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文檔簡介

2017年11月SOUTHWESTSECURITIESSOUTHWESTSECURITIESl濺射靶材的市場規模日益擴大,呈現高速增長的勢頭。全球濺射靶材市場容量持續增加,預計2019年市場規模將超過163億美元,2016-2019年均復合增長率達13%。下游應用半導體、平板顯示器以及太陽能電池等產業發展勢頭強勁。其中全球半導體市場處于整體平穩上升階段,中國半導體產業市場這幾年增速發展迅猛,2009-2016年均復合增長率達18%。平板顯示行業前景廣闊,穩定增長,大尺寸平板顯示器需求在2017-2018預計會增長5%-6%,且產業重心向中國大陸轉移將有利推動PVD鍍膜產業的快速增長。全球性太陽能光伏裝機量的快速增長和中國光伏裝機量的井噴式爆發給濺射靶材市場帶來了巨大的成長空間。光學元器件行業應用多元化,智能手機的普及和監控設備的使用給鍍膜行業打造了新的利潤增長點。l美、日壟斷鍍膜行業,政策利好國產企業。高純濺射靶材技術含量高,設備專用性強,世界范圍內被霍尼韋爾、日礦金屬等美、日跨國企業壟斷。蒸鍍設備扼住OLED生產的咽喉,被日、韓等企業絕對壟斷,競爭格局是“一超多強”。得“蒸鍍設備”者得“OLED”天下,國產企業大力布局OLED產線,蒸鍍設備“一機難求”。受益于國家政策戰略支持,中國PVD鍍膜材料在技術和市場上都取得長足進步,涌現出阿石創、江豐電子等具有競爭力的企業。l產業參與企業金字塔分布,產業分布強區域性。產業上游靶材制造技術門檻高、設備投資大,被美、日少數企業掌控,產業分布具有較強的區域性,對下游濺射靶材行業具有較強的議價能力。下游勞動力密集型,參與企業眾多,應用領域的不斷拓展,將對PVD鍍膜需求產生持續拉動作用。l投資策略與重點關注個股:目前國內消費電子行業快速發展,PVD鍍膜市場容量不斷增加。加上國家政策對國產企業的大力扶持,我們認為鍍膜市場有很光明的前景,給予行業“跟隨大市”評級。在個股投資方面,我們推薦重點關注阿石創(300706)。阿石創是國內領先的濺射靶材和蒸鍍材料供應商,憑借多樣化靶材綁定、背板精密加工等核心技術,成功建立起較為全面的產品供應體系,并積極擴大公司平板顯示濺射靶材的產能,提升公司產品的市場競爭力。l風險提示:行業上游原材料價格的波動或行業下游需求因宏觀經濟原因產生的波動。數據來源:Wind,西南證券西南證券研究發展中心西南證券研究發展中心行業相對指數表現行業相對指數表現電子滬深30020%7%-5%-11%數據來源:聚源數據基礎數據基礎數據 相關研究相關研究PVD1PVD鍍膜兩大主流:濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜 11.1濺射鍍膜和濺射靶材 11.2真空蒸發鍍膜和蒸鍍材料 42濺射靶材市場容量巨大,景氣度不斷增加 72.1市場容量分析 72.2半導體行業:發展迅猛,需求旺盛 72.3平板顯示行業:穩定增長,前景廣闊 92.4太陽能行業:高速發展,井噴增長 102.5光學元器件行業:多元驅動,穩步發展 113PVD鍍膜行業競爭格局:美、日壟斷,中國崛起 133.1濺射靶材被美、日、德跨國企業壟斷 133.2大陸OLED產線如雨后春筍,蒸鍍設備一機難求 143.3政策利好國內廠商,有望松動壟斷格局 164產業鏈自上而下金字塔分布,產業特征強區域性 184.1濺射靶材產業鏈各環節參與企業數量基本呈金字塔型分布 184.2濺射靶材上游產業集中度高,下游產業市場擴容 194.3產業特征:弱周期性,強區域性 195投資策略 20圖1:濺射鍍膜工作原理示意圖 1圖2:濺射靶材 2圖3:濺射靶材發展歷程 2圖4:濺射靶材產業鏈 3圖5:濺射靶材工藝流程 4圖6:真空蒸發鍍膜工作原理示意圖 5圖7:真空鍍膜材料 5圖8:真空鍍膜材料加工工藝流程 6圖9:濺射鍍膜和蒸發鍍膜對比 6圖10:2016年全球濺射靶材市場容量(億美元) 7圖11:全球高純濺射靶材市場規模預測(億美元) 7圖12:全球半導體2008-2016銷售額 8圖13:中國半導體2009-2017銷售額及預測 8圖14:2011-2017全球半導體用濺射靶材市場規模及預測 9圖15:2010-2016中國半導體用濺射靶材市場規模及預測 9圖16:平板顯示行業鍍膜工藝流程 9圖17:2013-2017全球觸控屏出貨量及預測 10圖18:2013-2017中國觸控屏出貨量及預測 10圖19:2009-2016全球累積光伏裝機量 11圖20:2009-2016中國累積光伏裝機量 11圖21:2014-2019中國視頻監控設備市場規模及預測 12圖22:2015-2020全球車載攝像頭市場規模預測 12圖23:OLED制造工藝流程 15圖24:ELVESSOLED大規模生產系統 