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文檔簡介
精品文檔-下載后可編輯MOS管的開通過程以及米勒平臺的形成分析-基礎電子對于MOSFET而言,米勒效應(MillerEffect)指其輸入輸出之間的分布電容(柵漏電容)在MOSFET開關過程中,會使驅動信號形成平臺電壓,引起開關時間變長,進而導致開關損耗增加,給MOS管的正常工作帶來非常不利的影響。
本文將以網上了解到的相關資料為基礎并結合自己的理解,分析MOS管開通過程以及米勒平臺的形成。首先我們先看一下MOSFET的結構簡化圖:
圖一MOSFET的結構簡圖
通過圖一可知:N溝道增強型MOS管以一塊低摻雜的P型硅片為襯底,利用擴散工藝制作兩個高摻雜的N+區,并引出兩個電極,分別為源極s和漏極d,半導體上制作一層SiO2絕緣層,再在SiO2之上制作一層金屬鋁,引出電極,作為柵極g。通常將襯底與源極接在一起使用。這樣,柵極和襯底各相當于一個極板,中間是絕緣層,形成電容當柵—源電壓變化時,將改變襯底靠近絕緣層處感應電荷的多少,從而控制漏極電流的大小。
MOSFET的寄生電容主要包括柵源電容(Cgs)、柵漏電容(Cgd)以及漏源電容(Cds)。圖二是MOSFET內部的結構圖及等效電路。
圖二MOSFET結構圖及等效電路
一般器件的手冊中,都會以下列形式給出MOSFET的寄生電容,
而米勒平臺的形成恰恰和MOSFET的寄生電容存在千絲萬縷的關系,下面介紹米勒平臺的形成過程。考慮到電感負載的廣泛應用,本文以電感負載來分析米勒平臺的形成。由于MOS管開關的時間極短,電感電流可以認為不變(不明白的同學可以翻一翻前面的文章/斜眼笑),當作恒流源來處理。圖三是柵極驅動電路以及開通時MOS管的電流電壓波形。
圖三柵極驅動電路及其波形
結合圖三,MOSFET的開通過程大致分為三個階段。
t0-t1階段:從t0時刻開始,柵極驅動電流給柵源電容Cgs充電。電容兩端的電壓的Vgs從0V上升到Vgs(th),在這段時間內MOS管處于截止區,Vds兩端的電壓保持不變,Id為0,其等效電路如圖四:
圖四t0-t1階段的等效電路
t1-t2階段:從t1時刻開始,因為Vgs超過MOS管的閾值電壓進而開始導通。所以Id開始上升,并且隨著流經續流二極管的電感電流不斷減小,到t2時刻,Id上升到和電感電流一樣,換流結束。這段時間內,驅動電流仍然只給柵源電容Cgs充電,其等效電路如圖五:
圖五t1-t2階段的等效電路
在t1-t2這段時間內,隨著電流Id上升,MOS管漏極和源極兩端的電壓Vds會稍微下降。這個階段,MOS管工作于飽和區。
t2-t3階段:從t2時刻開始,隨著MOSFET中的電流已經上升達到流經二極管的續流電流,MOS管兩端的電壓會緩慢減小,即Vds開始降低,又Vds和Vgs都是相對于源極s來定義的,則又Vds的減小換句話說就是漏極Vd的減小,這會使柵極驅動電流開始給Cgd充電。因為Cgd遠大于Cgs,所以驅動電流此時全部用來給Cgd充電,在這段時間內柵極電壓Vgs保持不變呈現出一段平臺期,這個平臺就稱為米勒平臺。等效電路如圖六所示:
圖六t2-t3階段的等效電路
漏源電壓在MOSFET進入米勒平臺后開始下降,這是因為在進入米勒平臺前,漏源電壓被鉗位保持VDD不變,MOS管的導電溝道處于夾斷狀態。當MOSFET的電流和電感電流相同時,MOSFET的漏極不再被鉗位。這也就意味著,導電溝道由于被VDD鉗位而導致的夾斷狀態被解除,導電溝道靠近漏極側的溝道漸漸變寬,從而使溝道的導通電阻降低。在漏極電流Id不變的情況下,漏源電壓Vds就開始下降。
當漏源電壓Vds下降后,柵極驅動電流就開始給米勒電容Cgd充電。幾乎所有的驅動電流都用來給Cgd充電,所以柵極電壓保持不變。這個狀態一直維持到,溝道剛好處于預夾斷狀態,MOS管進入線性電阻區。圖七為MOSFET在不同漏極電壓減小時,導電溝道的變化狀況。
圖七MOSFET在不同漏極電壓時,導電溝道的變化情況
t3-t4階段:從t3時刻開始,MOSFET工作在線性電阻區。柵極驅動電流同時給Cgs和Cgd充電,柵極電壓又開始繼續上升。由于柵極電壓增加,MOSFET的導電溝道又會開始變寬,導通壓降會進一步降低。當Vgs增加到一定電壓時,MOS管就會進入完全導通狀態。等效電路如圖八所示:
圖八t3-t4階段的等效電路
至此,MOS管的導通工作過程及米勒平臺的形成就講完了,看不明白的同學沒有關系,告訴你一個方法:拿出童詩白老人家的那本模電書,將P45-47中關于N溝道增強型MOS管的內容好好認真看三遍(別問我是怎么知道的/狗頭),然后就會恍然大悟,茅塞頓開,幡然醒悟。。。。。。。
總結一下:圖九展示了MOSFET在開通時不同階段對應輸出特性曲線的位置。當Vgs超過其閾值電壓(t1)后,Id電流隨著Vgs的增加而上升。當Id上升到電感電流值時,進入米勒平臺期(t2-t3)。這個階段Vds會慢慢變小,MOSFET的夾
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