以達(dá)到的放大倍數(shù)不同，前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率，后者僅僅是儀器的制造水平。（ ）4.TEM中主要是電磁透鏡，由于電磁透鏡不存在凹透鏡，所以不能象光學(xué)顯微鏡那樣通過(guò)凹凸鏡的組合設(shè)計(jì)來(lái)減小或消除像差，故TEM中的像差都是不可消除的。（ ）5.TEM的景深和焦長(zhǎng)隨分辨率r0的數(shù)值減小而減小；隨孔徑半角的減小而增加；隨放大倍數(shù)的提高而減小。（ ）十三、 填空題11. TEM中的透鏡有兩種，分別是 和 。12.

12、TEM中的三個(gè)可動(dòng)光欄分別是 位于 ， 位于 ， 位于 。13. TEM成像系統(tǒng)由 、 和 組成。14. TEM的主要組成部分是 、 和觀 ；輔助部分由 、 和 組成。15. 電磁透鏡的像差包括 、 和 。十四、 名詞解釋景深與焦長(zhǎng) 點(diǎn)分辨與晶格分辨率消像散器選區(qū)衍射第六章十五、 選擇題1.單晶體電子衍射花樣是（ ）。A. 規(guī)則的平行四邊形斑點(diǎn)；B. 同心圓環(huán)；C. 暈環(huán)；D.不規(guī)則斑點(diǎn)。2. 薄片狀晶體的倒易點(diǎn)形狀是（ ）。A. 尺寸很小的倒易點(diǎn)；B. 尺寸很大的球；C. 有一定長(zhǎng)度的倒易桿；D. 倒易圓盤(pán)。3. 當(dāng)偏離矢量S<0時(shí)，倒易點(diǎn)是在厄瓦爾德球的（ ）。A. 球面外；B. 球

13、面上；C. 球面內(nèi)；D. B+C。4. 能幫助消除180º不唯一性的復(fù)雜衍射花樣是（ ）。A. 高階勞厄斑；B. 超結(jié)構(gòu)斑點(diǎn)；C. 二次衍射斑；D. 孿晶斑點(diǎn)。5. 菊池線可以幫助（ ）。A. 估計(jì)樣品的厚度；B. 確定180º不唯一性；C. 鑒別有序固溶體；D. 精確測(cè)定晶體取向。6. 如果單晶體衍射花樣是正六邊形，那么晶體結(jié)構(gòu)是（ ）。A. 六方結(jié)構(gòu)；B. 立方結(jié)構(gòu)；C. 四方結(jié)構(gòu)；D. A或B。十六、 判斷題1.多晶衍射環(huán)和粉末德拜衍射花樣一樣，隨著環(huán)直徑增大，衍射晶面指數(shù)也由低到高。（ ）2.單晶衍射花樣中的所有斑點(diǎn)同屬于一個(gè)晶帶。（ ）3.因?yàn)閷\晶是同樣的晶體沿孿

14、晶面兩則對(duì)稱(chēng)分布，所以孿晶衍射花樣也是衍射斑點(diǎn)沿兩則對(duì)稱(chēng)分布。（ ）4.偏離矢量S=0時(shí)，衍射斑點(diǎn)最亮。這是因?yàn)镾=0時(shí)是精確滿足布拉格方程，所以衍射強(qiáng)度最大。（ ）5.對(duì)于未知晶體結(jié)構(gòu)，僅憑一張衍射花樣是不能確定其晶體結(jié)構(gòu)的。還要從不同位向拍攝多幅衍射花樣，并根據(jù)材料成分、加工歷史等或結(jié)合其它方法綜合判斷晶體結(jié)構(gòu)。（ ）6.電子衍射和X射線衍射一樣必須嚴(yán)格符合布拉格方程。（ ）十七、 填空題16. 電子衍射和X射線衍射的不同之處在于 不同、 不同，以及 不同。17. 電子衍射產(chǎn)生的復(fù)雜衍射花樣是 、 、 、 和 。18. 偏離矢量S的最大值對(duì)應(yīng)倒易桿的長(zhǎng)度，它反映的是角 布拉格方程的程度。1

15、9. 單晶體衍射花樣標(biāo)定中最重要的一步是 。20. 二次衍射可以使密排六方、金剛石結(jié)構(gòu)的花樣中在 產(chǎn)生衍射花樣，但體心立方和面心立方結(jié)構(gòu)的花樣中 。十八、 名詞解釋偏離矢量S 180º不唯一性 菊池線 高階勞厄斑第七章十九、 選擇題1.將某一衍射斑點(diǎn)移到熒光屏中心并用物鏡光欄套住該衍射斑點(diǎn)成像，這是（ ）。A. 明場(chǎng)像；B. 暗場(chǎng)像；C. 中心暗場(chǎng)像；D.弱束暗場(chǎng)像。2. 當(dāng)t=5s/2時(shí)，衍射強(qiáng)度為（ ）。A.Ig=0；B. Ig<0；C. Ig>0；D. Ig=Imax。3. 已知一位錯(cuò)線在選擇操作反射g1=（110）和g2=（111）時(shí)，位錯(cuò)不可見(jiàn)，那么它的布氏矢量

