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文檔簡介
半導體物理學試題庫
一、填空題
1.能帶中載流子的有效質量反比于能量函數對于波矢的
,引入有效質量的意義在于其反映了晶體材料的
的作用。(二階導數,內部勢場)
2.半導體導帶中的電子濃度取決于導帶的(即量子態按
能量如何分布)和(即電子在不同能量的量子態上如
何分布)。(狀態密度,費米分布函數〕
3.兩種不同半導體接觸后,費米能級較高的半導體界面一側帶
電,到達熱平衡后兩者的費米能級o(正,相等)
4.半導體硅的價帶極大值位于空間第一布里淵區的中央,其導帶極
小值位于方向上距布里淵區邊界約0.85倍處,因此屬于
半導體。U100],間接帶隙〕
5.間隙原子和空位成對出現的點缺陷稱為;形成原子空
位而無間隙原子的點缺陷稱為o(弗侖克耳缺陷,肖特基缺
陷〕
6.在一定溫度下,與費米能級持平的量子態上的電子占據概率為
,高于費米能級2kT能級處的占據概率為o(1/2,
l/l+e*p(2))
7.從能帶角度來看,錯、硅屬于半導體,而神化稼屬于
半導體,后者有利于光子的吸收和發射。(間接帶隙,直接
帶隙)
8.通常把服從的電子系統稱為非簡并性系統,服從
的電子系統稱為簡并性系統。[玻爾茲曼分布,費米分布〕
9.對于同一種半導體材料其電子濃度和空穴濃度的乘積與
有關,而對于不同的半導體材料其濃度積在一定的溫度下
將取決于的大小。(溫度,禁帶寬度〕
10.半導體的晶格構造式多種多樣的,常見的Ge和Si材料,其原子
均通過共價鍵四面體相互結合,屬于構造;與Ge和Si晶格
構造類似,兩種不同元素形成的化合物半導體通過共價鍵四面體還可
以形成和纖鋅礦等兩種晶格構造。(金剛石,閃鋅礦)
11.如果電子從價帶頂躍遷到導帶底時波矢k不發生變化,則具有這
種能帶構造的半導體稱為禁帶半導體,否則稱為
禁帶半導體。(直接,間接〕
12.半導體載流子在輸運過程中,會受到各種散射機構的散射,主要
散射機構有、、中性雜質散射、位錯散射、載流
子間的散射和等價能谷間散射。(電離雜質的散射,晶格振動的散射〕
13.半導體中的載流子復合可以有很多途徑,主要有兩大類:
的直接復合和通過禁帶內的進展復合。(電子和
空穴,復合中心〕
14.反向偏置pn結,當電壓升高到*值時,反向電流急劇增加,這種
現象稱為pn結擊穿,主要的擊穿機理有兩種:擊穿和
擊穿。(雪崩,隧道)
15.雜質可顯著改變載流子濃度;雜質可顯著
改變非平衡載流子的壽命,是有效的復合中心。(淺能級,深能級)
二.選擇題
1.本征半導體是指(A1的半導體。
A.不含雜質和缺陷1.電阻率最高
C.電子密度和空穴密度相等D.電子密度與本征載流子密度相等
2.如果一半導體的導帶中發現電子的幾率為零,則該半導體必定
(D)。
A.不含施主雜質B.不含受主雜質
C.不含任何雜質D.處于絕對零度
3.有效復合中心的能級必靠近(A)o
A.禁帶中部B.導帶C.價帶D.費米能級
4.對于只含一種雜質的非簡并n型半導體,費米能級EF隨溫度上升
而(D)。
A.單調上升B.單調下降
C.經過一個極小值趨近EiD.經過一個極大值趨近Ei
5.當一種n型半導體的少子壽命由直接輻射復合決定時,其小注入
下的少子壽命正比于(A)。
A.1/nOB.1/AnC.1/pOD.1/Ap
6.在Si材料中摻入P,則引入的雜質能級(B)
A.在禁帶中線處B.靠近導帶底C.靠近價帶頂D.以上都不
是
7.公式〃="/m*中的工是半導體載流子的(C
A.遷移時間B.壽命
C.平均自由時間D.擴散時間
8.對于一定的n型半導體材料,溫度一定時,減少摻雜濃度,將導
致1D〕靠近Ei。
A.EcB.Ev
C.EgD.EF
9.在晶體硅中摻入元素(B〕雜質后,能形成N型半導體。
A.錯B.磷C.硼D.錫
10.對大注入條件下,在一定的溫度下,非平衡載流子的壽命與
D
A.平衡載流子濃度成正比B.非平衡載流子濃度成正比
C.平衡載流子濃度成反比D.非平衡載流子濃度成反比
11.重空穴是指(C)
A.質量較大的原子組成的半導體中的空穴
B.價帶頂附近曲率較大的等能面上的空穴
C.價帶頂附近曲率較小的等能面上的空穴
D.自旋一軌道耦合分裂出來的能帶上的空穴
12.電子在導帶能級中分布的概率表達式是(C〕。
ED-EE「EE「EF
A.exp(一B.exp(-C.exp(-)D.
