卬國科學院沈陽科學儀器冊制卬陽有眼公司

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國家真空儀器裝置工程技術的容中陽

StateEngineeringResearchCenterofVacuumInstrumentandDevice

中國科學院沈陽科學儀H股份有限公司

國家真空儀益裝置工程技術研究中心

奧空技術裝備內家工程實通■

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的設備，請您在使用該設備之前認真閱讀本說明書，當您拿到該說明書時，請認

真閱讀以下聲明。如不接受本聲明,請立即與本公司聯系,

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1.本說明書所有內容，未經沈陽科儀公司書面J孽,任伊人均不得

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全部內容。如有違反，沈陽科儀崔）將保留切』利。A

2.本說明書僅供使用者參考，可作為使知者所仆祭司學習

本說明書所詳述的內遺漏的可能。內容有

疑問,清與沈陽科儀

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的售后服務，特別為您準備了本手冊，請您耐心讀取相關信息。

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請您在使用過程中，將發生故障的操作步驟填寫在用戶反饋問題清單中,我們將

參考此表內容盡我們最大的能力在最短的時間內完成維修。

如何使用本手冊

如果您是初次使用該設備，那么您需要通讀用戶手冊。如果您是一位有經驗的用

戶，則可以通過目錄查找相關信息。/Bw1

本手冊涉及的字體及符號說明：

字體的大小直接反應父、子關系，符*號、說明見下表:

指示性說明代表意義_

沒有先后順1蘆之4匕是比口和■高一級

>描^

目錄

詳細描述性說明!后順序之分

有先后順序之分

有利于深刻認識系統，并且可以避免不

提示性說明

區必要的故障發生

必須嚴格遵守的內容，否則會發生嚴重

警告性說明

A事故

目錄

緒言................................................1

一、系統簡介........................................1

1、概述................................................1

2、工作原理以及技術指標................................2

工作原理：............................................2

技術指標：...................................Xy...........弋2

3、系統主要組成.........................................3

濺射真空室組件：.............:....................................J.............3

上蓋組件：.................1...........3......!...................................4

真空獲得和工作氣路組件：..…玄........1…..…..工...................P.5

安裝機臺架組件：：］...............L....7

4、設備安裝........................7.........F-........7

安裝尺寸:............................................

配套設施：二........二..........................................7

二、系統主要機械機構簡介.....肥:二..................8

1、磁控濺射靶組件….…..........................8

2、單基片加熱臺組件.....................................9

3、基片加熱公自轉臺組件................................10

4、基片擋板組件........................................11

三、操作規程，......................................11

磁控濺射沉積系統

1、開機前準備工作......................................11

2、開機（大氣狀態下泵抽真空）..........................12

啟動總電源：..........................................12

大氣狀態下濺射室泵抽真空：............................12

3、濺射室處于真空狀態時抽真空：........................13

4、工作流程：..........................................13

>裝入樣品：.............................13

>磁控濺射鍍膜：...........................1.....14

5、靶材的取出和更換：....................[...........................15

6、停機：....................:…:.............................J............16

四、電源及控制..................1...............#..............!16

…….......................

供電要求：........................j,………17

使用說明..........y...........................................18

電控單元使用說明：.....................療鏟：...........19

五、注意事項.....................二................20

1、安全用電操作注意事項:-T：....................................................20

2、操作注意事項：.....................................21

六、常見故障及排除.................................22

七、緊急狀況應對方法...............................23

2

磁控濺射沉積系統

1、突然斷電............................................23

2、突然斷水............................................24

3、出現嚴重漏氣........................................24

八、用戶反饋問題清單...............................25

九、維護與維修.....................................26

3

緒言

磁控濺射沉積系統是高真空多功能磁控濺射鍍膜設備。它可用于

在高真空背景下，充入高純僦氣，采用磁控濺射方式制備各種金屬膜、

介質膜、半導體膜，而且又可以較好地濺射鐵磁材料（Fe、Co、Ni）,

制備磁性薄膜。在鍍膜工藝條件下，采用微機控制樣品轉盤和靶擋板,

既可以制備單層膜，又可以制備各種多層膜，為新材料和薄膜科/研

究領域提供了十分理想的研制手段o

系統簡介

1、概述J

木系統主要由濺射真空室、磁控濺射靶、“單基片加切單品介、基片力題（公自

轉臺組件、基片擋板組件、工作氣路、抽氣系統、毀裝機臺、真空測器及電控系

統等部分組成。附設備總&如下。

磁控濺射沉積系統

2、工作原理以及技術指標

A工作原理:

