1、銅/鎳/鉻和鎳/鉻電沉積鍍層標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范此標(biāo)準(zhǔn)以固定的名稱 B456 發(fā)布，名稱后面的數(shù)字表示最初采用或最后修訂的年 份，括號(hào)里的數(shù)字表示最近重新核準(zhǔn)的年份，上標(biāo)（）表示最后修訂或再次核準(zhǔn)的 編輯變更。此標(biāo)準(zhǔn)已通過(guò)國(guó)防部的應(yīng)用核準(zhǔn)，有關(guān)國(guó)防部采納并發(fā)布的確切年份參見規(guī)范與 標(biāo)準(zhǔn)中 DOD 索引。1范圍1.1對(duì)于那些重要的金屬表面以及重要金屬表面的防腐保護(hù)，此規(guī)范涵蓋了幾種形式與級(jí)別的電沉積物與對(duì)應(yīng)金屬或合金的具體要求，這些電沉積物與對(duì)應(yīng)金屬或合 金包括：鋼表面銅鎳鉻或鎳鉻鍍層、銅和銅合金表面鎳鉻鍍層以及鋅合金表面銅 鎳鉻鍍層，與希望得到滿意保護(hù)性能狀態(tài)相適應(yīng)的五種鍍層級(jí)別為：極度惡劣、 非常惡劣、

2、惡劣、中度、輕度，這些保護(hù)性能的定義和典型例子見附錄X1。1.2 以下危險(xiǎn)警戒僅適合于試驗(yàn)方法部分此規(guī)范中的附錄X2, X3 及 X4 中，此標(biāo)準(zhǔn)不聲明任何應(yīng)用中可能涉及到的有關(guān)安全方面的問題，使用前，建立適宜的安全和 健康規(guī)范并確定規(guī)則限度的適用性乃標(biāo)準(zhǔn)使用者的責(zé)任。注釋 1ISO 標(biāo)準(zhǔn) 1456 和 1457 不是必需的，但可作為附加信息的參考。1 參考文獻(xiàn)2.1ASTM 標(biāo)準(zhǔn)：B117B183B242B252B253B281B287B320B368B380B487B499B504B530B537B554B568B571B602B659B697A S T M 名 稱B45695操作鹽霧試驗(yàn)

3、裝置實(shí)驗(yàn)電鍍用低碳鋼配制實(shí)驗(yàn)電鍍用高碳鋼配制實(shí)驗(yàn) 電鍍和電鍍層轉(zhuǎn)換鋅合金沖模鑄造的配制指導(dǎo) 電鍍用鋁合金的配制指導(dǎo) 用于電鍍和電鍍層轉(zhuǎn)換時(shí)銅和銅基合金的配制實(shí)驗(yàn) 醋酸鹽霧試驗(yàn)方法鑄鐵電鍍的配制試驗(yàn) 銅催化醋酸鹽霧試驗(yàn)方法 Corrodkote 工藝裝飾電沉淀鍍層腐蝕試驗(yàn)方法交叉部分顯微鏡檢測(cè)的金屬和氧化物鍍層厚度的測(cè)量方法 通過(guò)磁性方法測(cè)得的磁性基底金屬表面非磁性鍍層的厚度測(cè)量之試驗(yàn)方法 電量分析法所獲金屬鍍層厚度測(cè)量之試驗(yàn)方法 磁性方法所獲得的鍍層厚度測(cè)量之試驗(yàn)方法：磁性與非磁性基底表面電沉積鎳 鍍層暴露于大氣環(huán)境中的電鍍板的等級(jí)實(shí)驗(yàn) 非金屬基底表面金屬鍍層厚度測(cè)量指導(dǎo) X射線分光光度計(jì)所測(cè)

4、鍍層厚度試驗(yàn)方法金屬鍍層附著力試驗(yàn)方法 金屬和無(wú)機(jī)鍍層物的特征取樣試驗(yàn)方法 金屬和無(wú)機(jī)鍍層厚度測(cè)量指導(dǎo) 電沉積金屬和無(wú)機(jī)鍍層檢測(cè)取樣計(jì)劃的選擇指導(dǎo) 金屬和無(wú)機(jī)鍍層的多種取樣方法B762B764 同時(shí)段多層鎳沉積物中單層厚度與電氣化學(xué)電位測(cè)定的試驗(yàn)方法 D1193 試劑水的規(guī)格D3951商業(yè)包裝慣例E50裝置、試劑和金屬的化學(xué)分析安全措施的實(shí)驗(yàn)表 1：雙層和三層鎳鍍層要求概要鎳鍍層形式具體延伸 度硫黃含量總鎳鍍厚層之相對(duì)厚度雙層三層鋼其它鋼和其它底部 8% 75% 60%50-60%中間（高硫磺） 0.15%質(zhì)量比0.04%質(zhì)量比10-25%10-40% 30%試驗(yàn)方法見附錄 X2注釋 3B注釋

