ICS31.020L97中華人民共和國國家標準GB/T16880--1997光掩模缺陷分類和尺寸定義的準則Guidelinesforphotomaskdefectclassificationandsizedefinition1997-06-20發布1998-03-01實施國家技術監督局發布

GB/T16880-1997目次前言1范圍引用標準……掩模缺陷的類別4光掩模缺陷大小的定義

GB/T16880—1997前本標準等同采用1994年SEMI標準版本“微型構圖"部分中的SEMIP22-93《光掩模缺陷分類和尺寸定義的則》(Guidelinesforphotomaskdefectelassificationandsizedefinition）。SEMI標準是國際上公認的一套半導體設備和材料國際標準。SEMIP22—93《光掩模缺陷分類和尺寸定義的準則》是其中的一項,它將與已經轉化的SEMIP1一92硬面光拖模基板》SEMIP2-86《硬面光掩模用鉻薄膜》、SEMIP3-90《硬面感光板中光致抗蝕劑和電子抗蝕劑》SEMIP4-92《圓形石英玻璃光掩模基板》、SEMIP6-88《光掩模定位標記規范》及SEMIP19-92《用于集成電路制造技術的檢測圖形單元規范》和SEMIP21-92《掩模瞬光系統精密度和準確度表示準則》兩項SEMI標準形成-個微型構圖標準系列,并為今后還要繼續轉化SEMIP23—93《掩模缺陷檢測系統靈敏度分析所用的特制缺陷測試掩模及靈敏度評估方法準則》標準提供規范依據本標準是根據SEMI標準P22-93《光掩模缺陷分類和尺寸定義的準則》制定的，在技術內容上等同地采用了該國際標準。本標準的格式和結構按國標GB/T1.1—1993第一單元第一部分的規定編制。本標準從1998年3月1日實施。本標準由中國科學院提出。本標準由電子工業部標準化研究所歸口本標準起草單位：中國科學院微電子中心本標準主要起草人：陳寶欽、陳森錦、廖溫初。

中華人民共和國國家標準光掩模缺陷分類和尺寸定義的準則GB/T16880-1997Guidelinesforphotomaskdefectclassificationandsizedefinition花圍本準則的范圍是制定有關光拖模缺陷分類用的標準術語，并規定缺陷大小的表達方法.確定光拖模缺陷時應遵循這個準則。2引用標準下列標準所包含的條文，通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本本標準出版時，所示版本均為有效。所有標準都會被修訂，使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性.SJ/T10584—94微電子學光掩蔽技術術語掩模缺陷的類別3.1掩模圖形缺陷maskpatterndefect3.1.1形狀缺陷shapedefect3.1.1.1不透明缺陷opaguedefecta）小點dot(近義詞:小島islandopaguespot)b）橋連bridge:）凸起protrusion(在不透明圖形上);d）外擴”extension(不透明圖形邊線);e）過大oversize(不透明圖形)；（）缺口intrusion(在透明圖形上)g）內縮truncation(透明圖形邊線)；h）過小undersize(透明圖形)。3.1.1.2透明缺陷cleardetecta）針孔hole（pinhole)；b）空白space:）缺口intrusion(在不透明圖形上)d）內縮truncation(不透明圖形邊線）；e)過小、undersize(不透明圖形)f）凸起：protrusion(在透明圖形上)：g）外擴°extension(透明圖形邊線）；h）過大oversize(透明圖形)。3.1.2錯位誤差misplac