□磁控濺射鍍膜的基本原理是以磁場改變電子運智方向，束縛和延長電子的運

動路徑，提高電子的電離概率和有效地利用才電戶的能■,因北在形成高密度

等離子的異常輝光放電中，正離牙對靶材轟擊所引起的靶材濺射更加有效

A技術指標

-----------------------------------------------------------------------------------------------------

極限真空度(Pa)系統真空檢漏漏率系統經大氣抽氣，停泵關機12小時

(經烘烤除氣后)(Pa.L/S)40分鐘可以達到(Pa)后真空度(Pa)

濺射室4.0X10-15X10-76.6X10'WlPa

2

磁控濺射沉積系統

3、系統主要組成

A濺射真空室組件:

圓筒型真空室尺寸中450X350nim,電動上掀蓋結構，可內烘烤100?150

選用不銹鋼材料制造，氨弧焊接，表面進行化學拋光處理，揍門采用金屈口圈密

封或氟橡膠圈密封。真空室組件上焊有奔種規格的法藝接口如卜：

尻口贏方式聯接部件名稱‘

序號接口大小數量

1.1cnoo無氧銅圈）?

冬窗公

1.2無氧銅圈1L

.

1.3CF16無氧銅圈沙進氣管路和放氣閥

1.4CF150無氧銅圈1（600升/秒）分子泵

1.5CF100無氧銅圈33個磁控濺射靶接口

1.6CF35無氧銅圈61個高真空電離規管

1個旁抽角閥

3

磁控濺射沉積系統

1個四芯陶封引線法蘭接口

3個備用口

1.7RF25氟橡膠圈1基片擋板組件接口

1.8CF16無氟銅圈11個備用接口

1.9CF16無氧銅圈一1電阻規接口

A上蓋組件:

上蓋組件上有--個CF35的法蘭接口和?個CFIU的法每口，側面還焊有拈

助上蓋升降時定位的擋片。上蓋組件上可以安裝電動提少機構組件，中甫安裝不

基片加熱樣品臺/

4

磁控濺射沉積系統

A真空獲得和工作氣路組件：

魂封真空室

-

4■

3S

—■

篇

目

F

一.

R-DF1陽處IHSCCK

R

口濺射真空室選用分子泵T+機械泵R煙過一個超高真空閘板閥/G主抽，并

通過一個旁抽角閥VI進行旁路抽氣；通過兩路MFC質量流量控制用充工作氣體

每路配有角閥V5、V6,配有混氣室,單獨進氣

流量范圍：一路200SCCM、’一路通過V4閥充入氮氣放氣

代號安裝位置用途廠家

CF35角閥濺射真沈科儀

Dgl6角閥一刀一卡濺射真空室側壁充入工作氣體沈科儀

』空室如以,

Dgl6角閥一刀一卡放氣/充干燥氮氣沈科儀

Dgl6角閥前面的氣路面板充氣七星華創

CCT50-B超高真空閘濺射真空室側面伸出主抽閥沈科儀

的彎管上

分子泵（抽速600L/S）CF150刀口主抽泵北京科儀

5

磁控濺射沉積系統

R機械泵（9升/秒）KF40前級泵北京

DFKF40電磁隔斷網KF40分子泵和機械泉之間防止機械泵返油，并川北

能在分子泵前級真空

度不夠的情況下進行

隔斷，來保護分子泵

R-DF高真空電磁壓差式帶KF40機械泵R1和機械泵聯鎖，停機械上海

■f?

翥時，此閥斷開，向機

充氣閥西馬特

城泵充氣，避免返油k

MFC1、MFC2質量流量控制通卡套J控制氣體流］

f

混氣室（兩進一出）卡套混氣沈木取

.科儀

液壓波紋管兩段快卸卡籟此按普路

「川北

KF40三通一個快卸卡箍F

▼.

KF40快卸卡箍若干川北

4>6X1氣路管若儀

外購

■，

氣路卡套若干r外購

6

磁控濺射沉積系統

A安裝機臺架組件:

采用優質方鋼型材(50mmX50mmX4mm)寫接成，前面和兩側面安裝快卸

圍板，表面噴塑處理；機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾；底面安裝四只腳輪，可固定,

/■：：

可移動；安裝機架尺寸：L1115■XW860XH1000nunV,o'

4、設備安裝.