5、 4BA.銅、鋅和鋁基底及它的合金B(yǎng).注釋 3 和 4,見第 6 節(jié)2.2 ISO 標(biāo)準(zhǔn)ISO 1456 金屬鍍層一一鎳鉻與銅鎳鉻的電沉積鍍層ISO 1457 金屬鍍層一一鐵或鋼表面銅鎳鉻鍍層 術(shù)語(yǔ)定義重要表面一一對(duì)外觀或正常組裝位置上物件的適用性而言，通常必需為可見的表面（直接的或映射的），或因?yàn)檫@些表面而產(chǎn)生組裝物件上損壞可見表面的腐 蝕性產(chǎn)品，必要時(shí)，重要表面應(yīng)由購(gòu)買商指定并表明于零件圖上或由適當(dāng)?shù)臉?biāo) 記性樣本予以提供。4.分類4.1此規(guī)范中根據(jù)工作條件指疋了五種鍍層級(jí)別 型,由包含的分類數(shù)定義了幾種鍍層類4.2工作條件數(shù)4.2 1工作條件數(shù)表示相應(yīng)鍍層級(jí)別下暴露的嚴(yán)重程度SC5極度惡劣

6、SC4非常惡劣SC3惡劣SC2中度SC1輕度4.2.2相應(yīng)于多種工作條件數(shù)的幾種典型工作條件列于附錄X1 中4.3鍍層分類數(shù)一一鍍層分類數(shù)包括：4.3.1基本金屬（或合金中主要金屬）的化學(xué)符號(hào)后面加一斜線，不銹鋼除外，在這種情況下，表示方法為 SS 后面加規(guī)定的AISI 數(shù)再加斜線，即 SS463/4.3.2銅的化學(xué)符號(hào)（Cu）（若銅應(yīng)用其中）4.3.3千分尺測(cè)得的表示銅鍍層的最小厚度數(shù)目（若銅被應(yīng)用）4.3.44.3.5鎳的化學(xué)符號(hào)（Ni）4.3.6千分尺測(cè)得的表示鎳鍍層的最小厚度數(shù)目3.3.13.1.表示分類的符號(hào)一一鍍層分類數(shù)中使用下列小寫字母以描述鍍層類型 酸性池中延展性的銅沉積物 完

7、全光亮條件下單層鎳沉積物 需達(dá)到完全光亮程度而磨光的暗的或半明亮鎳 雙層或三層鎳鍍層 正規(guī)（即常規(guī)的）鉻微裂鉻微孔鉻4.5 完全分類數(shù)目的例子一一一個(gè)由15 卩 m 最小量（柔軟酸）銅加 25 卩 m 最小量（雙重）鎳加 0.25 U m 最小量（微裂的）鉻組成的鋼表面鍍層所具有的分類數(shù)如下：Fe/Cu15a Ni25d Cr me （見 4.3 節(jié)和 6.2 節(jié)有關(guān)符號(hào)的說(shuō)明）表 2:鋼表面鎳鉻鍍層注釋 1試驗(yàn)結(jié)果表明，有關(guān)常規(guī)鉻的分類數(shù)目所描述的鍍層系統(tǒng)是否適宜SC3 這里存有一些疑問注釋 2采購(gòu)商許可之下，銅可應(yīng)用于鎳之內(nèi)層位置，但是，它不可用于指定鎳層 的任何部分的代替者，若銅被許可使

8、用。表工作條件號(hào)分類NO鎳厚度（uT）SC5Fe/Cu15a Ni30d Cr me30Fe/Cu15a Ni30d Cr mp30鋼表面銅鎳鉻鍍層A.當(dāng)需有陰暗或光澤表面處理要求時(shí)，粗糙P 鎳或可替代于 b 鎳或鎳的亮層B. 工作條件 N0S.2 中，P 或 d 鎳或可被 b 鎳所替代，在工作條件 N0.1 中 me 鉻和 mp 鎳或可被 r 鉻所替代表 3：4.3.74.3.84.3.94.4abPdrmemp鉻的化學(xué)符號(hào)（Cr）SC4 和工作條件序號(hào)分類號(hào)A鎳層厚（uIT）SC5Fe/Ni35d Cr me35Fe/Ni35d Cr mp35SC4Fe/Ni40d Cr r40Fe/Ni

9、30d Cr me30Fe/Ni33d Cr mp30SC3Fe/Ni30d Cr r30Fe/Ni25d Cr me25Fe/Ni25d Cr mp25Fe/Ni40p Cr r40Fe/Ni3 0p Cr me30Fe/Ni3 0p Cr mp30sc2Fe/Ni20b Cr r20sc2Fe/Ni15b Cr me15Fe/Ni15b Cr mp15SC1Fe/Ni10b Cr r103 可用作于相同的工作條件SC4Fe/Cu15a Ni25d Cr me25Fe/Cu15a Ni25d Cr mp25SC3Fe/Cu12a Ni20d Cr me20Fe/Cu12a Ni20d Cr

10、mp20A.當(dāng)需有陰暗或光澤表面處理要求時(shí)，粗糙的P 鎳或可被明亮 d 鎳層所替代表 4:鋅合金表面銅鎳鉻鍍層注釋一一試驗(yàn)結(jié)果表明，如下聲明存有一些疑問，有關(guān)常規(guī)鉻的分類數(shù)所描述的鍍 層系統(tǒng)是否適宜 SC4 和 SC3工作條件號(hào)分類序號(hào)鎳層厚（u mSC5Zn/Cu5 Ni35d Cr me35Zn/Cu5 Ni35d Cr mp35SC4Zn/Cu5 Ni35d Cr r35Zn/Cu5 Ni30d Cr me30Zn/Cu5 Ni30d Cr mp30SC3Zn/Cu5 Ni25d Cr r25Zn/Cu5 Ni20d Cr me20Zn/Cu5 Ni20d Cr mp20Zn/Cu5 N