16圖25:SunicOLED蒸鍍設備 16圖26:高純濺射靶材產業鏈各環節參與企業數量呈金字塔型分布 18圖27:濺射靶材生產企業主要集中在美國、日本 20表1:濺射靶材分類 2表2:蒸鍍材料種類 5表3:全球太陽能電池用濺射靶材市場規模 11表4:各品牌手機2015年和2016年的市場份額和增長率情況 12表5:國外主要濺射靶材廠商 13表6:國內OLED產線布局統計 14表7:中小尺寸OLED蒸鍍設備主要廠商 15表8:國家大力支持濺射靶材相關政策 16表9:國內主要PVD鍍膜材料廠商 17表10:濺射靶材產業鏈各環節主要公司 19表11:重點關注公司盈利預測與評級 201PVD鍍膜兩大主流:濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜PVD(PhysicalVaporDeposition)技術是制備薄膜材料的主要技術之一,在真空條件下采用物理方法,將某種材料氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護導電、導磁、絕緣、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術。用于制備薄膜材料的物質被稱為PVD鍍膜材料。經過多年發展,PVD鍍膜技術被廣泛用于應用于電子、光學、機械、建筑、材料等領域,濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種PVD鍍膜方式。濺射(Sputtering)鍍膜技術利用離子源產生的離子,在高真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面而形成薄膜材料。被轟擊的固體原料是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點,一般由靶坯和背板組成。靶坯屬于濺射靶材的核心部分,是高速離子束流轟擊的目標材料。靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。由于高純度金屬強度較低,因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機臺環境內完成濺射過程。超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合,背板起到主要起到固定濺射靶材的作用,且需要具備良好的導電、導熱性能。數據來源:江豐電子招股說明書,西南證券整理按使用的原材料材質不同,濺射靶材可分為金屬/非金屬單質靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點,已成為制備薄膜材料的主要技術之一,各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用,因此,對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加,濺射靶材亦已成為目前市場應用量最大的PVD鍍膜材11金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)、合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合金等)、陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材數據來源:江豐電子招股說明書,西南證券整理數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理濺射技術起源于1842年格羅夫在實驗室發現了陰極濺射現象。他在研究電子管陰極腐蝕的時候,發現陰極材料遷移到真空管壁上來了。但是由于當時的實驗設備比較落后,對于濺射的物理機理一直不是很清楚。到20世紀初期,只對化學活動性很強的材料采用濺射技術,20世紀70年代后真正出現了磁控濺射技術,出現了商品化的濺射裝備并應用于小型生產。20世紀80年代,濺射技術真正進入工業化大生產的時代。隨后到了21世紀,各種新型濺射技術的出現讓濺射技術走向輝煌。現在的濺射技術已經成為一個相當成熟的工藝,并且廣泛應用于半導體、光伏、顯示屏等各個產業。數據來源:新材料在線,西南證券整理22超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分,濺射靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環節,其中,靶材制造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。