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文檔簡介
半導體物理與器件智慧樹知到課后章節答案2023年下上海電子信息職業技術學院上海電子信息職業技術學院
第一章測試
半導體材料的導電性能介于金屬材料和絕緣材料之間。()
A:對B:錯
答案:對
電中性原子失去電子后帶正電。()
A:錯B:對
答案:對
半導體硫化銀的電阻具有負的溫度系數是因為?()
A:當硫化銀受熱時產生了更多的電子參與定向運動B:當硫化銀受熱時產生了更少的電子參與定向運動
答案:當硫化銀受熱時產生了更多的電子參與定向運動
常溫下,半導體材料的電阻率在什么范圍?()
A:>109Ω·cmB:<10-3Ω·cmC:10-3Ω·cm~109Ω·cmD:>1010Ω·cm
答案:10-3Ω·cm~109Ω·cm
是誰首先提出:將電、磁、光統歸為電磁場現象的麥克斯韋方程組?()
A:赫茲B:安培C:麥克斯韋D:奧斯特
答案:麥克斯韋
第二章測試
中子是帶正電的。()
A:錯B:對
答案:錯
中子是帶負電的。()
A:對B:錯
答案:錯
核外的電子是分布在能量的軌道上的()
A:不連續B:連續
答案:不連續
核外電子的能量是被量子化的,每份能量的大小由公式hυ確定,h是,υ表示。()
A:波的頻率,普朗克常量B:普朗克常量,波的頻率
答案:普朗克常量,波的頻率
一個主量子數是不能精確確定電子的軌道的,每個軌道里面還可以再細分,即還有分殼層,它用表示的。()
A:字母,例如s,p,d,…B:數字,例如1,2,3,…
答案:字母,例如s,p,d,…
第三章測試
N型半導體主要靠自由電子運動導電,也稱為電子半導體。()
A:對B:錯
答案:對
P型半導體主要靠空穴運動導電,也稱為空穴半導體。()
A:錯B:對
答案:對
PN結中載流子的運動是這樣的:P型半導體中的多子空穴向N區擴散,留下不可移動的負離子;N型半導體的多子電子向P區擴散,留下不可移動的正離子。()
A:對B:錯
答案:對
在硅或鍺的晶體中摻入少量的5價雜質元素,如磷、銻、砷等,可以構成。()
A:P型半導體B:N型半導體
答案:N型半導體
在硅或鍺的晶體中摻入少量的3價雜質元素,如硼、鎵、銦等,可以構成。()
A:N型半導體B:P型半導體
答案:P型半導體
第四章測試
將兩個背靠背的PN結連接在一起的三明治結構,可以形成雙極結型晶體管,它有兩種不同的結構,一種是NPN結構,另一種是PNP結構。()
A:錯B:對
答案:對
將兩個PN結以非背靠背方式連接在一起的四層結構,可以形成晶閘管。()
A:對B:錯
答案:對
晶體管發射極(emitter)e用于收集載流子。()
A:對B:錯
答案:錯
晶體管的電流放大倍數等于集電極電流變化量ΔIC與基極電流變化量ΔIB的比值。()
A:對B:錯
答案:對
將晶體管三個區的摻雜濃度按從高到低順序排序,正確的順序是:。()
A:發射區>集電區>基區B:發射區>集電區>基區C:發射區>基區>集電區D:集電區>發射區>基區
答案:發射區>集電區>基區
第五章測試
三極管是由電流來控制實現功能的。()
A:對B:錯
答案:對
MOSFET管是由電流來控制實現功能的。()
A:對B:錯
答案:錯
MOSFET管是由電場來控制實現功能的。()
A:對B:錯
答案:對
增強型NMOS管中,兩個重摻雜的N區分別稱為源區Source和漏區Drain。()
A:對B:錯
答案:對
溝道電壓、柵極電壓和漏極電壓三者之間的關系是什么?()
A:柵極電壓=柵極電壓+漏極電壓B:柵極電壓=柵極電壓—漏極電壓
答案:柵極電壓=柵極電壓—漏極電壓
第六章測試
CMOS是互補金屬氧化物半導體(ComplementaryMetalOxideSemiconductor)的簡寫。()
A:對B:錯
答案:對
CMOS中的字母M代表Metal金屬的意思。()
A:對B:錯
答案:對
CMOS中的字母O代表Oxide氧化物的意思。()
A:錯B:對
答案:對
N阱CMOS工藝中第六次光刻是為了制作接觸孔。()
A:錯B:對
答案:對
N阱CMOS工藝中第七次光刻是為了制作金屬互聯線。()
A:對B:錯
答案:對
第七章測試
金屬和半導體接觸又稱為歐姆接觸。()
A:對B:錯
答案:對
結面積較大的二極管適用于低頻線路。()
A:錯B:對
答案:對
半導體有四種基本結構分別為:()
A:MS結構B:異質結構C:MOS結構D:PN結構
答案:MS結構;異質結構;MOS結構;PN結構
二極管按材料,可分為哪兩大類?()
A:硅管B:鍺管C:LEDD:整流管
答案:硅管;鍺管
晶體管主要分為哪兩類?()
A:穩壓管B:雙極結型晶體管C:二極管D:場效應晶體管
答案:雙極結型晶體管;場效應晶體管
第八章測試
摩爾定律是物理定律,這種說法是否正確。()
A:對B:錯
答案:錯
摩爾定律不是物理定律,這種說法是否正確。()
A:錯B:對
答案:對
22nm到5nm的工藝節點的芯片采用FinFET鰭狀場效應管工藝制作。()
A:對B:錯
答案:對
新型半導體器件的三大發展方向是什么?()
A:擴展摩爾(MorethanMoore)B:深度摩爾(MoreMoore)C:超越摩爾(BeyondMoore)
答案:擴展摩爾(M
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