11、i35 p Cr r35Zn/Cu5 Ni25 p Cr me25Zn/Cu5 Ni25 p Cr mp25sc2Zn/Cu5 Ni20b Cr r20sc2Zn/Cu5 Ni15b Cr me15Zn/Cu5 Ni15b Cr mp15SC1Zn/Cu5 Ni10b Cr r10A. 當(dāng)需有陰暗或光亮的表面處理時(shí)，粗糙的P 鎳或可被 B 鎳或明亮的 d 鎳層所替代B.工作條件 NOs.2 和 1 中，P 或 d 鎳或可被 b 鎳所替代，工作條件 N0.1 中，me 和 mp 鉻或可被 r 鉻所替代5.定購(gòu)信息5.1 按照此標(biāo)準(zhǔn)定購(gòu)電鍍物品時(shí)，購(gòu)買者必須聲明如下信息：5.1.15.1.25.1

12、.3此標(biāo)準(zhǔn)的ASTMS稱數(shù)5.1.4表面要求，如明亮，灰暗或光澤的，做為選擇購(gòu)買商必須提供或核準(zhǔn)所需表面 處理要求或表面處理范圍的樣品。重要表面，應(yīng)顯示于零件圖面上，或者，由適當(dāng)帶有標(biāo)識(shí)符的樣品提供表示。（見 3.1）支架重要表面位置或接觸標(biāo)記，這些標(biāo)識(shí)是不可避免的。銅或銅合金表面鎳鉻鍍層雖然分類數(shù)滿意于各種工作條件數(shù)，對(duì)于抗腐蝕性能力而言，系統(tǒng)使用細(xì)微工作條件號(hào)分類號(hào)A鎳厚度（u mSC4Cu/Ni30d Cr r30Cu/Ni25d Cr me255.1.5表 5 :注釋一不連繼鉻通常優(yōu)于使用常規(guī)鉻。Cu/Ni25d Cr mp25SC3Cu/Ni25d Cr r25Cu/Ni20d Cr

13、 me20Cu/Ni20d Cr mp20Cu/Ni25 p Cr r25SC3Cu/Ni2 Op Cr me20Cu/Ni2 Op Cr mp20Cu/Ni30b Cr r30Cu/Ni25b Cr me25Cu/Ni25b Cr mp25sc2Cu/Ni15b Cr r15Cu/Ni10b Cr me10Cu/Ni10b Cr mp10SC1Cu/Ni5b Cr r5A. 當(dāng)有灰暗或光澤面表面處理要求時(shí)，粗糙的 P 鎳或可代替 b 鎳或者說(shuō) d 鎳的明亮層B. 工作條件 N0S.2 和 1 中，P 或 d 鎳或可代替 b 鎳，在工作條件 N0.1 中，me 或 mp 鉻或可替代 r 鉻5.

14、1.65.1.75.1.85.1.9非重要表面的缺陷的許可限度 非標(biāo)準(zhǔn)評(píng)估的延展度（見 6.4）取樣方法和容可度（見節(jié) 7）6.7 節(jié)中給定的限度內(nèi)按照試驗(yàn)方法B764 測(cè)定的鎳層之間電化學(xué)電位差異的最小值粘附力試驗(yàn)一一應(yīng)用的粘附力試驗(yàn)（見 6.3）6.6.16.1.16.1.2產(chǎn)品要求可視缺陷電鍍物品重要表面不得有明顯可見的電鍍?nèi)毕?，比如砂眼、凹點(diǎn)、粗糙不平、裂紋以及未鍍區(qū)域，亦不應(yīng)有污痕及變色現(xiàn)象，物品上可見的接觸印痕是不可 避免的，但這些痕跡的位置須由購(gòu)買商指定，電鍍物品必須干凈且不應(yīng)有損傷 現(xiàn)象?；捉饘俦砻娴娜毕荩绮羵⒖紫逗械慕^緣物、軋制和沖模標(biāo)記、遮掩部 位和裂痕等，或可影響

15、表面鍍層性能，盡管存在最好的電鍍實(shí)驗(yàn)先例，因此， 起因于這種電鍍?nèi)毕莸碾婂冋叩呢?zé)任應(yīng)被排除。2為盡可減少此類問題的發(fā)生，有關(guān)基底材料或電鍍項(xiàng)目的規(guī)范中應(yīng)說(shuō)包括注釋合適此類基底材料的條件限度。6.26.2.16.2.26.2.3工藝及鍍層要求對(duì)于獲得滿意粘附力和鍍層的腐蝕性能而言，適當(dāng)?shù)臏?zhǔn)備程序和對(duì)基底材料表面的清凈是必不可少的，因此，必需相應(yīng)于各種電鍍基底金屬配制好實(shí)驗(yàn)所需 之物對(duì)應(yīng)各種基底金屬。配制的 ASTM 實(shí)驗(yàn)是有效可用的，見第 2 節(jié)接下來(lái)的操作程序，把將要電鍍的零件（或物品）放置入電鍍池中，此電鍍池 要求生成一種由具體的鍍層分類數(shù)或者表2、3、4 或 5 中列出的適合具體工作條件數(shù)