3k/
EF-EC
exp(-
k0T
13.如在半導體中以長聲學波為主要散射機構是,電子的遷移率〃”與
溫度的(B)。
A.平方成正比B.之次方成反比
2
C.平方成反比D.3次方成正比
2
14.把磷化錢在氮氣氛中退火,會有氮取代局部的磷,這會在磷化錢
中出現(D)。
A.改變禁帶寬度B.產生復合中心
C.產生空穴陷阱D.產生等電子陷阱
15.一般半導體器件使用溫度不能超過一定的溫度,這是因為載流子
濃度主要來源于,而將忽略不計。(AJ
A.雜質電離,本征激發B.本征激發,雜質電離
C.施主電離,本征激發D.本征激發,受主電離
16..一塊半導體壽命T=15|is,光照在材料中會產生非平衡載流子,
光照突然停頓30ns后,其中非平衡載流子將衰減到原來的
(C
B.1/eC.1/e2D.1/2
17.半導體中由于濃度差引起的載流子的運動為(B)。
A.漂移運動B.擴散運動C.熱運動D.共有化運動
18.硅導帶構造為(D)。
A.位于第一布里淵區內沿〈100>方向的6個球形等能面
B.一半位于第一布里淵區內沿〈111>方向的6個球形等能面
c.一半位于第一布里淵區內沿〈111>方向的8個橢球等能面
D.位于第一布里淵區內沿〈100>方向的6個橢球等能面
19.雜質半導體中的載流子輸運過程的散射機構中,當溫度升高時,
電離雜質散射的概率和晶格振動聲子的散射概率的變化分別是
(B
A.變大,變小B.變小,變大C.變小,變小D.
變大,變大
20.與半導體相比較,絕緣體的價帶電子激發到導帶所需的能量
(A1。
A.比半導體的大B.比半導體的小
C.與半導體的相等D.不確定
21.一般半導體它的價帶頂位于,而導帶底位于
o(D)
A.波矢k=0或附近,波矢kWOB.波矢kWO,波矢k=0或附
近
C.波矢k=0,波矢kWOD.波矢k=0或附近,波矢kWO
或k=0
22.錯的晶格構造和能帶構造分別是(C)。
A.