數據來源:江豐電子招股說明書,西南證券整理上游的金屬提純主要從自然界重點金屬礦石進行提純,一般的金屬能達到99.8%的純度,濺射靶材需要達到99.999%的純度。靶材制造環節首先需要根據下游應用領域的性能需求進行工藝設計,然后進行反復的塑性變形、熱處理來控制晶粒、晶向等關鍵指標,再經過水切割、機械加工、金屬化、超生測試、超聲清洗等工序。濺射靶材制造所涉及的工序精細且繁多,工序流程管理及制造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質量和良品率。此環節是在濺射靶材產業鏈條中對生產設備及技術工藝要求最高的環節,濺射薄膜的品質對下游產品的質量具有重要影響。在濺射鍍膜過程中,濺射靶材需要安裝在機臺中完成濺射反應,濺射機臺專用性強、精密度高,市場長期被美國、日本跨國集團壟斷,主要設備提供商包括AMAT(美33數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理終端應用是針對各類市場需求利用封裝好的元器件制成面向最終用戶的產品,包括太陽能電池、智能手機、平板電腦、家用電器等終端消費電子產品,此環節技術面較寬,呈現多樣化特征。在濺射靶材應用領域中,半導體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內部微觀結構等方面都設定了極其苛刻的標準,因此半導體芯片對濺射靶材的要求是最高的,通常要求達到99.9995%(5N5)以上,價格也最為昂貴。相較于半導體芯片,平面顯示器、太陽能電以上。但隨著靶材尺寸的增大,對濺射靶材的焊接結合率、平整度等指標提出了更高的要求。真空蒸發鍍膜是指在真空條件下,通過蒸發源加熱蒸發某種物質使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術。被蒸發的物質被稱為蒸鍍材料。蒸發鍍膜最早由M.法拉第在1857年提出,經過一百多年的發展,現已成為主流鍍膜技術之一。真空蒸發鍍膜系統一般由三個部分組成:真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發待沉積的材料,需要容器來支撐或盛裝蒸發物,同時需要提供蒸發熱使蒸發物達到足夠高的溫度以產生所需的蒸汽壓。44數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理真空蒸發鍍膜技術具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點,是應用廣泛的鍍膜技術,主要應用于光學元器件、LED、平板顯示和半導體分立器的鍍膜。真空鍍膜材料按照化學成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發料,氧化物蒸發料,氟化物蒸發料等。金屬及非金屬顆粒鋁蒸發料、鎳蒸發料、銅蒸發料、銀蒸發料、鈦蒸發料、硅蒸發料、釩蒸發料、鎂蒸發料、錫蒸發料、鉻蒸發料、銦蒸發料、銀銅蒸發料、金蒸發料、微晶銀鈦鉭合金、鋯鈦合金、硅鋁合金、三氧化二鋁、二氧化鋯、五氧化三鈦、石英環、石英片、氧化鉺、鈦酸數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理55蒸鍍材料主要工藝流程包括混料,原料預處理,成型,燒結和檢測等。將配制好的原料經過機械混合達到均勻分散(混料然后進行常溫或高溫處理(原料預處理)來提高材料的純度,細化顆粒的粒度,激發材料的反應活性,降低材料燒結溫度。接下來經過機械方式將材料加工至達到所需規格(成型)。成型后將材料在高溫下燒結,使陶瓷生坯固體顆粒的相互鍵聯,最后成為具有某種顯微結構的致密多晶燒結體的過程(燒結)。待蒸鍍材料生產完后,采用蒸發鍍膜設備對材料的性能進行檢測,檢查產品性能指標是否合格。數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理濺射鍍膜和蒸發鍍膜的對比:濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點,已成為制備薄膜材料的主要技術之一,各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用,因此,對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加,濺射靶材亦已成為目前市場應用量最大的PVD鍍膜材料。蒸發鍍膜簡單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來看,蒸鍍材料的制造復雜度要遠遠低于濺射靶材,蒸發鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理662濺射靶材市場容量巨大,景氣度不斷增加PVD鍍膜技術作為制備薄膜材料的主流技術,而濺射靶材亦是目前市場應用量最大的PVD鍍膜材料,下面重點對濺射靶材的市場容量進行分析。