16、的鍍層分類數(shù)之一的沉淀物。銅的類型與沉淀厚度6.2.3.1銅的類型由厚度值后面的下列符號(hào)來(lái)表示銅的類型 a 表示包括因銅沉淀 而提高測(cè)量水準(zhǔn)不少于 8%的延伸量的添加劑酸性池中的延展性銅沉淀物。 如果未能達(dá)到最小延伸量要求， 或者， 未達(dá)到測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)要求下的沉淀物， 此時(shí)， 厚度值之后則沒有符號(hào)。623.2銅沉淀的厚度一一隨后的化字符號(hào)銅（ Cu）的數(shù)字表示千分尺測(cè)得的重要表 面位置上銅沉淀的最小厚度 （見 3.1 節(jié)）鎳的類型和沉淀厚度鎳的類型用位于厚度值之后的下列符號(hào)所表示（注釋表示非常明亮條件下的鎳沉淀物 表示要求擦光成完全明亮度的陰暗或半明亮鎳，此類鎳必須含有少于 質(zhì) 量比的硫磺（注釋

17、3 和 4 ） ，以及不少于 8%的延伸量 表示雙層或三層鎳鍍層，此類鍍層體系中的底層必須含有少于 硫磺（注釋 4）以及不少于 8%的延伸量， 磺（注釋 3 和4）厚度必須不少于總鎳厚的 少于總鎳厚的 60%。除鋼外，鋼必須至少 至 70%之間，三層中的中間層應(yīng)含有不少于 10%的厚度，這些多鎳層鍍層要求概括于表 3為表明該用哪一種型式的鎳鍍液而指定具體硫磺含量，盡管目前還沒有簡(jiǎn) 單有效的方法來(lái)確定電鍍物品上鎳沉淀物的硫磺含量，但尤其在配制試驗(yàn)樣本時(shí)（見附錄 X3）可使用化學(xué)確定之方法。 注釋 4對(duì)按試驗(yàn)方法 B487 配制物品的斷面磨光和蝕刻，對(duì)其作精微檢驗(yàn)以識(shí)別鎳的類型，雙層和三層鍍層中單

18、層鎳厚，以及單層之間的電化聯(lián)系，也可按試驗(yàn)方 法 B764 通過(guò)STEP 式驗(yàn)加以測(cè)定。6.2.4.2鎳沉淀的厚度化學(xué)符號(hào) Ni 后面的數(shù)字表示千分尺測(cè)定的重要表面位置鎳 沉積物的最小厚度值（見 3.1 ）6.2.5 鉻的類型和沉淀厚度6.2.5.1鉻的類型沉淀鉻的類型由位于化學(xué)符號(hào) r 表示常規(guī)的（即通常的）鉻me 表示微裂鉻，所有重要表面任何方向上超過(guò) 30 裂紋/mm 的裂紋，并且肉眼看不見 這些裂紋（見6.9 節(jié)）mp 表示微孔鉻， 每 10000cm 面積上至少包含有 10000 個(gè)微孔， 并且肉眼看不到這些 微孔 （見 6.9 節(jié)）6.2.5.2 鉻沉淀物的厚度一一重要表面鉻沉積的

19、最小厚度為0.25m 外。表示鉻的厚度方法正如其類型一樣用相同的符號(hào)表示而非銅和鎳一樣用數(shù) 來(lái)表示。6.2.5.3細(xì)微不連續(xù)鎳上電鍍鉻時(shí)，過(guò)大的鍍厚將在鎳厚內(nèi)起到絕緣微粒間的連接橋 梁作用，推薦最大厚度量為 0.5 卩 m 粘附力一一鍍層必須對(duì)基底金屬具足夠的粘附力，并且多鍍層中單個(gè)鍍層之間 亦必須具足夠的粘附力，這些都可用試驗(yàn)方法 B571 中的方法加以適當(dāng)?shù)臏y(cè)試， 實(shí)用中特殊的試驗(yàn)或測(cè)試方法應(yīng)由購(gòu)買商來(lái)指定 延伸性 鍍層厚度由鍍層分類數(shù)表示最少鍍層厚度6.5.2必須認(rèn)識(shí)到或有超過(guò)此規(guī)范中所要求的鍍層厚度的鍍厚需求6.5.3必須測(cè)定重要表面點(diǎn)上鍍層厚度以及其各種鍍層，（見 3.1 節(jié)和注釋

