標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 34172-2017 微束分析 電子背散射衍射 金屬及合金的相分析方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),旨在為使用電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)對(duì)金屬及其合金中的相結(jié)構(gòu)進(jìn)行定性和定量分析提供指導(dǎo)。該標(biāo)準(zhǔn)適用于需要通過(guò)微觀結(jié)構(gòu)特征來(lái)識(shí)別和表征材料中不同相類型的場(chǎng)合。
根據(jù)這項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn),首先明確了適用范圍,包括但不限于鋼鐵、鋁合金等常見(jiàn)工業(yè)用金屬材料。它規(guī)定了樣品準(zhǔn)備的基本要求,比如表面處理的質(zhì)量直接影響到后續(xù)數(shù)據(jù)采集的有效性;推薦采用機(jī)械拋光或電解拋光等方式制備出高質(zhì)量的樣品表面,以確保能夠獲得清晰且準(zhǔn)確的衍射圖案。
接著,標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)描述了實(shí)驗(yàn)過(guò)程中所使用的設(shè)備參數(shù)設(shè)置建議,如加速電壓、工作距離以及探測(cè)器類型等,并強(qiáng)調(diào)了正確選擇這些條件對(duì)于獲取高質(zhì)量EBSD圖像的重要性。此外,還介紹了如何利用軟件工具對(duì)收集到的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理與分析,包括相位鑒定、晶粒尺寸測(cè)量、取向分布函數(shù)計(jì)算等內(nèi)容。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2017-09-07 頒布
- 2018-08-01 實(shí)施





文檔簡(jiǎn)介
ICS7104040
G04..
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T34172—2017
微束分析電子背散射衍射
金屬及合金的相分析方法
Microbeamanalysis—Electronbackscatterdiffraction—
Phaseanalysismethodofmetalandalloy
2017-09-07發(fā)布2018-08-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T34172—2017
目次
前言
…………………………Ⅲ
引言
…………………………Ⅳ
范圍
1………………………1
規(guī)范性引用文件
2…………………………1
術(shù)語(yǔ)和定義
3………………1
試驗(yàn)參數(shù)
4…………………3
試樣要求
4.1……………3
掃描電鏡參數(shù)設(shè)定
4.2…………………3
設(shè)備
4.2.1EBSD………………………3
加速電壓
4.2.2………………………3
束流
4.2.3……………3
參數(shù)設(shè)定
4.3EBSD……………………3
系統(tǒng)的校準(zhǔn)
4.3.1EBSD………………3
曝光時(shí)間
4.3.2………………………4
步長(zhǎng)選擇
4.3.3………………………4
花樣像素的選擇
4.3.4EBSD…………4
背底校正
4.3.5EBSP…………………4
菊池帶探測(cè)
4.3.6……………………4
分析過(guò)程
5…………………5
圖像采集
5.1……………5
定性分析
5.2……………5
元素化學(xué)成分分析
5.2.1……………5
花樣采集及分析
5.2.2………………5
花樣匹配
5.2.3………………………5
定量分析
5.3……………5
相選擇
5.3.1…………………………5
參數(shù)選擇
5.3.2………………………5
相分布圖采集
5.3.3…………………5
相分布圖的后處理
5.3.4……………6
結(jié)果發(fā)布
6…………………6
附錄規(guī)范性附錄試樣的制備
A()EBSD………………7
參考文獻(xiàn)
………………………8
Ⅰ
GB/T34172—2017
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口
(SAC/TC38)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位上海發(fā)電設(shè)備成套設(shè)計(jì)研究院泰思肯貿(mào)易有限公司寶鋼集團(tuán)中央研究院中國(guó)
:、、、
科學(xué)院上海硅酸鹽研究所
。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人張作貴焦匯勝姚雷王墉哲
:、、、。
Ⅲ
GB/T34172—2017
引言
電子背散射衍射是基于對(duì)掃描電子顯微鏡或聚焦離子束中電子束在傾
(EBSD)(SEM)(SEM-FIB)
斜試樣表面激發(fā)出背散射電子并經(jīng)試樣表層原子衍射形成的菊池帶進(jìn)行分析而獲得試樣晶體學(xué)信息的
技術(shù)[1,2]技術(shù)用于晶體結(jié)構(gòu)相似的相分析時(shí)可結(jié)合安裝于也可是或
。EBSD,SEM(SEM-FIBEPMA)
上的能譜儀進(jìn)行元素化學(xué)成分分析以提高相分析結(jié)果的可靠性
(EDS),EBSD。
數(shù)據(jù)具有統(tǒng)計(jì)性特征因此可同步分析多相材料的相分布取向關(guān)系和百分含量等[3]通過(guò)
EBSD,、。
對(duì)金屬及合金的相分析可以獲取金屬及合金中各種相的形貌分布及面積百分含量等相關(guān)信
EBSD,、
息這對(duì)金屬及合金的成分控制熱處理工藝選擇合金化機(jī)理研究及構(gòu)件的失效分析等都具有十分重
,、、
要的意義
。
Ⅳ
GB/T34172—2017
微束分析電子背散射衍射
金屬及合金的相分析方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用電子背散射衍射技術(shù)對(duì)金屬及合金中
(Electronbackscatterdiffraction,EBSD)
的相進(jìn)行定性和定量分析時(shí)參數(shù)校正數(shù)據(jù)采集的方法
、。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于對(duì)金屬及合金試樣的相分析其他多晶或單晶材料的相分析也可參照
EBSD,EBSD
執(zhí)行
。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
檢測(cè)和校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室能力的通用要求
GB/T27025
3術(shù)語(yǔ)和定義
下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件
。
31
.
合金alloy
由多種金屬元素或金屬與非金屬元素所組成的具有金屬特性的物質(zhì)
、。
32
.
相phase
材料中晶體結(jié)
溫馨提示
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