1、1.0 目的PURPOSE對(duì)純化水制備系統(tǒng)和儲(chǔ)存與分配系統(tǒng)定期進(jìn)行消毒，防止對(duì)純化水系統(tǒng)存在微生物污染，且確保活性炭過(guò)濾器、反滲透膜裝置和EDI的工作能力。2.0 適用范圍SCOPE適用于公司純化水系統(tǒng)。3.0 定義DEFINITIONSn 巴氏消毒：在一定溫度范圍內(nèi)，溫度越低，細(xì)菌繁殖越慢，溫度越高，繁殖越快，但溫度太高，細(xì)菌就會(huì)死亡，不同的細(xì)菌有不同的最適生長(zhǎng)溫度和耐熱、耐冷能力；巴氏消毒其實(shí)就是利用病原體不是很耐熱的特點(diǎn)，用適當(dāng)?shù)臏囟群捅貢r(shí)間處理，將其全部殺滅。4.0 職責(zé)RESPONSIBILITIESn 使用部門：按本規(guī)程對(duì)純化水系統(tǒng)進(jìn)行定期消毒；n 工程部：負(fù)責(zé)制定本規(guī)程、并提供

2、技術(shù)支持；n QA：負(fù)責(zé)監(jiān)督本規(guī)程的實(shí)施，以保證符合GMP的要求。5.0 程序PROCEDURE5.1. 系統(tǒng)描述 制備系統(tǒng)活性炭過(guò)濾器采用巴氏消毒（8085的熱水消毒），反滲透裝置與EDI采用化學(xué)消毒（過(guò)氧化氫、過(guò)乙酸消毒），儲(chǔ)存與分配系統(tǒng)采用巴氏消毒（8085的熱水消毒）。5.2. 消毒周期5.2.1. 活性炭過(guò)濾器在正常運(yùn)行狀態(tài)下，每30天消毒1次，允許提前或推遲2天；當(dāng)系統(tǒng)停止運(yùn)行超過(guò)7天，重新運(yùn)行前進(jìn)行消毒；微生物超過(guò)警戒限，必要時(shí)進(jìn)行消毒。5.2.2. 反滲透裝置在正常運(yùn)行狀態(tài)下，每180天消毒1次，允許提前或推遲5天；當(dāng)系統(tǒng)停止運(yùn)行超過(guò)7天，重新運(yùn)行前進(jìn)行消毒；微生物超過(guò)警戒限，

3、必要時(shí)進(jìn)行消毒。5.2.3. EDI在正常運(yùn)行狀態(tài)下，每180天消毒1次，允許提前或推遲5天；當(dāng)系統(tǒng)停止運(yùn)行超過(guò)7天，重新運(yùn)行前進(jìn)行消毒；微生物超過(guò)警戒限，必要時(shí)進(jìn)行消毒。5.2.4. 儲(chǔ)存與分配系統(tǒng)在正常運(yùn)行狀態(tài)下，每30天消毒1次，允許提前2天，不得推遲；當(dāng)系統(tǒng)停止運(yùn)行超過(guò)24小時(shí)，重新運(yùn)行前進(jìn)行消毒；微生物超過(guò)警戒限時(shí)，需進(jìn)行消毒。5.3. 活性炭過(guò)濾器消毒步驟5.3.1. 活性炭過(guò)濾器消毒過(guò)程為手動(dòng)啟動(dòng)，自動(dòng)運(yùn)行，操作人員通過(guò)觸摸屏上相應(yīng)的消毒按鈕進(jìn)行系統(tǒng)的消毒。5.3.2. 消毒前確認(rèn)蒸汽手動(dòng)閥門已處于開(kāi)啟狀態(tài)，點(diǎn)擊“多介質(zhì)+一級(jí)RO”界面的活性炭消毒“啟動(dòng)”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)入消毒模