20、5）注釋 5當(dāng)涉及具體沉淀厚度的重要表面不易控制時(shí)，比如細(xì)線、洞、深槽、角的底部及其他類似區(qū)域，購(gòu)買者和制造商必須認(rèn)識(shí)到使用更易接近的表面形成更厚 的沉淀或作特殊的導(dǎo)軌架之必要性，特殊軌架可能涉及合適性、輔助性或雙電極 或絕緣護(hù)罩的使用。表 6 不銹鋼表面鎳鉻層A, AISI 指定類型 300 及 400 系列B和鋁合金6.2.46.2.4.1 鎳的類型 bp5）注釋0.005%0.005%質(zhì)量比的 頂層必須含有多于 0.04%質(zhì)量比的硫 10%，而雙鍍層中的底層厚度必須不 75%，而三層鍍層中，底層則應(yīng)在 50% 0.15%質(zhì)量比的硫磺和不超過(guò)總鎳厚 1 中。Cr 之后的下列符號(hào)來(lái)表示：66

21、6.5.16注釋一一鎳鉻電鍍前，不銹鋼表面及鋁基底必須按供應(yīng)者和便用者協(xié)調(diào)一致的 實(shí)驗(yàn)C，B253指導(dǎo)或相當(dāng)?shù)姆椒ㄗ黝A(yù)處理準(zhǔn)備。保養(yǎng)條件號(hào)分類號(hào)鎳厚 5 mSC4SS-3XX/Ni20b/Cr mp20SC4SS-4XX/Ni25b/Cr mp25SC5Al/Cu 15a/Ni40d/Cr mp40A. 表 6 中數(shù)據(jù)僅適用于微孔鉻系統(tǒng)，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的或微裂系統(tǒng)的應(yīng)用，數(shù)據(jù)為無(wú)效的。B. 此規(guī)范中使用的不銹鋼合金數(shù)基于 AISI 系統(tǒng)，此類系統(tǒng)與其它數(shù)字系統(tǒng)比如聯(lián)合 數(shù)字系統(tǒng)（UNS或外部規(guī)定具不可互換性。C. 不銹鋼基底預(yù)電鍍D. 鋁基底預(yù)電鍍E. 指定的 300 或 400 合金襯片數(shù)6.6 腐

22、蝕試驗(yàn)注釋 6催化性腐蝕試驗(yàn)結(jié)果與其它介質(zhì)中腐蝕耐力性之一間沒有直接的聯(lián)系，由 于 多種因素，比如保護(hù)膜的形成、腐蝕進(jìn)展的影響以及所遭遇條件的相關(guān)變化 等的影響，因此試驗(yàn)所獲得的結(jié)果，不能作為所有環(huán)境的試驗(yàn)材料腐蝕耐力的直 接指導(dǎo)，同時(shí)，試驗(yàn)中不同材料的性能不能當(dāng)作工作條件下這些材料的相對(duì)腐蝕 耐力的直接指導(dǎo)?！翱山邮艿哪土Α币馕吨@樣一種缺陷情況，當(dāng)被仔細(xì)觀測(cè)時(shí)，不屬于電鍍部件功能 影響的重大破壞與損傷表面或其它有害的方面，實(shí)驗(yàn)B537 給出一種腐蝕等級(jí)的確定方法。6. 7 STEP 試驗(yàn)要求注釋 7通常不建構(gòu)一個(gè)容許接受的 STEP 值，但有關(guān) STEP 值的范圍協(xié)議必須取得， STEP

23、值取決于被測(cè)量的兩個(gè)鎳層。半一明亮鎳層和明亮鎳層之間的 STEP 電位差值范圍是 100 至 200mv。對(duì)于所有 的鎳層組合而言，半一明亮鎳層比明亮鎳層更高級(jí)（陰極的）。明亮鎳層之間以及明亮鎳層與鉻層之間的 STEP 電位差異存有 0 至 30mv 的電位范圍，相比于鉻前 面的鎳層，明亮鎳層更活躍（陽(yáng)極的）6. 8 硫磺含量6. 9 密度及鉻的不連繼性測(cè)量X 10 平方毫米的量（10000 孔/cm2），并且肉眼不可見這些裂紋和孔隙。表 7:對(duì)應(yīng)于每種工作條件數(shù)的腐蝕試驗(yàn)注釋 1所謂“中性”鹽霧試驗(yàn)，主要因?yàn)榻Y(jié)果再生性的缺乏A,實(shí)驗(yàn) B117 通常被懷疑為裝飾性鎳鉻鍍層的催化性腐蝕試驗(yàn)，試驗(yàn)

24、被看作仍應(yīng)用于許多電鍍工業(yè)的程序中，用以檢查相對(duì)柔和工作條件下使用的鍍層品質(zhì)，因此，這種試驗(yàn)和滿足B254CA. “標(biāo)準(zhǔn)鹽霧試驗(yàn)一一它是一個(gè)有效認(rèn)可的試驗(yàn)嗎？”7 取樣要求7.1 檢查一定數(shù)量電鍍物品所用的取樣計(jì)劃須經(jīng)采購(gòu)商與供應(yīng)商協(xié)商一致。注釋 8通常，按照鍍層上的要求，隨機(jī)選取相對(duì)較少的物品作為樣品加以檢查，以此方法來(lái)檢驗(yàn)成組的鍍層物品，基于樣品檢查之結(jié)果要求，待檢物品按符合與 不符合加以分類，應(yīng)用統(tǒng)計(jì)學(xué)原理確定樣品的多少與遵從的標(biāo)準(zhǔn)， 此過(guò)程稱為取 樣檢驗(yàn)， 三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)， 試驗(yàn)方法 B602,指導(dǎo) B697和方法 B762 包含了鍍層取樣檢驗(yàn) 而設(shè)計(jì)的取樣計(jì)劃。試驗(yàn)方法 B602 包含四個(gè)