》安裝尺寸：

將設備安裝機架移到指定位置，.腳輪升降，調■機需7戈水平位置。安裝

機架平面尺寸：,111^^000廊(包括伸出的間板語輪)，電控柜平面尺寸：

610X650mm2X2臺。

A配套設施:

口整機配電要求：接三相電源380V±6%,50Hz,三火線一零線，功率＞15KW,

配置多路接線插座。

口聯接地線要求：本設備需要配備良好的接地，對地電阻＜2歐姆。

7

磁控濺射沉積系統

口接冷卻水系統，具有民用自來水或循環冷卻水，水溫V25C,水壓V2.5X105

Pa,流量達到12L/min,及回水通道。各水路均安裝水流控制器，發生斷水時將

自動切斷設備總電源。

口安裝場地面積＞25肝，高度要求高于2.4m。

口要求安裝場地的標準溫度為20?24℃,標準相對濕度為50%?60%o

口要求有普通氮氣，工作氣體，壓強要在2?3個大氣壓之間。

口要求有外排廢氣管道。

!!!注意：接通電源后，首先確認機械泵旋轉方向，如果發現反轉，則應調相。

A

二、系統主要機械機構簡介

靶法蘭、齒輪減速異步電動機帶動的靶擋板系統和螺旋升降機構等組成。

濺射真空室采用多靶濺射結構，靶在下，基片在上，向上濺射成膜，濺射真

空室下底盤上有三個靶位；靶材尺寸660mm（其中一個可以濺射磁性材料）；永

磁靶RF、DC兼容；靶內有水冷（每個靶單獨水路冷卻）；三個靶可共同折向上面

的樣品中心，靶與樣品距離90?110mm可調；每人靶配有單獨的屏蔽罩，以避免

8

磁控濺射沉積系統

靶間交叉污染（非共濺時安裝使用）；每個靶配有單獨的電動擋板，計算機控制

擋板開合。

!!!提示：

以后磁控靶需要寄給我們進行維修時，靶頭和支桿可以直接從真空室內拆下，不用拆卸

靶法蘭部分。拆卸前請事先聯系設計人員，我們會提供一個盲堵，保證您其余的工作不受影

響。

2、單基片加熱臺組件

9

磁控濺射沉積系統

3、基片加熱公自轉臺組件

基片加熱公自轉臺組件安真空室上蓋組件上0吃盤上可以寸放置6

個基片，可放置①50mm儂片。六個工位中，中兩個工位安裝加熱爐（切換

加熱），基片加熱最著a度6oo℃±rc,由熱電偶閉環反饋控制。在伺服電機+

減速器+同步構帶動下，實現0?360°公轉（當拆掉加熱爐后可連

續I可轉），并通過光柵編碼器機構實現準確定位，計算機控制公轉到位及鍍

膜過程。基片可加負偏Qoov。

10

磁控濺射沉積系統

4、基片擋板組件

基片擋板組件的擋板上開一個孔，對準一個基片，該基片擋板用基片加熱公

自轉臺組件都用計算機控制轉動，僅對1片基片在不同陽位下濺對鍍膜。該片k

藝完成后，可計算機控制轉至第二片基片繼望鍍膜廠)當需號濺jJ時，H需要打r了下該

基片擋板組件的上半部分即可」不用全‘麻5o

三、操作規程

1、開機前準備工作

■開場水閥，接通冷卻水，檢杳是彘足夠大，水壓控制器是否起作用，保

護各水路暢通。

■檢查總供電電源配線是否完好，地線是否接好，所有儀表電源開關全部處于

關閉狀態。

■檢查分子泵、機械泵油是否標注到刻線處，如沒有達到刻線標記應及時加油。

■檢杏系統所有閥門是否全部處于關閉狀態，確定濺射室完全處在抽直空前為

H

磁控濺射沉積系統

封閉狀態。

2、開機(大氣狀態下泵抽真空)

A啟動總電源：

確認所有電源開關都在關閉狀態后，按下總電源開關，此時電源三相指示燈

全亮，供電正常。

!!!提示：

如果電源三相指示燈沒有全亮，應檢查供電電源是存缺相。在確認電源正常之后方可進

行下一步工作。

A大氣狀態下濺射室泵抽真空：

■打開旁抽閥VI

■啟動機械泵R

按下機械泵R開關，機械泵指示燈亮，此時機械泉工作，再打開分子泵T口

處的電磁閥DF開關，指示燈亮，打開鼐計，測量真名(更合真空”AF-5227

使用詳見說明書)&眇

■啟動分子泵T(FF-160/620C)

