1、鎂合金和鋁合金結構件鐳雕技術規范V1.01 技術規范的目的1.1 規范制定目的平板的鋁合金、壓鑄鎂合金件化成處理（又稱皮膜）或陽極后為了保證天線及接地位置導通，需要對導通區域進行鐳雕處理，去除表面皮膜或陽極層。為了防止鐳雕區域導電不良（氧化或殘留），特制定本技術規范。2 技術規范詳細要求2.1 化成處理工藝要求及檢驗規范2.1.1 化成處理工藝要求1、 鎂、鋁合金化成子籃（裝產品的支架或籃子）及子籃補焊材料要求：材料型號選擇SUS316（不得使用SUS304，其在經過酸洗槽液容易污染槽液，會加劇鐳雕區的氧化現象）；2、 化成處理水質要求：化成處理采用純水，導電率小于50個單位。2.1.2 化成

2、處理檢驗規范1、 化成處理后工件外觀要求：鎂合金化成面為淺灰色，顏色均勻，不允許出現發黃、白點等異色現像；鋁合金化成面為金屬原色，不允許出現發黃、白點。2、 化成處理后工件（含鎂合金和鋁合金）表面阻抗要求：化成件表面阻抗要求鋁合金小于1歐姆，鎂合金小于2歐姆。3、 化成處理后工件（壓鑄鋁合金）抗鹽霧要求：按照JIS/Z2371-2000鹽霧標準，達到8級或以上水平。2.2 鐳雕工藝規范工藝規范壓鑄鎂合金鋁合金鐳雕方式及功率鐳雕機額定功率大于或等于30W功率以上，線狀鐳雕，鐳雕四次。第一步：0°，90°各一次，功率>=25W第二步：45°，135°各

3、一次，額定功率的30%鐳雕機額定功率大于或等于30W功率以上，線狀鐳雕，鐳雕兩次。45°，135°各一次，功率>=25W鐳雕線間距<= 0.05mm<= 0.05mm鐳雕光點直徑<= 0.05mm<= 0.05mm鐳雕線速度<= 1500mm/s<= 1500mm/s鐳雕后工件表面要求工件表面需要酒精清理干凈工件表面需要酒精清理干凈表1 鐳雕工藝規范2.3 鐳雕檢驗規范2.3.1 鐳雕加工過程檢驗規范1、 鐳雕電阻檢測規范1) 鐳雕面表面阻抗要求：鋁合金任意兩點滿足阻抗小于0.5歐姆，壓鑄鎂合金任意兩點滿足阻抗小于1歐姆。2) 最終

4、成品出貨前全檢，具體的鐳雕阻抗檢測位由天線部門提供。3) 鐳雕區阻抗檢測儀精度0.01歐姆，探頭直徑2mm，特殊情況不允許小于1mm，探頭頭部要求為平頭，探針壓力<=2N。2、 鐳雕鹽霧檢測規范（該規范只針對壓鑄鋁合金，鎂合金單獨討論）1) 鐳雕面抗鹽霧要求：按照JIS/Z2371-2000標準，達到8級或以上水平；經過鹽霧實驗后，鋁合金任意兩點鐳雕位滿足阻抗小于0.5歐姆。2) 鹽霧測試頻率要求：供應商每月做一次鹽霧測試/編碼（8H鹽霧），報告回傳IQC。3) 新產品（所有壓鑄件供應商均需執行）導入前必須做鹽霧測試（SV1/SV2/SV3各階段必須通過測試）并提供報告。4) 鹽霧測試鹽

5、水溶液配制方法：a) 溶液的質量百分比濃度為5%±1%；b) 用專用桶（2.989kg）裝入19kg蒸餾水，用電子稱稱完總的重量減去桶重得出蒸餾水的重量。然后將純度大于95%的NaCl 1kg往桶里倒，直至總重量為20Kg，鹽霧濃度為5的NaCl溶液,將混合溶液充分攪勻，讓NaCl晶體與蒸餾水充分溶解；c) 然后用注射器抽出少量的稀NaOH溶液放入鹽溶液中反復攪勻后，然后將PH計探頭伸到鹽水中檢測鹽水的PH值，（如果NaOH添加過多會導致PH值大于7.2，則需要注入稀HCl進行調節PH,）,直到PH值在6.57.2之間為止。PH計使用前都需要校準，校準方法參考附錄；d) 最后鹽水配制

6、記錄表上做好相關的記錄（如：NaCl、蒸餾水、PH值、配制日期、配制人員等）。3、 鐳雕高溫高濕檢測規范（該規范只針對壓鑄鋁合金，鎂合金單獨討論）1) 高溫高濕測試頻率要求：a) 供應商均需進行壓鑄鋁合金高溫高濕測試（60H/月；180H/2月），報告回傳IQC；b) 產品（所有壓鑄件供應商均需執行）導入前必須進行180H的高溫高濕測試（SV1/SV2/SV3各階段必須通過測試），并提供報告。2) 高溫高濕測試環境要求：溫度55，濕度95%RH。3) 經過高溫高濕實驗后，壓鑄鋁合金任意兩點鐳雕位滿足阻抗小于0.5歐姆。2.3.2 鐳雕來料檢測規范1、 鐳雕面表面阻抗要求：鋁合金任意兩點滿足阻抗小于0.5歐姆，壓鑄鎂合金任意兩點滿足阻抗小于1歐姆。2、 EMS廠采用手動方式測量。3、 鐳雕區阻抗檢測儀精度0.01歐姆，探頭直徑2mm，特殊情況不允許小于1mm，探頭頭部要求為平頭，探針壓力<=2N。2.4 員工操作規范1、 化成處理的工件在各制程和運輸階段均嚴禁裸手觸碰（手指汗液會加速產品氧化）。2、 樣品鐳雕區域嚴禁用裸手觸碰。2.5 包裝、運輸與存儲規范1、 產品需要樣品托盤或刀卡單個放置，不得疊放，所有產品在裝入紙箱前，需采用PE袋密封包裝（可以選擇如橡皮筋之類的綁帶封口），且每個PE袋中放入5袋干燥劑（每包5克、全新）。包裝要求如圖1所示。