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【正版授權-英語版】 IEC 62047-46:2025 EN Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 46: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of tensile strength of_第1頁
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基本信息：

  • 標準號：IEC 62047-46:2025 EN
  • 標準名稱：半導體器件-微機電設備-第46部分：硅基MEMS制造技術-納米厚度膜拉伸強度的測量方法
  • 英文名稱：Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 46: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of tensile strength of nanoscale thickness membrane
  • 標準狀態：現行
  • 發布日期：2025-04-23

文檔簡介

硅基MEMS制造技術-納米厚度膜拉伸強度的測量方法標準內容如下：

該標準規定了納米厚度膜（厚度在幾納米到幾百納米之間）拉伸強度的測量方法，適用于硅基MEMS器件的生產和測試。該標準提供了詳細的測試方法和要求，以確保膜的拉伸強度符合設計要求和性能標準。

測試步驟如下：

1.準備樣品：選擇合適的硅基MEMS器件樣品，確保其符合生產標準和規格要求。

2.切割和制備樣品：根據測試要求，對樣品進行切割和制備，確保膜的平整度和完整性。

3.測量膜的厚度：使用適當的測量設備和方法，精確測量膜的厚度，確保其符合設計要求。

4.加載和測量拉伸強度：使用適當的設備和方法，對膜進行加載，并測量其拉伸強度。拉伸強度是指膜在受到拉伸應力時所能承受的最大應力值。

5.數據分析和報告：根據測試結果，對數據進行分析和報告，確保膜的拉伸強度符合標準要求。

標準還規定了測試過程中的注意事項和要求，例如測試環境的控制、測試設備的校準和驗證、測試數據的記錄和保存等。此外，標準還對測試過程中的異常情況進行了說明和處理方法，以確保測試結果的準確性和可靠性。

該標準為硅基MEMS器件生產商提供了詳細的測試方法和要求

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