23.如果雜質既有施主的作用又有受主的作用,則這種雜質稱為
(D1。
A.施主B.復合中心C.陷阱D.兩性雜質
24.雜質對于半導體導電性能有很大影響,下面哪兩種雜質分別摻雜
在硅中能顯著地提高硅的導電性能(C)。
A.硼或鐵B.鐵或銅C.硼或磷D.金或銀
25.當施主能級ED與費米能級EF相等時,電離施主的濃度為施主濃
度的1C1倍;
A.1B.1/2C.1/3D.1/4
26.同一種施主雜質摻入甲、乙兩種半導體,如果甲的相對介電常數
■是乙的3/4,mn*/m。值是乙的2倍,則用類氫模型計算結果是
(D1。
A.甲的施主雜質電離能是乙的8/3,弱束縛電子基態軌道半徑為乙
的3/4
B.甲的施主雜質電離能是乙的3/2,弱束縛電子基態軌道半徑為乙
的32/9
C.甲的施主雜質電離能是乙的16/3,弱束縛電子基態軌道半徑為乙
的8/3
D.甲的施主雜質電離能是乙的32/9,的弱束縛電子基態軌道半徑為
乙的3/8
27.本征半導體費米能級的表達式是。(B)
A,工+紇+紅in'B.紇+紇+紅in叢
222NC22Nc
C.Ec+k°TIn鹿D.紇+紇
Nc2
28.載流子在電場作用下的運動為(A)。
A.漂移運動B.擴散運動C.熱運動D.共有化運動
29.下面情況下的材料中,室溫時功函數最大的是(A
A.含硼1X10%/的硅B.含磷1X10%nf3的硅
C.含硼1X10%/,磷1X10%/的硅口.純潔的硅
30.一般可以認為,在溫度不很高時,能量大于費米能級的量子態根
本上,而能量小于費米能級的量子態根本上為,
而電子占據費米能級的概率在各種溫度下總是,所以費米
能級的位置比較直觀地標志了電子占據量子態的情況,通常就說費米
能級標志了電子填充能級的水平。(A)
A.沒有被電子占據,電子所占據,1/2B.電子所占據,沒有被
電子占據,1/2
C.沒有被電子占據,電子所占據,1/3D.電子所占據,沒有被
電子占據,1/3
三.簡答題
1.簡要說明費米能級的定義、作用和影響因素。
答:電子在不同能量量子態上的統計分布概率遵循費米分布函數:
費米能級EF是確定費米分布函數的一個重要物理參數,在絕對零
度是,費米能級EF反映了未占和被占量子態的能量分界限,在*有限
溫度時的費米能級EF反映了量子態占據概率為二分之一時的能量位
置。確定了一定溫度下的費米能級EF位置,電子在各量子態上的統計
分布就可完全確定。
費米能級EF的物理意義是處于熱平衡狀態的電子系統的化學勢,
即在不對外做功的情況下,系統中增加一個電子所引起的系統自由能
的變化。
半導體中的費米能級EF一般位于禁帶內,具體位置和溫度、導電
類型及摻雜濃度有關。只有確定了費米能級EF就可以統計得到半導體
導帶中的電子濃度和價帶中的空穴濃度。
2.在本征半導體中進展有意摻雜各種元素,可改變材料的電學性能。
請解釋什么是淺能級雜質、深能級雜質,它們分別影響半導體哪些主
要性質;什么是雜質補償?雜質補償的意義何在?
答:淺能級雜質是指其雜質電離能遠小于本征半導體的禁帶寬度的
雜質。它們電離后將成為帶正電(電離施主〕或帶負電(電離受主〕
的離子,并同時向導帶提供電子或向價帶提供空穴。它可有效地提高
半導體的導電能力。摻雜半導體又分為n型半導體和p型半導體。
深能級雜質是指雜質所在的能級位置在禁帶中遠離導帶或價帶,在常
溫下很難電離,不能對導帶的電子或價帶的空穴的濃度有所奉獻,但
它可以提供有效的復合中心,在光電子開關器件中有所應用。
當半導體中既有施主又有受主時,施主和受主將先互相抵消,剩余的
雜質最后電離,這就是雜質補償。
利用雜質補償效應,可以根據需要改變半導體中*個區域的導電類型,
制造各種器件。
3.什么叫受主?什么叫受主電離?受主電離前后有何特征?
答:半導體中摻入受主雜質后,受主電離后將成為帶負電的離子,
并同時向價帶提供空穴,這種雜質就叫受主。
受主電離成為帶負電的離子(中心)的過程就叫受主電離。
受主電離前帶不帶電,電離后帶負電。
4.什么叫復合中心?何謂間接復合過程?有哪四個微觀過程?試說
明每個微觀過程和哪些參數有關。
答:半導體內的雜質和缺陷能夠促進復合,稱這些促進復合的雜質和
缺陷為復合中心;間接復合:非平衡載流子通過復合中心的復
合;
四個微觀過程:俘獲電子,發射電子,俘獲空穴,發射空穴;
俘獲電子:和導帶電子濃度和空穴復合中心濃度有關。
發射電子:和復合中心能級上的電子濃度。
俘獲空穴:和復合中心能級上的電子濃度和價帶空穴濃度有關。
發射空穴:和空的復合中心濃度有關。
5.漂移運動和擴散運動有什么不同?兩者之間有什么聯系?
