《微弧氧化陶瓷膜通用規范》編制說明i一工作簡況 11.任務來源 12.起草單位、參編單位 13.主要起草人 14.主要工作過程 1二制定標準的必要性和意義 2三主要起草過程 3四制定標準的原則和依據，與現行法律、法規、標準的關系 4五主要條款的說明 5七標準涉及專利的處置 5八貫徹團體標準的要求和措施建議 6九其他應說明的事項 61一工作簡況1.任務來源本任務來源于中國表面工程協會關于發布2024年第三批協會團體標準制（修）訂計劃。中表協【2024】23號。2.起草單位、參編單位西安理工大學西安強微電氣設備有限公司中國船舶重工集團公司第705研究所中國航天科技集團公司第五研究院第529廠中國空空導彈研究院3.主要起草人李均明、陳鼎、陳少強、王景潤、付明4.主要工作過程微弧氧化技術作為表面處理新技術近年來發展較快，已在航空、航天、船舶、兵器、交通及“3C”行業得到了廣泛應用。很多客戶在設計及檢驗過程中，由于缺乏相應的原始數據及參考資料，迫切需要微弧氧化技術標準，西安強微電氣設備有限公司通過調研客戶多年微弧氧化技術的應用情況于2024年8月提出中國表面工程協會團體標準項目建議2西安強微電氣設備有限公司與西安理工大學微弧氧化課題組組建了涵蓋研發、生產、檢驗以及多家用戶的起草工作組，確保從不同角度考慮標準的適用性與可行性。通過廣泛查閱國內外相關的國家、行業及團體標準以及文獻資料以及了解實際生產、使用及檢測驗收過程中的問題、需求和經驗，為標準的制定提供依據。起草工作組討論確定了標準的框架結構，明確了標準的主要技術內容，包括關鍵技術指標、性能要求及質量要求等。按照確定的標準框架和內容，依據標準編寫規則，將調研和收集的資料進行整理、分析和提煉，編寫標準草案。完成標準草案初稿后，起草工作組內部進行多次研討，根據討論結果對草案進行修改完善，形成標準征求意見稿。二制定標準的必要性和意義制定新的標準，能夠將成熟的創新技術和成果進行規范化、標準化，明確技術指標和應用要求，引導企業按照統一規范開展研發和生產，加速創新成果向現實生產力轉化，推動相關產業的技術進步和升級。能夠明確微弧氧化產品的質量、性能等方面的要求，為客戶提供統一的衡量尺度。微弧氧化技術是在20世紀90年代開始發展起來的新技術，該技術于2005年以后逐步投入產業化應用。微弧氧化就是將工件置于電解質水溶液中，并連接電源正極，在高電3場作用下將工件表面氧化膜擊穿并產生火花放電，在電化學、熱化學和等離子體化學的共同作用下，在工件表面生成氧化物陶瓷層。微弧氧化技術可以在鋁、鎂、鈦等合金表面原位生長一層性質穩定、與基體金屬結合良好的氧化物陶瓷層，近年來已在航空、航天、船舶、兵器、交通及“3C”行業得到了廣泛應用。但由于微弧氧化作為表面處理新技術近年來發展較快，經查閱相關資料，國際上目前無相關標準發布，目前為止，國內也沒有確切的標準供許多應用單位設計參考應用，微弧氧化陶瓷膜層缺乏統一的檢驗標準，大大阻礙了該技術的推廣應用和產品的技術革新。三主要起草過程西安強微電氣設備有限公司與西安理工大學微弧氧化課題組組建了涵蓋研發、生產、檢驗以及多家用戶的起草工作組，確保從不同角度考慮標準的適用性與可行性。通過廣泛查閱國內外相關的國家、行業及團體標準以及文獻資料以及了解實際生產、使用及檢測驗收過程中的問題、需求和經驗，為標準的制定提供依據。起草工作組討論確定了標準的框架結構，明確了標準的主要技術內容，包括關鍵技術指標、性能要求及質量要求等。按照確定的標準框架和內容，依據標準編寫規則，將調研和收集的資料進行整理、分析和提煉，編寫標準草案。完成標準草案初稿后，起草工作組內部進行4多次研討，根據討論結果對草案進行修改完善，形成標準征求意見稿。四制定標準的原則和依據，與現行法律、法規、標準的關該標準嚴格遵守國家和地方現行的有關方針、政策、法律、法規，充分考慮客戶對產品的使用要求，包括性能、質量、安全、衛生、環保等。制定標準時考慮了與相關的國家標準、行業標準、地方標準相互銜接，避免出現重復或沖突。同時考慮了微弧氧化技術近20年來客戶的需求實際，參考了已有的國家標準和行業標準，在其基礎上進行補充和修改，實現標準體系的協調統一。西安理工大學自1999年開始進行微弧氧化技術研究，其開發的工藝被國內企業應用于防腐、耐磨及功能性要求，該技術經過二十余年的實際應用，其性能達到了客戶的預期目標環境中單位根據其應用背景對膜層性能提出相關要求，西安強微電氣設備有限公司自2011年成立以來一直進行微弧氧化技術的研發和為客戶進行外協加工，客戶涵蓋了航空航天、兵器、船舶及應用電子等單位。對微弧氧化陶瓷層生產工藝、膜層性質以及膜層組織結構與膜層性能的關系有著深刻的認識。因此，客戶需求是推動標準制定的重要動力，客戶多年來對微弧氧化產品的質量、性能等方面的需求，是5該標準制定的重要參考依據。五主要條款的說明3.5粗糙度按照4.5.5規定的方法試驗后，當膜層厚度小于10μm時，膜層的粗糙度（Ra）應不超過1.2μm；當膜層厚度小于20μm時，膜層的粗糙度（Ra）應不超過2.0μm；當膜層厚度小于40μm時，膜層的粗糙度（Ra）應不超過3.2μm。在本標準中特別對膜層的粗糙度做了要求，主要針對是機加工表面，以及與厚度測量時對粗糙度的要求相呼應。同時，在實際應用實踐中發現，對于不同工藝條件下制備的相同厚度不同粗糙度微弧氧化陶瓷層，膜層性能存在較大性能差異，因此在該標準中作出了不同厚度膜層的粗糙度要求。六重大意見分歧處理依據和結果通過多輪溝通、專家論證等方式，使各方對分歧意見達成一致，將統一后的意見融入標準內容。若無法在短期內對所有分歧形成完全一致的意見，在標準文件中明確記錄分歧點以及各方保留意見。同時，注明后續針對這些分歧的跟進計劃，如在標準實施一段時間后重新評估分歧內容，或在特定條件下再次組織討論。。七標準涉及專利的處置起草單位起草的《微弧氧化陶瓷膜通