ICS7704030

H17..

中華人民共和國國家標準

GB/T37049—2018

電子級多晶硅中基體金屬雜質含量的測定

電感耦合等離子體質譜法

Testmethodforthecontentofmetalimpurityinelectronicgradepolysilicon—

Inductivelycoupled-plasmamassspectrometrymethod

2018-12-28發布2019-04-01實施

國家市場監督管理總局發布

中國國家標準化管理委員會

GB/T37049—2018

前言

本標準按照給出的規則起草

GB/T1.1—2009。

本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會與全國半導體設備和材料標準

(SAC/TC203)

化技術委員會材料分會共同提出并歸口

(SAC/TC203/SC2)。

本標準起草單位江蘇中能硅業科技發展有限公司青海黃河上游水電開發有限責任公司新能源分

:、

公司有研半導體材料有限公司宜昌南玻硅材料有限公司新特能源股份有限公司洛陽中硅高科技有

、、、、

限公司

。

本標準主要起草人魯文鋒劉曉霞秦榕孫燕趙而敬王桃霞趙玉王忠慧柳德發張園園

:、、、、、、、、、、

銀波邱艷梅劉強

、、。

Ⅰ

GB/T37049—2018

電子級多晶硅中基體金屬雜質含量的測定

電感耦合等離子體質譜法

1范圍

本標準規定了電感耦合等離子體質譜儀測定電子級多晶硅中痕量基體金屬雜質含量的

(ICP-MS)

方法

。

本標準適用于中在基體金屬雜質小于范圍內鐵鉻鎳銅鋅鈉含量的

GB/T129635ng/g、、、、、

測定

。

2規范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

電子級多晶硅

GB/T12963

半導體材料術語

GB/T14264

潔凈室及相關受控環境第部分空氣潔凈度等級

GB/T25915.1—20101:

四級桿電感耦合等離子體質譜儀校準規范

JJF1159

液體化學品分析指南

SEMIC1(Guidefortheanalysisofliquidchemicals)

半導體加工用超純水指南

SEMIF63(Guideforultrapurewaterusedinsemiconductorprocess-

ing)

3術語和定義

及界定的以及下列術語和定義適用于本文件

GB/T14264JJF1159。

31

.

分辨率resolution

以某元素質量峰高處的峰寬表示

10%。

32

.

檢出限detectionlimit

質譜儀在一定的置信度內所能測定的某元素的最低極限質量濃度

。

33

.

儀器檢出限instrumentdetectionlimit

空白試劑純水信號平均值的三倍標準偏差所對應的濃度值

()。

34

.

方法檢出限定量下限mothoddetectionlimit

()

給定的分析方法在特定條件下能以合理的置信水平檢出被測物的最小濃度

。

35

.

背景噪聲backgroundnoise

未引入某元