1、軟件 硬件SYSTEM IN DESIGH INWnSn教材*描述異常現象并以 圖表整理分析*WKKD判斷*以數據來證明（PROOF）（EX.柏拉圖A項）*以重點為原則水問題點不能太大， 必須作適當的切割水針對問題點做Wn分析，不斷地問什么： 全面展到不能再展，找 至ij ROOT CAUSE 為止（是否展到ROOT CAUSE 由KLM判斷）水針對所有展開之Wn,提 出相對應之解決對策。 每一個W應盡可能至少 有一個Solution與之對 應。*針對每一個展開之Sn, 列出細部執行subicct,針 對subject做困難度的評 估，加總后即為各 SOLUTION之總評分。再將此分數除以貢獻

2、度， 視數值低高，決定對策 是否實施及實施順序。*對策實施時，以造成D/C ration數值低者優先實 施，這些subject項目并 列入工作計劃內管理。*訂立 Trouble-Shooting 與Continuous Improvement 執行計劃。水利用質量手法手法/工具水柏拉圖*現象描述分 析屮推移圖-4WIH屮層別 -IS/IS NOT*直方圖 DISTINCTION CHANGE*柏拉圖嚨移圖*系統圖（TREE） 似符合邏輯&WHYn 的方式展開）*W->WHYn込治標治本（不可只有治標的solution）咁特圖*P . D . C . A（P須涵蓋T . S . M

3、 . K）T : TARGETS:SCHEDULEM : MEASUREMENTK : KLM*推移圖*直方圖駕僉定水DESIGN IN SYSTEM IN參考表格*現象描述分析表*Wn分析表WnSn展開表*貢獻度與困難度評 估表Trouble Shlooting 與ContinuouImprovement執行計劃表水軟件指制度面IWn-Sn展開表問題點HighW1-1蝕刻制程 能雖不夠W1W2W3W4W5-1-W2-1上下對位能雖不夠p W3J底片對位不佳 廠W4-1底片易漲縮V5lpolycslcr手溫濕彩響|_1- W4.2PLOTTER精度不夠 V52無回饋微調定位系統W32曝光機對準

4、不穩定¥43無CCD自動對位回饋系統_W4-4曝光DIE SET結構不夠強1 前處理不佳W5-5壓膜板淙不夠W5-3導桿直徑不夠大W2-2BT不足W3-3蝕刻側蝕速度過快-W3-4蝕刻正面穿透力不夠"W2-3整體補償不當匚W35 -般性補償不當W34實際與設計值有誤至W2-4有蝕刻未穿現象W3-7霜光W38顯彫不潔W4-5D/F與板面adhesion不佳¥46側面缺乏保護'Z W4-7有水滯效盒W4-8板面受蝕刻壓力不夠W4-9滾輪有遮蔽效應W5-6水平蝕刻Ew5-7噴嘴距板面太遠W5-8藥液比董不足W4-IOploUcr resolution 不夠W4-

5、11曝光箋雖過高W4-I2 干膜 resolution 不夠W5-9Pixel size 過大W5-l0address accuracy 不夠 小S1S2S3(0) S3-1訂立補償準則(0) S32求出最適去膜壓力¥413水壓膜溫度過高.造成部 分 D/F cureS4S5(A)S4-1護岸劑評估(0)S4-2蝕刻滾輪設計更改(O)S4-3卷式蝕刻設備建立(OJS4-4定期校正喙光能雖(O)S45評估較薄干膜(O)S46定期校正壓膜淙度(0)S5-l玻璃底片評估(0)S5-2保濕工具運送底片(O)S53保持無塵室溫濕均一(O)S5-4 最適 plotter 評估(O)S5-5最適喙

6、光機評估(O)S56前處理.壓膜條件最適化G)S57垂直蝕刻機(a)S5-8延長噴嘴研究此題過大，應針對“丁蝕刻制程能力不夠収嘅有哪些能力不足層別作初步的分析。初步分 析展開后(亦及W2),若依L/F產品特性而言，“E/F不足"是較重要的課題，所以應擬訂“E/F不足”為Wn 分析的對象(追根問題點)，較為恰當。(詳見下圖)Wn展開表W1W2W3W4W5W1-1側蝕速度過快W2-1D/F與銅面adhesion -j- V31銅面接觸不良n-W4l銅面有油脂 不佳一 W2-2側面缺乏保護E/F不足W2-3未能確定nozzle型式角 度.擺動對防側蝕之最佳 設計或氧化 LW4-2銅面與D/

