OLED簡介OLED的分類OLED基本結構OLED發光機制OLED的TFT驅動1234OLED工藝制程5材料驅動方式發光方式制作工藝高分子材料（PLED）小分子材料（SMOLED）主動式（AMOLED）被動式（PMOLED）頂發射（TE）底發射（BE）真空蒸鍍（VacummEvaporation）旋涂（Spin-coat）噴墨打印（ink-jetprinting）OLED1.OLED分類2.OLED基本結構LCD背光源與色阻結合控制發光電壓驅動，液晶控制發光強度OLED自發光，

不需要背光源響應時間快電流驅動，電流大小控制發光容易實現軟屏化3.1

有機材料導電機理Pauli不相容原理：同一個分子軌道最多只可填滿2個電子，且自旋相反。HOMO/LOMO：有電子排布的，能量最高的分子軌道稱為HOMO；沒有被電子占據的，能量最低的分子軌道稱為LUMO。當電子只填滿最高占有軌道(HOMO)時，此分子處于基態。激發態則是指電子激發到LOMO軌道的狀態。分子一般處于基態，當激子的能量與分子某一個能級差一致時，可使電子激發至較高能級。3.1

有機材料導電機理熒光磷光時間短(10-7-10-9s)長(10-4-102s)機理單重態躍遷至基態三重態躍遷至基態光子能量高較熒光低發光效率低(理論25%)高(理論100%)3.2

有機電致發光器件的基本結構一般采用夾層式結構。電子注入層（EIL）：使電子由陰極注入電子傳輸層（ETL）：是電子由陰極注入，并傳輸電子發光層（EML）：傳輸電子和空穴，復合形成激子，從而產生光發射空穴傳輸層（HTL）：使空穴由HIL傳輸到發光層空穴注入層（HIL）：空穴由陽極注入空穴阻擋層（HBL）：由于空穴和電子傳輸速率不一致，為了防止空穴傳輸到有機/金屬陰極界面引起光的猝滅，引入空穴阻擋層。3.3OLED器件發光機制發光過程通常由4個階段完成：（１）在外加電場作用下載流子的注入：電子和空穴分別從陰極和陽極向夾在電極之間的有機功能薄膜注入（２）載流子傳輸：注入的電子和空穴分別從電子輸送層和空穴輸送層向發光層遷移（３）激子的形成和遷移：電子和空穴復合產生激子，激子在電場作用下遷移，能量傳遞給發光分子，并激發電子從基態躍遷到激發態（4）電致發光：激發態能量通過輻射躍遷產生光子3.4

有機發光器件常用材料各層材料基本特性：陰極：功函數低，電子容易逸出陽極：功函數高，且透明載子傳輸層：ETM和HTM具有相當的載子遷移率；具有較高的玻璃轉移溫度Tg和熱穩定性；具有形成非結晶薄膜的能力發光層：良好的半導體特性，即具有高的導電率，能傳導電子或空穴或兩者兼有；好的成膜性，在幾十納米的薄層中不產生針孔；良好的熱穩定性緩沖層（空穴阻擋層）：空穴的傳輸速率約為電子傳輸速率的兩倍，為了防止空穴傳輸到有機/金屬陰極界面引起光的猝滅，在制備器件時需引入緩沖層3.5OLED全彩化技術目前OLED全彩化方法可分成五種，分別是（a）RGB像素并置法、（b）彩色濾光片法、（c）色轉化法、（d）微共振腔調色法、（e）多層堆疊法。3.5OLED全彩化技術3.5.1RGB像素并置法制作方法：在蒸鍍紅、藍、綠其中一種有機材料時，利用遮罩將另外兩個像素遮蔽，然后利用高精度的對位系統移動遮罩或者基板，再繼續下一像素的蒸鍍。優勢色彩飽和度高發光效率高材料成本低技術難點掩膜的熱脹冷縮影響對位系統的精準度掩膜開口阻塞及污染問題RGB三原色發光壽命的差異對位系統的精準度3.5OLED全彩化技術3.5.2

彩色濾光片法制作方法：將三種發光層疊在一起，使紅、綠、藍混色產生白光，或是互補色產生白光，再使用彩色濾光片濾出三色光。優勢發光層的制備不需要掩膜開口率不受RGB圖形的影響技術難點彩色濾光片使色彩減弱2/3，需要高效且穩定的白色光源彩色濾光片增加了成本，生產效率降低白色光譜影響色域大小3.5OLED全彩化技術3.5.3色轉換法制作方法：在藍色發光層中加入能量轉移的中心，使短波長、能量較大的藍光以能量轉移方式，轉換成其他顏色的光，因此在材料的選擇與技術開發上比較容易，只須先產生一個發光效率、色純度極佳的藍光。優勢發光層的