4、式。5.3.3. 消毒流程：沖水2分鐘循環(huán)5分鐘加熱（使水溫保持在8085）消毒60分鐘排空2分鐘反洗 15分鐘正沖 10分鐘管道冷卻5分鐘。5.3.4. 消毒時(shí)通過(guò)板式換熱器對(duì)系統(tǒng)中的水做循環(huán)加熱，溫度應(yīng)控制在8085，每隔20分鐘記錄換熱器出水溫度（TT360.5.2）一次。同時(shí)填寫“活性炭過(guò)濾器巴氏消毒記錄”。5.4. 反滲透裝置消毒步驟5.4.1. 反滲透裝置使用CIP在線清洗裝置對(duì)一級(jí)RO/二級(jí)RO進(jìn)行化學(xué)消毒（0.2%過(guò)氧化氫消毒）；消毒時(shí)，制備系統(tǒng)禁止運(yùn)行。5.4.2. 消毒時(shí)，CIP裝置與反滲透裝置采用軟管進(jìn)行連接，如圖1所示。5.4.3. 使用過(guò)氧化氫消毒的流程包括下述三個(gè)步

5、驟：n 0.1%NaOH清洗；n 0.2%HCl清洗；n 0.2%H2O2消毒。5.4.4. 0.1%NaOH清洗5.4.4.1. 用0.1%NaOH堿性清洗液清除掉膜面或系統(tǒng)其它部件任何形式的沉淀物質(zhì)，清除這些蘊(yùn)藏微生物的沉積物質(zhì)可以提高消毒效果。5.4.4.2. 一級(jí)RO消毒時(shí)，配制500L 0.1%NaOH溶液；二級(jí)RO消毒時(shí)，配制250L 0.1%NaOH溶液。5.4.4.3. 首先用清洗泵混合一遍NaOH溶液；然后以盡可能低的壓力置換元件內(nèi)的原水，其壓力僅需達(dá)到足以補(bǔ)充進(jìn)水至濃水的壓力損失即可，即壓力必須低到不會(huì)產(chǎn)生明顯的滲透產(chǎn)水。低壓置換操作能夠最大限度的減低污垢再次沉淀到膜表面。

6、輸入NaOH溶液時(shí)應(yīng)以低流量（3.04.5）m ³/h運(yùn)行。5.4.4.4. 當(dāng)原水被置換掉后，濃水管路中就應(yīng)該出現(xiàn)NaOH溶液，讓NaOH溶液循環(huán)回CIP水箱并保證NaOH溶液溫度恒定。5.4.4.5. 停止清洗泵的運(yùn)行，讓膜元件完全浸泡在NaOH溶液中60分鐘。5.4.4.6. 按（6.09.1）m ³/h流量循環(huán)30分鐘，高流量能沖洗掉被NaOH溶液清洗下來(lái)的污染物。5.4.4.7. 使用預(yù)處理產(chǎn)水用于沖洗系統(tǒng)內(nèi)的NaOH溶液，為了防止沉淀，最低沖洗溫度為20，系統(tǒng)沖洗時(shí)間為60分鐘。 圖1 反滲透裝置化學(xué)消毒連接示意圖5.4.5. 0.2%HCl清洗5.4.5.1.

7、 用0.2%HCl去除膜表面可能存在的鐵，再用膜系統(tǒng)的產(chǎn)水沖洗系統(tǒng)。5.4.5.2. 一級(jí)RO消毒時(shí)，配制500L 0.2%HCl溶液；二級(jí)RO消毒時(shí)，配制250L 0.2%HCl溶液。5.4.5.3. 首先用清洗泵混合一遍HCl溶液；然后以盡可能低的壓力置換元件內(nèi)的原水，其壓力僅需達(dá)到足以補(bǔ)充進(jìn)水至濃水的壓力損失即可，輸入HCl溶液時(shí)應(yīng)以低流量（3.04.5）m ³/h運(yùn)行。5.4.5.4. 當(dāng)原水被置換掉后，濃水管路中就應(yīng)該出現(xiàn)HCl溶液，讓HCl溶液循環(huán)返回CIP水箱；循環(huán)HCl溶液10分鐘或直到顏色不變?yōu)橹梗蝗绻h(huán)過(guò)程中存在pH的變化和HCl溶液顏色的變化，放掉HCl溶液重

