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文檔簡介
LCD之BM工藝簡介目錄1BM工藝2BM工藝參數(shù)3典型不良BM工藝LD/UNLDRobotRobotPPCLEANERBFcoaterVCDCPHPRobotRobotRobotMulaTitlerTurnCVRobotCoolingOVENRobotLDCVAOIBFRobotPostUVDeveloperTurnCVEXPBM(blackmatrix):黑色矩陣,起到遮光作用。
PRSlitScandirectionCoating
EXP
Mask
Coating
DEV.D.I.W.BM工藝參數(shù)ThicknessBM膜厚spec:1.15±0.1um影響該參數(shù)的因素有:Coaterrecipe(包含涂布速度、吐膠速度等)、PR特性(固含量等)、VCD抽真空參數(shù)、HP參數(shù)、Oven參數(shù)等ODOD(OpticalDensity)反應(yīng)的是BM膜的透光率,計(jì)算公式為log10(1/T),其中T為BM膜的透光率;T=出射光強(qiáng)(I)/入射光強(qiáng)(I0),OD>4.0TP入射光強(qiáng)度出射光強(qiáng)度II0膜厚測量該參數(shù)的方法:Color設(shè)備,對于OD值,采用透射方式,對BM膜的透光率進(jìn)行檢測,并計(jì)算出OD。測量該參數(shù)的方法:Thickness設(shè)備。TP(TotalPitch):即總體距離,標(biāo)記panel圖形在玻璃上的位置和形狀(如圖)。作用:通過TP測量的實(shí)際值與設(shè)計(jì)值的差得到曝光的偏差量。CDCD(CriticalDimension):即關(guān)鍵尺寸,就是指PR膠形成的Pattern中重要部位的尺寸(如圖)。作用:測量BM的線寬和RGB的Pattern尺寸。測量該參數(shù)的方法:TP設(shè)備。測量該參數(shù)的方法:CD設(shè)備。典型不良水漬不良PeelingMura檢出設(shè)備:Marco不良產(chǎn)生原因:因基板在清洗后,水未徹底被吹干,在后續(xù)工段造成水揮發(fā)后留下污漬。種類:根據(jù)發(fā)生設(shè)備,水漬可發(fā)生在膜面下或膜面上。檢出設(shè)備:Mura不良產(chǎn)生原因:因種種原因?qū)е峦坎汲赡げ痪鶆颍饩€透過膜面會產(chǎn)生明暗變化。種類:
Line-Mura、V-Mura、Pin-Mura、Lens-Mura&OtherMura檢出設(shè)備:DEV不良產(chǎn)生原因:顯影時(shí)將BM、DATA或Gate線部分洗掉,在AOI上顯示為亞像素位
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