25、取樣計(jì)劃，其中三個(gè)用于非破壞性試驗(yàn)， 一個(gè)用于破壞性 試驗(yàn)，買賣雙方可以相互協(xié)議所用的計(jì)劃方案， 若雙方未能達(dá)成一致意見， 那么， 通過(guò)試驗(yàn)方法 B602確定出所用之計(jì)劃。指導(dǎo) B697 提供了大量計(jì)劃并給出了計(jì)劃選擇指導(dǎo)，一旦指導(dǎo)B697 被指定，買賣雙方則必需協(xié)商好所用之計(jì)劃。方法 B762 僅用于有數(shù)值限度的鍍層要求，比如鍍層厚度，試驗(yàn)必須產(chǎn)生一個(gè)數(shù)值和某些必須滿足的統(tǒng)計(jì)要求，方法 B762 包括許多計(jì)劃并給出滿足特殊需求的精確 計(jì)劃的說(shuō)明，買賣雙方可以就計(jì)劃或所用之計(jì)劃協(xié)商一致，若他們未能達(dá)成一致 意見，B762 可以確定所用之計(jì)劃。注釋 9當(dāng)作特征測(cè)量的破壞性和非破壞性試驗(yàn)同時(shí)存在時(shí)

26、， 采購(gòu)者需要聲明究竟 采用哪一種類型的試驗(yàn)以選擇出適當(dāng)?shù)娜佑?jì)劃，一個(gè)試驗(yàn)或許會(huì)損壞不重要的 鍍層區(qū)域，或者，盡管損壞了鍍層，但試驗(yàn)部件或可通過(guò)剝脫和重鍍以重新獲得， 采購(gòu)者需聲明是否采用破壞性試驗(yàn)或非破壞性試驗(yàn)。7. 2 檢查抽樣組應(yīng)該明確為某種同類電鍍物品的組合，由同一規(guī)格所產(chǎn)生，并由單個(gè) 供應(yīng)商在同一時(shí)間或同一條件下大致相同時(shí)間內(nèi)電鍍，這些多種組合作為認(rèn)可或 拒收的整體來(lái)遞呈。7. 3 如果單獨(dú)的試驗(yàn)樣本用作代表試驗(yàn)被鍍物品，那么樣本必須在附錄X2, X3 和 X4中呈現(xiàn)出其性質(zhì)、大小、數(shù)量和要求的加工過(guò)程，除非有必要加以論證，非破壞 性試驗(yàn)制作項(xiàng)目和視覺檢驗(yàn)中不得運(yùn)用單個(gè)配制的樣本，

27、單個(gè)配制樣本可或用于 包括粘附力，延展性，硫磺含量和不連續(xù)數(shù)確定的破壞性試驗(yàn)和腐蝕試驗(yàn)等場(chǎng)合?；捉饘俟ぷ鳁l件數(shù)（電鍍等級(jí)）腐蝕試驗(yàn)與持續(xù)時(shí)間（H）CASS 方法Corrodkote 方 法醋酸鹽方法B368B380B287鋼、鋅合金 或銅和銅 合金、不銹 鋼和鋁合金SC544SC422兩個(gè) 16-h 環(huán)循144SC3161696SC24424SC18采購(gòu)者與制造者之間協(xié)議要求的任何使用的建議應(yīng)該局限于工作條件 指定的鍍層范圍內(nèi)注釋 2醋酸鹽方法 B287 已廢止Nos.2 和 1&包裝7.1 按實(shí)驗(yàn) D3951 包裝好包括轉(zhuǎn)包合同在內(nèi)的美國(guó)政府和軍用的電鍍部件。8 關(guān)鍵字10.1 腐

28、蝕、裝飾、電鍍沉積鉻、電鍍沉積銅、電鍍沉積鎳 附錄（非強(qiáng)制性信息）X1 各種工作條件數(shù)（電鍍等級(jí)）相應(yīng)工作條件的定義與實(shí)例X1.1 工作條件 SC5（極度惡劣）一一除了基底材料長(zhǎng)期保護(hù)要求下的暴露于腐蝕環(huán)境 的工作條件，很可能包括凹痕、擦傷和磨損磨蝕等損傷情況，例如，某些汽車的 外部部件環(huán)境條件。X1.2 工作條件 SC4（非常惡劣）一一除了暴露于腐蝕環(huán)境外的很可能包括凹痕，擦傷 和磨損磨蝕等損傷的工作條件， 例如，汽車外部部件和鹽水中船裝配所遇之狀況。X1.3 工作條件 SC3（惡劣）一一很可能包括因?yàn)橛晁蚵端蚩赡軓?qiáng)力吸塵裝置和鹽 湖溶液引起的偶爾或頻繁的濕暴露狀況，例如：門廊和草地設(shè)備