8、新配置新的HCl溶液，在清洗過(guò)程中應(yīng)保持PH2以便實(shí)現(xiàn)有效的清洗。5.4.5.5. 停止清洗泵的運(yùn)行，讓膜元件完全浸泡在HCl溶液中60分鐘。5.4.5.6. 按（6.09.1）m ³/h流量循環(huán)30分鐘，高流量能沖洗掉被HCl溶液清洗下來(lái)的污染物。5.4.5.7. 使用預(yù)處理產(chǎn)水用于沖洗系統(tǒng)內(nèi)的HCl溶液，為了防止沉淀，最低沖洗溫度為20，系統(tǒng)沖洗時(shí)間為60分鐘。5.4.6. 0.2%H2O2消毒5.4.6.1. 一級(jí)RO消毒時(shí)，配制500L 0.2%H2O2溶液；二級(jí)RO消毒時(shí)，配制250L 0.2%H2O2溶液。5.4.6.2. 首先用清洗泵混合一遍H2O2溶液；然后以盡可能低

9、的壓力置換元件內(nèi)的原水，其壓力僅需達(dá)到足以補(bǔ)充進(jìn)水至濃水的壓力損失即可，輸入H2O2溶液時(shí)應(yīng)以低流量（3.04.5）m ³/h運(yùn)行。5.4.6.3. 控制溫度25以下，以0.2%過(guò)氧化氫溶液，循環(huán)20分鐘。5.4.6.4. 停止清洗泵的運(yùn)行，將膜元件浸泡在消毒液中120分鐘。5.4.6.5. 按（6.09.1）m ³/h流量循環(huán)30分鐘。5.4.6.6. 使用預(yù)處理產(chǎn)水用于沖洗系統(tǒng)內(nèi)的H2O2溶液，為了防止沉淀，最低沖洗溫度為20。一級(jí)RO沖洗至出水電導(dǎo)小于15s/cm；二級(jí)RO沖洗至出水電導(dǎo)小于5s/cm即可。5.4.7. 同時(shí)填寫“反滲透裝置消毒記錄”。5.5. EDI

10、消毒步驟5.5.1. EDI也使用CIP在線清洗裝置進(jìn)行化學(xué)消毒（0.2%過(guò)乙酸消毒）；消毒時(shí)，制備系統(tǒng)禁止運(yùn)行，同時(shí)斷開(kāi)EDI電源。5.5.2. 使用過(guò)乙酸消毒的流程包括下述五個(gè)步驟：n 5%NaCl沖洗；n 純化水沖洗；n 0.2%過(guò)乙酸消毒；n 5%NaCl再?zèng)_洗；n 純化水再?zèng)_洗。5.5.3. 5%NaCl沖洗5.5.3.1. 首先用5NaCl溶液進(jìn)行沖洗，以去除膜堆中的金屬離子，特別是鈣離子和鎂離子。5.5.3.2. 在CIP水箱中配制200L 5NaCl溶液，使用軟管連接CIP裝置出水口與EDI進(jìn)水口，EDI產(chǎn)水口和濃水口使用軟管轉(zhuǎn)到排水溝。5.5.3.3. 啟動(dòng)清洗泵，用鹽溶液沖