濺射技術作為薄膜材料制備的主流工藝,其應用領域廣泛,如集成電路、平板顯示器、太陽能電池、信息存儲、工具改性、光學鍍膜、電子器件、高檔裝飾用品等行業。高純濺射靶材則主要用于對材料純度、穩定性要求更高的領域,如集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業。20世紀90年代以來,隨著消費類電子產品等終端應用市場的快速發展,濺射靶材的市場規模日益擴大,呈現高速增長的勢頭。根據中國電子材料行業協會數據統計,2016年全球濺射靶材市場容量達113.6億美元,其中平板顯示市場容量最大,達到38.1億美元,市場容量占比33.54%,記錄媒體則屈居第二,市場容量達到33.5億美元,太陽能電池和半導體市場容量分別是23.4億美元和11.9億美元。據預測,到2019年,全球高純濺射靶材市場規模將超過163億美元,2016-2019年均復合增長率達13%。數據來源:中國電子材料行業協會,西南證券整理80604020數據來源:中國電子材料行業協會,西南證券整理濺射靶材全球市場容量日趨增大,行情景氣度也在不斷增加。下面注重研究高純濺射靶材具體的下游應用,如半導體、平板顯示器以及太陽能電池等產業的市場容量和發展趨勢。高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的,集成電路產業成為目前高純濺射靶材的主要應用領域之一。隨著信息技術的飛速發展,要求集成電路的集成度越來越高,電路中單元器件尺寸不斷縮小。每個單元器件內部由襯底、絕緣層、介質層、導體層及保護層等組成,其中,介質層、導體層甚至保護層都要用到濺射鍍膜工藝,因此濺射靶材是制備集成電路的核心材料之一。2008年爆發的金融危機將全球半導體市場陷入全面衰退中,2009年全球半導體銷售額僅為2249億美元,同比下降9.75%。此后,全球半導體市場溫度迅速回升,2010年上漲至2989億美元,同比增速達32.90%。2011-2014年,全球半導體市場保持平穩增長,到2014年銷售額達到3356億美元,年均復合增長率為3.97%。2015、2016年全球半導體行7業市場規模與2014年基本持平。據世界半導體貿易統計組織預測,2017年全球半導體行業市場規模將有小幅度增長,增長率為3.1%。總體來看,近年來全球半導體市場仍然處于整體平穩上升階段。隨著智能手機、平板電腦、汽車電子等終端消費領域對半導體需求的持續增長將進一步提升半導體市場容量,預計全球半導體市場在未來將保持持續增長的態勢。中國近幾年來半導體產業有了快速發展,中國半導體產業的銷售量多年來一直穩步上升。從2009年的1992.7億元的銷售額到2016年6378億元的銷售額,基本上每隔兩年翻一番,年均復合增長率為18%。預計2017銷售額將達到7200億元,同比增速達12.90%。隨著國內電子產品制造業的飛速發展,中國半導體產業市場潛力巨大,市場容量也將保持增長勢頭。0數據來源:wind,西南證券整理0數據來源:中國產業信息網,西南證券整理芯片產業是大數據、云計算、互聯網的基礎產業。這些產業的迅猛發展為芯片帶來了強勁的市場需求。由于半導體行業所需濺射靶材品種繁多,且每一種需求量都較大,穩定的下游市場增速將有力地促進濺射靶材銷售規模的擴大。根據國際半導體設備與材料協會(SEMI)統計,2015年全球半導體材料銷售額為435億美元,其中晶圓制造材料銷售額為242億美元,封裝材料為193億美元。在晶圓制造材料中,濺射靶材約占芯片制造材料市場的2.6%。在封裝測試材料中,濺射靶材約占封裝測試材料市場的2.7%。全球半導體用濺射靶材銷售額從2011年的10.1億美元到2015年為11.4億美元,年均復合增長率為3.07%,其中晶圓制造用濺射靶材年均復合增長率為1.68%,封裝測試用濺射靶材年均復合增長率為4.87%。預計2017年將13.4億美元,同比增長12.6%。中國半導體產業的一路看漲也為濺射靶材市場的發展注入了新的活力。2015年,中國半導體制造材料市場規模達到61.2億美元,其中集成電路用濺射靶材市場規模為11.6億元,預計2016年國內半導體用濺射靶材市場規模將突破14億元。隨著國產濺射靶材的技術成熟,尤其是國產濺射靶材具備較高的性價比優勢,并且符合濺射靶材國產化的政策導向,中國濺射靶材的市場規模有望進一步擴大,市場份額進一步提高。8876543210數據來源:江豐電子招股說明書,西南證券整理86420數據來源:江豐電子招股說明書,西南證券整理場發射顯示器(FED)、有機發光二極管顯示器(OLED)以及在LCD基礎上發展起來的觸控(TP)顯示產品。其中,市場應用以液晶顯示器為主。