29、、自行車和測(cè)距 儀部件、醫(yī)院設(shè)備和裝置所遇之狀況。X1.4 工作條件 SC1 （中度）一一暴露于室內(nèi)可能發(fā)生的潮濕凝聚的地方，例如：廚房 和浴室X1.5 工作條件 SC1 （輕度）一一暴露室內(nèi)通常溫暖、干燥空氣中，鍍層磨損或磨蝕最 少的狀況。X2 延伸性試驗(yàn)注釋 X2.1 此試驗(yàn)用于保證銅與鎳沉淀的類型與 6.4 節(jié)給定定義的一致性X2.1 試驗(yàn)物件的準(zhǔn)備（1 m 厚銅或鎳。X2.2 程序電鍍邊拉緊狀態(tài)下 （在外邊）弄彎試驗(yàn)條， 通過(guò)平衡穩(wěn)定施壓， 在 11.5mm 直徑的心軸 180作用下直至試驗(yàn)條兩端平行為止，確保弄彎期間試驗(yàn)條和心軸 保持接觸狀態(tài)。X2.3 評(píng)估若試驗(yàn)后凸起表面上無(wú)完整的

30、裂紋痕跡， 則被認(rèn)為符合 8%延伸量的最小 量電鍍要求，邊上小裂紋不屬評(píng)估之列。X3 電沉積鎳中硫磺的測(cè)定X3.1 碘酸鹽燃燒滴點(diǎn)電鍍鎳中總硫磺量此方法涵蓋了質(zhì)量比為 0.005%至 0.5%濃度下硫磺的測(cè)定形式。樣品中硫磺的主要部分是通過(guò)感應(yīng)爐中氧氣流的燃燒將硫磺轉(zhuǎn)化為二氧化硫的形 式存在的，燃燒期間， SO2二氧化硫被吸入一酸性碘化物淀粉溶液中并用碘酸鉀 溶液滴定，后者以已知硫磺含量的鋼為基底標(biāo)準(zhǔn)化后用于補(bǔ)嘗給定裝置的性能和 每天的硫磺恢復(fù)至二氧化硫的百分率的變化量， 催化劑與坩鍋的補(bǔ)償被作為半成 品。注釋 X3.1 通過(guò)紅外線操測(cè)方法使用儀器測(cè)量燃燒中獲得的二氧化硫量并使用內(nèi)置計(jì)算機(jī)累積

31、和顯示硫磺的百分率含量。通常情況下，電鍍鎳中的元素不相互干涉。實(shí)驗(yàn) E50 描述了通過(guò)直接燃燒的方法以感應(yīng)熱裝置來(lái)對(duì)硫磺的測(cè)定（裝置NO.13）各級(jí)別的化學(xué)試劑應(yīng)用于所有試驗(yàn)，除非特別指明，所有試劑必須符合美國(guó)化學(xué) 學(xué)會(huì)試劑分析委員會(huì)規(guī)范，這些規(guī)范是有效可用的，如果最初測(cè)定的試劑具有 足夠高的純度并且其應(yīng)用沒有降低測(cè)定的精確度，那么其它等級(jí)亦可使用。除非特別指明，所指水應(yīng)被理解為符合規(guī)范D1193 的中性試劑水。混合容積比分別為 3： 97 的濃縮鹽酸（HCI）和水。- 碎片粉末在 900 毫升水中溶解 0.2225 克碘酸鉀（KIO3）并稀釋至 1 升溶液。轉(zhuǎn)移 200 毫升碘酸鉀溶液 A

32、（1 毫升=0.01 毫克 S）至容量為 1 升的燒瓶?jī)?nèi)，稀釋 并混合。注釋 X3.2 硫磺當(dāng)量基于硫到二氧化硫的完全轉(zhuǎn)化，二氧化硫的硫的恢復(fù)或許少于100%但當(dāng)溫度和氧流率保持不變時(shí)，硫的當(dāng)量是恒定的，通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的分析確定實(shí)驗(yàn)因子。在一小的傾口燒杯中放 1 克溶解的或竹竽淀粉，加 2 毫升幵水，攪拌直至獲得一 光亮糊為止，然后將混合溶液倒入50 毫升的沸水中，冷卻，加入 1.5 克碘化鉀（KI）攪拌至其溶解，稀釋至 100 毫升。用于校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)和正確硫含量的工藝鋼。卩 m 的附著力鎳沉積加以電鍍，最后徹底漂洗。光亮的鎳或光亮的不銹鋼可被作為鋼 表面鍍鎳的一種選擇。3PO）堿性熱濾

33、清器（溫度 70 至 80C）或 60 克/升任何其它適宜的陽(yáng)極堿性濾清器對(duì) 試驗(yàn)板在 3V 陽(yáng)極電壓下作 5 至 10 秒的鈍化處理。卩 m 厚的鎳沉淀于鈍化試驗(yàn)板上。X3. 1. 7. 4 用手或剪刀或任何其它使試驗(yàn)薄膜迅速分離的方法消除電鍍板的邊緣膜 片。選擇并稱重約 0.1如下：期望硫磺含量（質(zhì)量比）樣品重量（克）0.005 至 0.101.0 0.020.10 至 0.500.2 0.02選擇給定樣品重量中硫磺含量接近兩個(gè)高低限度值中的最小者，同時(shí)先擇一接近 平均值，如若需要，平均值可加以模仿，相當(dāng)于其它二者中每個(gè)樣品重量的1.5倍，如下為程序的步驟：3溶液直到被作為終點(diǎn)的藍(lán)色出現(xiàn)為