11、洗膜堆3分鐘。5.5.3.4. 沖洗結(jié)束后，關(guān)閉清洗泵，排盡CIP水箱中的NaCl溶液。5.5.4. 純化水沖洗5.5.4.1. 使用純化水沖洗膜堆中的NaCl溶液。5.5.4.2. 在CIP水箱中注入200L純化水，使用軟管連接CIP裝置出水口與EDI進(jìn)水口，EDI產(chǎn)水口和濃水口使用軟管轉(zhuǎn)到排水溝。5.5.4.3. 啟動(dòng)清洗泵，沖洗膜堆3分鐘。5.5.5. 0.2%過(guò)乙酸消毒5.5.5.1. 過(guò)乙酸消毒時(shí)，CIP裝置與EDI采用軟管進(jìn)行連接，如圖2所示。圖2 EDI化學(xué)消毒連接示意圖5.5.5.2. 在CIP水箱中配制200L 0.2%過(guò)乙酸溶液，使用軟管連接CIP裝置出水口與EDI進(jìn)水口，

12、EDI產(chǎn)水口和濃水口使用軟管連接到CIP水箱。5.5.5.3. 首先用清洗泵混合一遍過(guò)乙酸溶液，再打開(kāi)閥門往EDI輸送過(guò)乙酸溶液，將過(guò)乙酸溶液在EDI中循環(huán)30分鐘。5.5.5.4. 循環(huán)結(jié)束后，關(guān)閉清洗泵，將膜堆浸泡在過(guò)乙酸溶液中90分鐘。5.5.5.5. 最后檢查清洗箱中清洗液的PH 值。如有必要，進(jìn)行中和，然后排放。5.5.6. 再次5%NaCl沖洗5.5.6.1. 再次用5%NaCl溶液沖洗，以去除膜堆中的過(guò)乙酸溶液，并將離子交換樹(shù)脂變回鈉型和氯型。5.5.6.2. 在CIP水箱中配制200L 5NaCl溶液，使用軟管連接CIP裝置出水口與EDI進(jìn)水口，EDI產(chǎn)水口和濃水口使用軟管轉(zhuǎn)到

13、排水溝。5.5.6.3. 啟動(dòng)清洗泵，用鹽溶液沖洗膜堆3分鐘。5.5.6.4. 沖洗結(jié)束后，關(guān)閉清洗泵，排盡CIP水箱中的NaCl溶液。5.5.7. 再次純化水沖洗5.5.7.1. 再次使用純化水沖洗膜堆中的NaCl溶液，為系統(tǒng)的正常運(yùn)行作準(zhǔn)備。5.5.7.2. 在CIP水箱中注入200L純化水，使用軟管連接CIP裝置出水口與EDI進(jìn)水口，EDI產(chǎn)水口和濃水口使用軟管轉(zhuǎn)到排水溝。5.5.7.3. 啟動(dòng)清洗泵，沖洗膜堆3分鐘。5.5.7.4. 沖洗結(jié)束后，關(guān)閉清洗泵，斷開(kāi)CIP裝置與EDI的連接，保持EDI產(chǎn)水口和濃水口直排狀態(tài)。5.5.7.5. 開(kāi)啟制備系統(tǒng)，慢慢將進(jìn)水閥門打開(kāi)，讓RO產(chǎn)水通過(guò)膜堆后直接排放；為了防止沉淀，最低沖洗溫度為20，沖洗至出水電導(dǎo)小于0.2s/cm即可。5.5.8. 同時(shí)填寫“EDI消毒記錄”。5.6. 儲(chǔ)存與分配系統(tǒng)消毒步驟5.6.1. 儲(chǔ)存與分配系統(tǒng)消毒過(guò)程為手動(dòng)啟動(dòng)，自動(dòng)運(yùn)行，操作人員通過(guò)觸摸屏上相應(yīng)的消毒按鈕進(jìn)行系統(tǒng)的消毒。5.6.2. 消毒前確認(rèn)蒸汽手動(dòng)閥門、冷卻水手動(dòng)閥門已處于開(kāi)啟狀態(tài)，點(diǎn)擊“消毒功能”界面的“巴氏消毒啟動(dòng)”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)入消毒模式。5.6.3. 消毒時(shí)，純化水罐液位設(shè)置為0.5m，當(dāng)純化水罐液位低于0.5m