鍍膜是現代平板顯示產業的基礎環節,為保證大面積膜層的均勻性,提高生產率和降低成本,幾乎所有類型的平板顯示器件都會使用大量的鍍膜材料來形成各類功能薄膜,其所使用的PVD鍍膜材料主要為濺射靶材,平板顯示器的很多性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關。平板顯示行業主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產品生產環節使用PVD鍍膜材料。其中,平板顯示面板的生產工藝中,玻璃基板要經過多次濺射鍍膜形成ITO玻璃,然后再經過鍍膜,加工組裝用于生產LCD面板、PDP面板及OLED面板等。觸控屏的生產,則還需將ITO玻璃進行加工處理、經過鍍膜形成電極,再與防護屏等部件組裝加工而成。此外,為了實現平板顯示產品的抗反射、消影等功能,還可以在鍍膜環節中增加相應膜層的鍍膜。數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理對于LCD顯示屏行業來說,發展態勢將持續保持增長。根據IHSMarkit數據顯示,大尺寸平板顯示器需求在2017-2018年間預計會增長5%-6%。2011年以來,隨著國內外平板顯示廠商紛紛在中國大陸建立生產基地,全球平板顯示產業重心逐漸向中國大陸轉移。加9PVD上政府政策的大力扶持,中國平板顯示產業在未來幾年將得到迅速發展,IHS預計到2018年中國將成為全球最大的平板顯示器件供應國。LCD面板市場最大的需求來自電視,LCD電視已經發展成為市場的主流產品。作為全球最大的LCD電視生產國之一,中國LCD電視出貨量變化趨勢與全球基本同步。根據工信部運行監測協調局數據,2014年中國LCD電視出貨量為13865.9萬臺,同比增長13.3%,占當年出貨量的92.9%,已成為中國市場主導。2015年、2016年,中國LCD電視產量分別為14391.9萬臺、15714萬臺,分別比上年增長3.8%、9.2%。國內平板顯示面板行業的快速增長,為PVD鍍膜材料廠商提供了廣闊成長空間,預計未來幾年PVD鍍膜材料市場將保持快速增長態勢。對于觸控屏行業來說,最大市場需求主要來自智能手機和平板電腦。近年來,隨著智能手機、平板電腦等智能終端產品的普及推廣,全球觸控顯示產品和技術發展進步較快,產業規模不斷提升。智能終端產品的普及帶動觸控屏產業規模快速增長,2014年全球觸控屏出貨量近18億片,同比增長約20%。預計至2017年,全球觸控屏產品出貨量有望達到35-40按照當前的發展速度,預計至2017年中國觸控屏行業年工業產值將達到70億美元左右。中國電子材料行業協會數據顯示,2013年-2015年,全球平板顯示用濺射靶材市場規模分別為29.5億美元、31.4億美元和33.8億美元。其中,中國平板顯示用濺射靶材2013年度、2014年度、2015年度市場規模分別為39.4億元、55億元和69.3億元。50西南證券整理50西南證券整理從人類進入21世紀以來,全球氣候變暖、生態環境惡化等環境問題接踵而至,全世界都在迫切尋求清潔能源來緩解環境壓力。太陽能憑借其普遍、清潔、能量巨大的優勢成為各國關注的焦點。制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶等,純度要求一般在99.99%以上,其中,鋁靶、銅靶用于導電層薄膜,鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜,ITO靶、AZO靶用于透明導電層薄膜。近年來全球太陽能光伏累積裝機容量呈現快速增長的態勢,2010年、2011年,全球累計光伏裝機容量年增長率分別為73.97%、74.70%,表現出不同尋常的增長速度;2013年全球累計光伏裝機容量達到138.83GW,2000年以來年均復合增長率為43.33%,太陽能光伏產業步入高速發展期,并帶動上游太陽能電池等相關行業迅速發展。預計未來幾年,全球太陽能電池行業仍然處于產業上升階段,市場將進一步全球化,新興市場的范圍和比重都將有所擴大。近年來,中國太陽能光伏產業在全球太陽能光伏產業發展的帶動下迅速發展。從2010年光伏裝機量0.8GW到2016年的77.42GW,中國的太陽能光伏產業迎來了井噴式爆發。2010-2013四年中累計光伏裝機容量增長率均超過100%,2011年更是達到了312.5%,年復增長率達到了180.61%。2015年中國累計光伏裝機容量達到43.36GW,占世界總量的18.90%。0數據來源:江豐電子招股說明書,中國新能源網,西南證券整理0數據來源:江豐電子招股說明書,中國新能源網,西南證券整理太陽能光伏產業的快速發展給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了巨大的成長空間,2015年全球太陽能電池用濺射靶材市場規模18.5億美元,比2014年增長21.7%。