34、止，重新填滿滴定管中的溶液。注釋 X3.3滴定容器中的溶液于同一點(diǎn)位置處。注釋 X3.4 保持調(diào)節(jié)氧氣流速以達(dá)單個(gè)操作者或設(shè)備的要求，但是，對(duì)試驗(yàn)樣品和 標(biāo)準(zhǔn)樣品，流速必須相同。溶液連續(xù)滴定以致于盡可能地維持起初的藍(lán)顏色亮度。當(dāng)初始藍(lán)顏色保持 1 分鐘后即達(dá)到終點(diǎn)，此時(shí)，記錄最后的滴定讀數(shù)，并通過(guò)排氣活塞排出滴定容器中的液 體。計(jì)算碘酸鉀中硫磺因子分式如下：AX B硫磺因子，克/單位體積二（C-D）X這里：A=所用標(biāo)準(zhǔn)樣品的克數(shù)B= 標(biāo)準(zhǔn)樣品中硫的百分量C= 用于標(biāo)準(zhǔn)樣品（注釋 X3.5）D= 用于毛坯滴定（注釋 X3.5） 注釋X3.5 “直接讀數(shù)”滴定管中硫磺的可見百分率。（E-D） F1

35、00滴定所需的 KIQ 溶液的毫升數(shù) 所需的 KIO3溶液的毫升數(shù)硫磺，質(zhì)量百分比（% =X 100G這里：E= 式驗(yàn)樣品滴定所需的 KIO3溶液（注釋 X3。5）毫升D= 毛坯滴定所需的 KIQ 溶液毫升3的平均硫磺因子，克/單位體積G= 所用樣品量，克X3.2 通過(guò)演變方法測(cè)定電鍍鎳中硫磺量。此方法涵蓋了質(zhì)量比（）為 0.005 至 0.2 范圍內(nèi)電鍍鎳中硫化物中硫磺量的測(cè)定硫化物中的硫以硫化氫（HS）的形式存在，此溶劑為含有少量作為催化劑鉑的溶液 的鹽酸（HCI）樣品溶劑，硫在接收容器中以硫化鋅（ZnS）的形式沉淀下來(lái)，然 后以標(biāo)準(zhǔn)碘酸鉀溶液加以滴定，以碘酸鉀（KIO3）的值作為主要標(biāo)準(zhǔn)

36、。圖 X3.1 按生成方法 X3.2 電鍍鎳薄膜中硫磺的測(cè)定裝置各等級(jí)的化學(xué)試劑運(yùn)用于所有試驗(yàn)中，除非特別指明，所有試劑必須符合美國(guó)化 學(xué)協(xié)會(huì)試劑分析委員會(huì)規(guī)范要求，這些規(guī)范均是有效可行的，如果首先確定為 高純度試劑足以在其使用中不降低測(cè)定的精確度，那么，其它等級(jí)的試劑亦可 運(yùn)用。除非特別指明，所涉及的水必須是符合規(guī)范D1193 的中性試劑水。于 250 毫升水中溶解 50 克硫酸鋅（ZnSO.7H2O）加入 250 毫升氫氧化氨（NHOH 并混合之，然后放入燒瓶中并保留24 小時(shí)后過(guò)濾到一聚乙烯瓶里。于 40 毫升水中溶解 0.5 克六氯酚酸（HbPT CL6.H2O），加入 5 毫升鹽酸（

37、HCI）并 稀釋至 50 毫升氯化鉑溶液一一將 500ml 稀釋鹽酸（HCI）溶液加入 2.5 毫升六氯酚酸溶液并混合之 在 180C溫度下干燥碘酸鉀（KIO3）晶體 1 小時(shí)，然后在約 200 毫升水中溶解 3.570 克碘酸鉀（KIQ）后移至容積為 1 升的燒瓶中，稀釋至燒瓶容積量并混合之用一吸量管把 25ml 0.1N 的 KIO3溶液移至 500 毫升燒瓶中，然后稀釋至燒瓶容積 量并混合之-碘化鉀（50 g/L ）溶液一一加入 5 毫升水到 1g 可溶淀粉中并伴隨攪拌直至膠糊狀 形成，此時(shí)，加入 100 毫升沸水，冷卻后加入 5 克碘化鉀（KL）攪拌直到碘化 鉀溶解為止。選擇并稱大約 0.1 毫克的樣品數(shù)量如下:期望硫磺含量，質(zhì)量百分比 %樣品重量（克土 0.02）0.005 至 0.071.00.05 至 20.4C。六氯酚酸溶液至樣品中，組裝如圖 X3.1 所示的裝置， 由經(jīng)系統(tǒng)流過(guò)一輕柔的氮?dú)饬?注釋 X3.6滿意的流速為大約 30cm/min，如果樣品快速溶解，那么當(dāng)氫釋放時(shí)必須降低流速。注釋 X3.7如果適當(dāng)調(diào)節(jié)熱極板溫度和氮?dú)饬髁?，那么整個(gè)溶解過(guò)程中接收瓶中的