答:漂移運動是載流子在外電場的作用下發生的定向運動,而擴散運
動是由于濃度分布不均勻導致載流子從濃度高的地方向濃度底的方
向的定向運動。前者的推動力是外電場,后者的推動力則是載流子的
分布引起的。
漂移運動與擴散運動之間通過遷移率與擴散系數相聯系。而非簡
并半導體的遷移率與擴散系數則通過愛因斯坦關系相聯系,二者的比
值與溫度成反比關系。即
6.簡要說明pn結空間電荷區如何形成?
答:當p型半導體和n型半導體結合形成pn結時,由于兩者之間存
在載流子濃度梯度,從而導致了空穴從p區到n區、電子從n區到p
區的擴散運動。對于P區,空穴離開后留下了不可動的帶負電荷的電
離受主,因此在p區一側出現了一個負電荷區;同理對于n區,電子
離開后留下了不可動的帶正電荷的電離施主,因此在n區一側出現了
一個正電荷區。這樣帶負電荷的電離受主和帶正電荷的電離施主形成
了一個空間電荷區,并產生了從n區指向p區的內建電場。
在內建電場作用下,載流子的漂移運動和擴散運動方向相反,內
建電場阻礙載流子的擴散運動。隨內建電場增強,載流子的擴散和漂
移到達動態平衡。此時就形成了一定寬度的空間電荷區,并在空間電
荷區兩端產生了電勢差,即pn結接觸電勢差。
7.簡要說明載流子有效質量的定義和作用。
答:能帶中電子或空穴的有效質量m的定義式為:m=-^~
屋E/)
dk2
有效質量m與能量函數E(k)對于波矢k的二次微商,即能帶在*
處的曲率成反比;能帶越窄,曲率越小,有效質量越大,能帶越寬,
曲率越大,有效質量越小;
在能帶頂部,曲率小于零,則有效質量為負值,在能帶底部,曲
率大于零,則有效質量為正值。
有效質量的意義在于它概括了內部勢場的作用,使得在解決半導體中
載流子在外場作用下的運動規律時,可以不涉及內部勢場的作用。
8.對于摻雜的元素半導體Si、Ge中,一般情形下對載流子的主要散
射機構是什么?寫出其主要散射機構所決定的散射幾率和溫度的關
系。
答:對摻雜的元素半導體材料Si、Ge,其主要的散射機構為長聲學
波散射和電離雜質散射
其散射幾率和溫度的關系為:
3/2
聲學波散射:Ps℃T,電離雜質散射:化3乂=3/2
9.說明能帶中載流子遷移率的物理意義和作用。
答:載流子遷移率反映了單位電場強度下載流子的平均漂移速度,
其定義式為:
〃=口;其單位為:cm2/Vs
忖
半導體載流子遷移率的計算公式為:
其大小與能帶中載流子的有效質量成反比,與載流子連續兩次散射間
的平均自由時間成正比。確定了載流子遷移率和載流子濃度就可確定
該載流子的電導率。
四.證明題
1.試推證:對于只含一種復合中心的間接帶隙半導體晶體材料,在
穩定條件下非平衡載流子的凈復合率公式
證:
題中所述情況,主要是間接復合起作用,包含以下四個過程。
甲:電子俘獲率;rnn(N「nJ
乙:電子產生率;rnntni=nie*p((Et-Ei)/k0T)
丙:空穴俘獲率;rppnt
T:空穴產生率=帥1(凡-必)pi=nie*p((Ei-Et)/k0T)
穩定情況下凈復合率
U=甲-乙二丙-丁(1)
穩定時
甲+丁=丙+乙
將四個過程的表達式代入上式解得
nq+PQ
n=N⑵
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