16、是（ ）。A. b=（0 -1 0）；B. b=（1 -1 0）；C. b=（0 -1 1）；D. b=（0 1 0）。4. 當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)的成像襯度是（ ）。A. 質(zhì)厚襯度；B. 衍襯襯度；C. 應(yīng)變場(chǎng)襯度；D. 相位襯度。5. 當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)所看到的粒子大小（ ）。A. 小于真實(shí)粒子大小；B. 是應(yīng)變場(chǎng)大小；C. 與真實(shí)粒子一樣大小；D. 遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于真實(shí)粒子。二十、 判斷題1.實(shí)際電鏡樣品的厚度很小時(shí),能近似滿足衍襯運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的條件,這時(shí)運(yùn)動(dòng)學(xué)理論能很好地解釋襯度像。（ ）2.厚樣品中存在消光距離g，薄樣品中則不存在消光距離g。（ ）3.明場(chǎng)像是質(zhì)

17、厚襯度，暗場(chǎng)像是衍襯襯度。（ ）4.晶體中只要有缺陷，用透射電鏡就可以觀察到這個(gè)缺陷。（ ）5.等厚消光條紋和等傾消光條紋通常是形貌觀察中的干擾，應(yīng)該通過(guò)更好的制樣來(lái)避免它們的出現(xiàn)。（ ）二十一、 填空題21. 運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的兩個(gè)基本假設(shè)是 和 。22. 對(duì)于理想晶體，當(dāng) 或 連續(xù)改變時(shí)襯度像中會(huì)出現(xiàn) 或 。23. 對(duì)于缺陷晶體，缺陷襯度是由缺陷引起的 導(dǎo)致衍射波振幅增加了一個(gè) ，但是若 =2的整數(shù)倍時(shí)，缺陷也不產(chǎn)生襯度。24. 一般情況下，孿晶與層錯(cuò)的襯度像都是平行 ，但孿晶的平行線 ，而層錯(cuò)的平行線是 的。25. 實(shí)際的位錯(cuò)線在位錯(cuò)線像的 ，其寬度也大大小于位錯(cuò)線像的寬度，這是因?yàn)槲诲e(cuò)線像的

18、寬度是 寬度。二十二、 名詞解釋中心暗場(chǎng)像 等厚消光條紋和等傾消光條紋 不可見(jiàn)性判據(jù) 應(yīng)變場(chǎng)襯度第八章二十三、 選擇題1. 僅僅反映固體樣品表面形貌信息的物理信號(hào)是（ ）。A. 背散射電子；B. 二次電子；C. 吸收電子；D.透射電子。2. 在掃描電子顯微鏡中，下列二次電子像襯度最亮的區(qū)域是（ ）。A.和電子束垂直的表面；B. 和電子束成30º的表面；C. 和電子束成45º的表面；D. 和電子束成60º的表面。3. 可以探測(cè)表面1nm層厚的樣品成分信息的物理信號(hào)是（ ）。A. 背散射電子；B. 吸收電子；C. 特征X射線；D. 俄歇電子。4. 掃描電子顯微鏡配備的

19、成分分析附件中最常見(jiàn)的儀器是（ ）。A. 波譜儀；B. 能譜儀；C. 俄歇電子譜儀；D. 特征電子能量損失譜。5. 波譜儀與能譜儀相比，能譜儀最大的優(yōu)點(diǎn)是（ ）。A. 快速高效；B. 精度高；C. 沒(méi)有機(jī)械傳動(dòng)部件；D. 價(jià)格便宜。二十四、 判斷題1.掃描電子顯微鏡中的物鏡與透射電子顯微鏡的物鏡一樣。（ ）2.掃描電子顯微鏡的分辨率主要取決于物理信號(hào)而不是衍射效應(yīng)和球差。（ ）3. 掃描電子顯微鏡的襯度和透射電鏡一樣取決于質(zhì)厚襯度和衍射襯度。（ ）4. 掃描電子顯微鏡具有大的景深，所以它可以用來(lái)進(jìn)行斷口形貌的分析觀察。（ ）5.波譜儀是逐一接收元素的特征波長(zhǎng)進(jìn)行成分分析；能譜儀是同時(shí)接收所有元

20、素的特征X射線進(jìn)行成分分析的。（ ）二十五、 填空題26. 電子束與固體樣品相互作用可以產(chǎn)生 、 、 、 、 、 等物理信號(hào)。27. 掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)是 的掃描寬度與 的掃描寬度的比值。在襯度像上顆粒、凸起的棱角是 襯度，而裂紋、凹坑則是 襯度。28. 分辨率最高的物理信號(hào)是 為 nm，分辨率最低的物理信號(hào)是 為 nm以上。29. 電子探針包括 和 兩種儀器。30. 掃描電子顯微鏡可以替代 進(jìn)行材料 觀察，也可以對(duì) 進(jìn)行分析觀察。二十六、 名詞解釋1. 背散射電子、吸收電子、特征X射線、俄歇電子、二次電子、透射電子。2. 電子探針、波譜儀、能譜儀。如何操作透射電子顯微鏡使其從成像方式轉(zhuǎn)為衍射方式 答：透射電子顯微