7、F未達最 適adhesion結果 -W3-2D/F本身附著-p W4-3D/F硬化不完全一廠W5l壓膜板 溫不夠 ,2曝光能 星不足力不佳-W4-4D/F特性不佳W1-2正面穿透-I W2-4有水滯效應力不足W2-5板面正面沖擊壓力 不夠W33水平蝕刻W3-4噴嘴距離板面W4-5未拿握上下噴穿透 太遠0R噴壓力差異不足0R滾輪 有遮蔽效應Wn（WHYn）分析（問題分析）做法：針對所擬定Wn分析的對象，不斷的問彷什么n（why）,全面展到不能再展，直到找到 ROOT CAUSE 為止原則:n-l n n+11 Wn分析要依結果一原因結果原因結果一原因的方式展開（第n階是第n-l階的原因，是 第n

8、+1階的結果），要不斷的以“為什么，因為。”，且符合邏輯的方式展開，如此方可 避免跳階的弊病。所以在Wn展開過程中，不應有who . where . when . what的分析。2 展開的內容應based on專業技術.知識經驗與理論基礎。3 以who . where . when . what之分析或層別應置于“一.題目選取”之問題層別部分。4 - Wl, W2, .Wn是代表深度，Wl-1, Wl-2, Wl-3, .Wl-n代表廣度。同一階所列出之Wn,由上而下依序編以流水號。（請參考Wn分析表）5 展開時要給于編號，結果與原因之間要用線連結。（請參考Wn分析表）6Wn展開后，應依據某

9、一期間之質量數據收集，在經過報廢板之缺點比對判定后，決定Wn 每一階之貢獻度，以作為solution評價的標準。7 就實務上而言，Wn展開時，因為某些尚未確知的因素.后一階展開的原因可能無法完全說 明前一階的結果。但一般而言，可依據【28（或37）法則】（亦即后一階所展出的二項原因是造 成前一階80%的結果），來判斷Wn展得是否完全。常用的品管手法:1 系統圖（TREE）。參考表格：Wn分析表° 實例說明:參考系統圖（TREE）部分實例。Sn展開（對策提出）做法：針對所有展開之Wn,提出相對應之解決對策。原則:1 所有的W都盡可能至少一個SOLUTIONo2 Sn編號應與Wn編號相對

10、應（請參考WnSn展開表）3 為方便與Wn對照，Wn . Sn應盡量表現于同一張圖表中（即WnSn展開表）。Sn 評估（Disposition）做法:有以下兩種：一經驗評估法：1.依據本身專業知識及經驗，針對所有展開之Sn給予評價，各solution經評價后之表示方式如下： O:表示立即可行X:表示不可行:表示必須經過更進一步評估（如行效評估法）方知是否可行二行效評估法：1 針對每一個展開之Sn,列出細部執行之subject,針對subject做困難度的評估。評估的因素涵蓋完成之耗時影響生產停機時間設備修改狀況動用人力是否須進行長時間理論探討改 變作業流程經費等七方面。詳細的評估說明請見下表（

11、請參考Trouble Shooting與Continuous Improvement標準作業辦法）o2 各個subject之評分加總后即為各solution困難度之評分。再將困難度之評分除以貢獻度（困難度/貢獻度），而得到丨執行效果指標（D/C皿io）。依D/C ratio所得之值選擇分數低者優先實施， 介于010列為K項；11-99列為P項；100以上則為G項。故K項為優先執行之solutiono原則:1 依執行效果指標（D/C曲io）所得之值分數低者優先實施參考表格:貢獻度與困難度評估表Wn分析W2-1W1-1W2-2W2-3|_ W2-4W1-2 W2-5I W2-6W1-3 W2-7W1-4| W2-8I W2-9Wl-nW3-1W3-2W3-3W3-4W3-5W3-6W3-7W3-8W3-9W3-10W3-11W3-12W3-13W3-14匚 W4-1W4-2-E Wn-1.Wn-2Wn-Sn展開表Wl-lWl-2I Wl-3W1W2W3W2-1W2-2W2-3W2-4W2-5W2-6W2-7SIW4WnW3-1W3-2W3-3(O)S1-1(O)S2-1(O)S3-1(O)Sl-2(O)S2-2(O)S3-2(X)Sl-3-l(X)S2-3-l(O)S3-3-l(A)Sl-3-2(A)S2-3-