數據來源:江豐電子招股說明書,西南證券整理目前國內太陽能電池主要以硅片涂覆型太陽能電池為主,薄膜電池的產量仍較小,而且以硅薄膜電池為主,因此濺射靶材市場規模較小,2013年度、2014年度、2015年度,市場規模約為3.5億元、4.6億元和7.5億元;隨著國內薄膜電池生產線的投產,中國太陽能電池用濺射靶材市場將持續增長。自從上世紀90年代末數字化帶動光電應用產品快速發展后,光學元器件應用行業越來越廣,從光學傳感、照明、通信技術、能量檢測、信息存儲、傳輸、處理和顯示,到現代的如生命科學、汽車、航空航天等行業的生產和應用,它存在于現代人每天生活和經濟活動的大部分領域,常規的應用產品包括智能手機、車載鏡頭、安防監控設備、數碼相機、光碟機、投影機等,高端的應用產品包括航空航天監測鏡頭、生物識別設備、生命科學中DNA測序等研究設備、醫療檢查儀器鏡頭、半導體檢測設備以及大視場投影鏡頭(如IMAX)、3D打印機等儀器設備所需的光學元器件及光學鏡頭。隨著科技的進步和制造工藝的提升,智能手機、數碼相機等電子產品逐漸成為居民重要的消費產品,其更新換代的加快、產品周期的縮短帶動了光學元器件行業的穩步發展。近些年來安防監控設備、車載鏡頭、航天航空領域的快速發展也對光學元器件行業的增長起到了推動作用。預計2017年中國視頻監控市場將達到89.52億美元,全球車載攝像頭市場規模將達124.4億美元,未來每年增長率將高于10%。0數據來源:中國產業信息網,西南證券整理0數據來源:新材料在線,西南證券整理近年來,國內品牌手機實現大幅增長,帶動了產業鏈上游的發展。隨著智能手機的普及,攝像頭已成為手機標配,而手機廠商在推出手機新品時也會考慮在攝像頭像素上更新升級,以迎合市場需求,攝像頭高清化成為手機廠商必爭之地。與此同時,智能手機、平板電腦配備攝像頭和雙攝像頭的比例也在快速提升。VIVO數據來源:阿石創招股說明書,西南證券整理3PVD鍍膜行業競爭格局:美、日壟斷,中國崛起PVD鍍膜工藝起源于國外,在行業發展初期,鍍膜設備和鍍膜材料的配套以國外廠商為主。國外PVD鍍膜材料廠商的鍍膜材料經過與下游客戶的鍍膜設備、鍍膜工藝的長期磨合,各項性能指標與客戶的匹配性已較好,具有較強的先發優勢,因此,長期以來全球PVD鍍膜材料研制和生產主要集中于美國、日本和德國少數公司,產業集中度較高。高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的,屬于典型的技術密集型產業,產品技術含量高,研發生產設備專用性強。隨著半導體工業技術創新的不斷深化,以美國、日本為代表的半導體廠商需要加強對上游原材料的創新力度,從而最大限度地保證半導體產品的技術先進性,因此,美國、日本的半導體工業相繼催生了一批高純濺射靶材生產廠商,并于當前居于全球市場的主導地位,在一定程度上,全球半導體工業的區域集聚性造就了高純濺射靶材生產企業的高度聚集。自誕生之日起,以美國、日本為代表的高純濺射靶材生產企業便對核心技術執行嚴格的保密措施,導致濺射靶材行業在全球范圍內呈現明顯的區域集聚特征,生產企業主要集中在美國和日本。全球范圍內,日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學等資金實力雄厚、技術水平領先、產業經驗豐富的跨國公司居于全球高純濺射靶材行業的領導地位,屬于濺射靶材的傳統強勢企業,占據全球濺射靶材市場的絕大部分市場份額,主導著全球濺射靶材產業的主要產品之一電子原材料包括熱界面材料、電子化學品、電子聚合物、貴金屬熱電偶、靶材、線圈組和金屬材料主要有能源業務、石油天然氣探測和生產業務、金屬業務三大業務,其中金屬業務為日礦金屬運營,日礦金屬以銅為中心,致力開展從上游的資源開發、中游的金屬冶煉至下游的電子材料加工、環保資源再生業務,主要產品其功能產品部門由有機化學產品、高機能材料產品、生命科學三部分組成,其中高機能材料產品主要包括電池材普萊克斯公司主要服務于航空航天、化工、醫療保健、金屬生產、石油天然氣、能源、電子等行業,其中其行業的主要產品包括電子設備、次大氣氣體輸送系統、濺于石油化學、能源-功能材料、情報電子化學、健康-農業相關事業和醫藥五大領域,其中情報電子化學領域的主要產品包括濾色鏡、光學功能薄膜、彩色光阻劑、導光板、觸摸屏面板、世泰科致力于客戶化的高性能金屬與陶瓷粉末以及金屬制品的研發與生產,其鉭粉、鎢粉、鉭質濺射靶材以及鎳鈮制品全球市場占有率排名前列。從事貴金屬材料與技術、齒科材料、石英玻璃、工業傳感器和特種光源等高新技術領域,產品廣泛服務于半導體行業,其中高純石英和濺射靶材、蒸發材料應用于芯片制造、導電膠和鍵合絲應用于集成電路、分立器件和光電數據來源:阿石創、江豐電子招股說明書,西南證券整理有機發光二極管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)由鄧青云教授于1979年在實驗室中發現。