




版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
LCD之BM工藝簡介目錄1BM工藝2BM工藝參數3典型不良BM工藝LD/UNLDRobotRobotPPCLEANERBFcoaterVCDCPHPRobotRobotRobotMulaTitlerTurnCVRobotCoolingOVENRobotLDCVAOIBFRobotPostUVDeveloperTurnCVEXPBM(blackmatrix):黑色矩陣,起到遮光作用。
PRSlitScandirectionCoating
EXP
Mask
Coating
DEV.D.I.W.BM工藝參數ThicknessBM膜厚spec:1.15±0.1um影響該參數的因素有:Coaterrecipe(包含涂布速度、吐膠速度等)、PR特性(固含量等)、VCD抽真空參數、HP參數、Oven參數等ODOD(OpticalDensity)反應的是BM膜的透光率,計算公式為log10(1/T),其中T為BM膜的透光率;T=出射光強(I)/入射光強(I0),OD>4.0TP入射光強度出射光強度II0膜厚測量該參數的方法:Color設備,對于OD值,采用透射方式,對BM膜的透光率進行檢測,并計算出OD。測量該參數的方法:Thickness設備。TP(TotalPitch):即總體距離,標記panel圖形在玻璃上的位置和形狀(如圖)。作用:通過TP測量的實際值與設計值的差得到曝光的偏差量。CDCD(CriticalDimension):即關鍵尺寸,就是指PR膠形成的Pattern中重要部位的尺寸(如圖)。作用:測量BM的線寬和RGB的Pattern尺寸。測量該參數的方法:TP設備。測量該參數的方法:CD設備。典型不良水漬不良PeelingMura檢出設備:Marco不良產生原因:因基板在清洗后,水未徹底被吹干,在后續工段造成水揮發后留下污漬。種類:根據發生設備,水漬可發生在膜面下或膜面上。檢出設備:Mura不良產生原因:因種種原因導致涂布成膜不均勻,光線透過膜面會產生明暗變化。種類:
Line-Mura、V-Mura、Pin-Mura、Lens-Mura&OtherMura檢出設備:DEV不良產生原因:顯影時將BM、DATA或Gate線部分洗掉,在AOI上顯示為亞像素位
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業或盈利用途。
- 5. 人人文庫網僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 氧化石與納米親水二氧化硅在流變性和攜砂能力中的作用研究
- 安全施工方案
- 智能時代個人信息保護自律機制構建研究
- 基于PLC的機床電氣控制設計原理與應用實例
- 聽覺視角下的文學作品深度解讀
- 構建學習型社會:教育關系重構與創新路徑探索
- 公務接待相關管理辦法
- 安全生產十四五
- 新媒體環境下播音主持話語表達的創新范式研究
- 儲運部工作總結
- 2025至2030中國中小型風電行業產業運行態勢及投資規劃深度研究報告
- 六大茶類培訓
- 2025-2030中國油田化學品行業市場深度調研及行情監測與投資前景研究報告
- 2025年烏魯木齊危險品駕駛員模擬試題
- 2025至2030中國質子束治療系統行業產業運行態勢及投資規劃深度研究報告
- 外事安保活動方案
- 自主招生面試題及答案
- 深基坑監測管理制度
- 2025年甘肅省民航機場集團校園招聘45人筆試參考題庫帶答案詳解
- 2025年高考真題-英語(全國一卷) 含答案
- 統編版高中政治必修三《政治與法治》期末復習:選擇題刷題練習題(含答案解析)
評論
0/150
提交評論