OLED顯示技術具有自發光、廣視角、幾乎無窮高的對比度、較低耗電、極高反應速度等優點,因此被廣泛應用于手機、數碼攝像機、筆記本電腦、電視等,由于OLED自發光,不需要使用背光,因此OLED顯示器可以實現輕薄化,備受消費者的青睞。三星是最早引領手機OLED顯示屏發展的企業,且預計2017年蘋果和三星將消耗近68%的AMOLED屏幕產能,只剩僅有的32%給國內手機廠商爭奪,難免造成供不應求的局面。國內廠商如京東方、和輝光電、華星光電、信利以及深天馬等企業紛紛加速OLED技術研發,布局OLED產線。雖然目前中國OLED產能在全球占比與韓國之間有著較大的差距,2015年國內OLED產能僅相當于全球OLED總產能的9%,預計這一數據在2020年將達到28%,屆時中國將成為僅次于韓國的世界第二大OLED供應國。0500400數據來源:京東方公司公告,西南證券整理OLED工藝技術壁壘極高,尤其是TFT陣列和Cell成盒兩個階段包含眾多復雜工藝,關鍵設備(TFT設備、蒸鍍設備和封裝設備)幾乎被日本、韓國和美國所壟斷,且設備價格昂貴,其中蒸鍍設備是整個面板生產過程中最核心的環節,直接影響到制成品的良率和質量。目前市場上的蒸鍍設備由日、韓兩國壟斷,企業格局為“一超多強”。數據來源:和輝光電公司官網,西南證券整理一超CanonTokki由于穩定量產與技術成熟方面的優勢,目前全球蒸鍍機生產幾乎被CanonTokki壟斷。而三星顯示器6代可撓式OLED面板產線基本承包了CanonTokki所有設備訂單,所以對于國內很多OLED產線來說,蒸鍍設備真的是“一機難求”。能否獲得蒸鍍設備直接影響企業OLED的產能。可以毫不夸張地說,得“蒸鍍設備”者得“OLED”天下。目前CanonTokki蒸鍍機一年生產出的7臺中,有5臺給了三星,LGD和京東方各占一臺。相對于國內其他產線來說,京東方有著絕對的優勢。為利應這種“供不應求”的市場局面,CanonTokki積極擴充產線,已將每年產能提升至12臺左右。數據來源:雪球,西南證券整理多強ULVAC,SFA,SNU和SunicSystem日本的ULVAC緊追不舍,雖然與CanonTokki這種壟斷巨頭相比還有不小的差距,但是其也在大力研發,積極創新,推出的新型鍍膜設備--ZELDA采用線型蒸鍍源技術,可將材料利用率大幅提升至20%,并可均勻地將有機發光材料鍍在AMOLED面板上,提升面板廠前段制程的良率。韓國的SFA和SNU也不甘落下,2016年10月,韓國設備業者SFA供應昆山國顯光電2臺5.5代線蒸鍍設備。2016年12月,SFA宣布收購SNU,兩家蒸鍍設備廠商的強強聯合,在技術上的積累可以產生協同效應,將有望增強在蒸鍍設備制造領域的競爭力。另外,由于OLED屏幕在智能手機上的應用日益廣泛,世界范圍內的面板制造商都在加速投資OLED生產線,SFA收購SNU可以大幅度提高產能和生產大規模蒸鍍設備的戰略可行性。韓國SunicSystem也是OLED蒸鍍設備知名廠商之一,曾供應華星光電研發產線蒸鍍設備和供應樂金顯示器(LGD)量產設備,在未來的蒸鍍設備訂單競爭中,SunicSystem也是一個不可小覷的對手。數據來源:CanonTokki公司官網,西南證券整理數據來源:Sunic公司官網,西南證券整理國內市場的高純濺射靶材產業起步較晚,與美、日等跨國企業在技術方面、市場份額、業界口碑方面還有很大差距。中國地大物博,金屬礦產資源豐富,由于提純技術有限,所提純的金屬材料難以達到高純濺射靶材的生產要求,因此中國大部分濺射靶材還依賴進口。為了實現濺射靶材的國產化,擺脫國際巨頭的壟斷,中國政府制定了一系列產業政策扶持濺射靶材工業發展。《當前優先發展的高技術產業化重點領域點;核級鋯合金材料、高性能鎢鉬合金材料、大尺寸高純稀有金屬靶材等項積極發展高純稀有金屬及靶材、原子能級鋯材、高端鎢鉬材料及制品等,加數據來源:江豐電子招股說明書,西南證券整理國家產業政策、研發基金的陸續發布和落實給國內濺射靶材行業的快速發展營造了良好的產業環境,國產企業實力進一步增強。加上數年的科技攻關和生產試驗,國內高純濺射靶材生產企業已經逐漸突破關鍵技術門檻,擁有了部分產品的規模化生產能力,整體實力不斷增強,形成了以江豐電子、阿石創、有研億金、隆華節能等為代表的專業從事高純濺射靶材的生產商。這些企業研發實力雄厚、管理體制健全、上升前景廣闊,將有望打破濺射靶材核心技術由國外壟斷、產品供應完全需要進口的不利局面,快速實現濺射靶材國產化的宏偉目標。通過不斷彌補技術缺陷,加強技術創新,充分利用國內豐富礦產和國家政策扶持的優勢,積極參與到與國際巨頭的市場競爭中,擴大國產濺射靶材的市場份額。產品主要應用于半導體、太陽能電池及平板顯示器等領從事各種PVD鍍膜材料研發、生產和銷售公司收購的四豐電子主要從事高純金屬及合金材料業務,產品以鉬靶材為主。公司收購的晶聯光電主要從事氧化銦錫數據來源:西南證券整理下游應用領域的擴展驅動濺射靶材需求持續擴大:濺射靶材是半導體、平板顯示、光學元器件等行業必不可少的原材料,被廣泛地應用于集成電路、平板電腦、智能手機、家用電器、相機鏡頭等終端消費領域,因此,濺射靶材行業擁有下游產業應用的廣闊市場。隨著近年來人工智能、物聯網、消費電子等應用領域的快速發展,強勁的消費需求有利于驅動濺射靶材市場不斷擴容,促進技術進步和產業成熟。全球半導體產業轉移為濺射靶材發展提供新的機遇:中國是世界集成電路最大的消費國,銷售額超過全球銷售額的50%,加上中國的經濟發展既穩又快、勞動力成本低、配套設備日益完善、終端消費市場持續活躍,越來越多的世界半導體巨頭在中國加大布局產線力度。國際半導體設備材料協會SEMI研究表明,2017-2020年間全球投產的62座晶圓廠,26座來自中國大陸。半導體制造產業重心向大陸的轉移給國內濺射靶材的發展帶來了強有力的支撐,給國內濺射靶材行業帶來更加廣闊的發展空間。4產業鏈自上而下金字塔分布,產業特征強區域性全球范圍內,濺射靶材產業鏈各環節參與企業數量基本呈金字塔型分布,高純濺射靶材制造環節技術門檻高、設備投資大,是典型的技術密集型和資本密集型產業。具有規模化生產能力的少數企業分布在美、日等國,這些企業高居金字塔頂端,對濺射靶材下游產業有很強的議價能力。大部分濺射靶材最高端的應用是在超大規模集成電路芯片制造領域,這個領域只有美國和日本的少數公司如日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯等從事相關業務,是一個被跨國公司壟斷的行業。數據來源:江豐電子公司公告,西南證券整理作為濺射靶材客戶端的濺射鍍膜環節具有規模化生產能力的企業數量相對較多,但質量參差不齊,它們擁有濺射靶材生產能力,但是對于高純度金屬原料卻需要上游企業供應。美、歐、日、韓等國知名企業居于技術領先地位,品牌知名度高、市場影響力大,通常會將產業鏈擴展至下游應用領域,利用技術先導優勢和高端品牌迅速占領終端消費市場,如IBM、飛利浦、東芝、三星等。終端應用環節是整個產業鏈中規模最大的領域,其產品的開發與生產分散在各個行業領域,同時,此環節具有突出的勞動密集性特點,參與企業數量最多,機器設備投資一般,主要分布在日本、中國臺灣和中國大陸等,并逐漸將生產工廠向人力成本低的國家和地區轉移。領先地位數據來源:江豐電子,西南證券整理上游產業集中度高濺射靶材對金屬材料純度的要求很高,國內雖然擁有豐富的有色金屬和稀有金屬礦產資源,但金屬提純技術有限,提純出來的金屬材料絕大部分達不到高純濺射靶材的生產要求,高純金屬仍有很大比重依靠進口。全球范圍內,高純金屬產業集中度較高,美國、日本等國家的高純金屬生產商依托先進的提純技術在整個產業鏈中居于十分有利的地位,對下游濺射靶材行業具有較強的議價能力。從原材料價格來看,高純金屬受宏觀經濟環境的影響較小,在一定時期內均保持較為穩定的價格。下游產業市場擴容高純濺射靶材主要應用于半導體芯片、平板顯示、太陽能電池等領域,濺射靶材的高景氣度也得益于下游消費電子行業的快速發展。受產品更新換代、消費升級等因素的影響,智能手機、移動通訊等終端消費市場需求持續增加促進了半導體芯片的技術進步,進而帶動高純濺射靶材的市場擴容。隨著半導體芯片的成功應用,高純濺射靶材逐漸推廣到液晶顯示器、太陽能電池等領域,成為未來濺射靶材市場規模擴大新的驅動力。可以預見,下游行業應用領域的不斷拓展,將對本行業的需求產生持續拉動作用,同時下游行業的應用日益豐富,以及各種終端消費產品在功能、外觀和體積等方面的個性化趨勢,都對本行業的技術水平提出了更高的要求。PVD鍍膜材料是光學光電子產業重要原材料,廣泛地應用于家用電器、智能手機、平板電腦、汽車電子、顯微鏡、數碼相機和數碼攝像機等終端消費領域,也包括太陽能電池、Low-E玻璃、汽車鍍膜玻璃、工具改性、高檔裝飾用品等領域,總體不具有明顯周期性和季節性特濺射靶材產業分布具有一定的區域性特征,美國、日本跨國集團產業鏈完整,囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用各個環節,具備規模化生產能力,在掌握先進技術以后實施壟斷和封鎖,主導著技術革新和產業發展;韓國、新加坡及中國臺灣地區在磁記錄及光學薄膜領域有所特長。其中,美國以霍尼韋爾為代表,擁有完整的產業鏈和材料事業部門;日本則以日礦金屬、東曹等為代表。這些企業在掌握先進技術以后實施嚴格的技術保密措施,使得濺射靶材核心技術長期被美國、日本跨國集團控制,同時濺射靶材行業具有投資額度大、認證時間長等特點,導致濺射靶材行業具有較強的區域性特征。數據來源:賽迪顧問,西南證券

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