先打開分子夏T電源開關，電野計顯示的真空度高甩Pa時，關閉旁抽

閥VI,并迅速打開閘權閥G,然后打開分，泉啟動按”,,束指〔、」:一

控制面板上顯示頻率，分子泵開始正常工作，約卜分鐘，加速指示燈滅，正常燈

亮，函率顯示為600時，分子泵進入作狀態。再用分子泵連續抽氣，經烘

烤后，磁控濺射室的真空度可達到極限真空度4Xl()5pa指標。

!!!提示：

設備中的閘板閥設有開關指示功能，閘板閥門開關時手感輕松，在閥門關閉時可聽到一

聲響動，同時力量減小、有明顯的空程，這時閥門已經關閉到位，不要繼續硬性旋動手柄，

以免閥門傳動機構受到損壞。開啟時也有一聲響動，行程指示到位后閥門也開啟到位。

!!!警告：

12

磁控濺射沉積系統

閥門開啟前，必須平衡閥門兩側的壓力（閥門兩側必須同時是真空或大氣）

閥板兩側壓力差必須小于3000Pa,如果壓力大于3000Pa硬性開啟閥門會造成密

封圈及傳動機構的損壞，造成閥門無法使用（此項要特別注意，閥門開啟時一定

要注意觀察閥門兩側的壓差）。

!!!警告：

在閥門使用過程中如發現異樣的聲音或者開關閥門時力量異常，首先應該觀

察閥門前后真空系統的壓力是否平衡，如果有壓差必須停止強行開啟，待壓力平

衡后再進行開啟，以免損壞機構。

3、濺射室處于真空狀態時抽真空：\

■首先，打開復合真空計觀察系統真空度.如果長曠間的（10天以上）［未開機，真

空度高于30?40Pa,這時應該按上面所說的濺射室泵抽真空中的操作,步喉進行系

統抽氣;

■如果真空度在3?5Pa時，即可直接開啟閘板閥G,憾后依次開啟機械泉R【

電磁閥DF、分子泵T,進行系統抽真空,U抬濺射室要求的本底真

空即可。

4、工作流程:

＞裝入樣品:

■濺射室暴露大氣：關閉閘板閥G,確認旁抽閥VT和角閥V2、V3處于關閉狀

態,然后打開放氣閥V4,向濺射室內充入森氮氣。

■裝入樣品：濺射室內氮氣壓3壓力平衡后即可利用升降機提升濺射室

上蓋，靶基距調到合理值，然后將清洗好的樣品放入襯底托內，將其放入樣品轉

臺內，然后再將濺射室上蓋落下，關閉放氣閥V4,對濺射室泵抽真空（按前面

所說的步驟進行操作）至實驗要求的本底真空度。

13

磁控濺射沉積系統

＞磁控濺射鍍膜:

■待本底真空達到本次實驗所預期要求后，稍關閉閘板閥G（不要關死），用真

空計監測真空度。

■向濺射室充氣：

充氣前將氣瓶關死，打開V5、V6,緩慢打開V3。打開質量流量計電源，預

熱3分鐘，將質量流量計打到清洗擋，抽空氣路后關閉各閥，將質量流量計打到

關閉擋；緩慢打開進氣截止閥V2,此時抽取管路中的氣體，達到預期真空后，

關閉這些截止閥，進行充氣工作。若所充氣體需經混氣后進入真空室，骰打開

V3及機架前面板上的進氣閥V5或V6（根據需要選擇）；若需單路直接進氣，、則

打開V2。然后打開MFC質量流量計電源，通過流量計充入土作氣體！通過適當

調節閘板閥G關閉的大小來調節濺射工作壓強。士%.

注：打開質量流量計電源，在MFC質量流量計電源的扁開關處寸力關閉”位,

將設定流量調到零，再開氣瓶給氣，待零點穩定后，轉“閥控”日并將流翻

至所需值，則實際流量跟蹤設定值而改變。■

關閉質量流量計時，將閥開關置于:關閉”轉再到電源開關關閉拓。

!!!提示：

充氣過程中需用真空計監測真空度不低于20Pa0

■射頻濺射：二

起輝壓強：在設定進氣卮恒定情況卜，調節閘板閥G使濺域室真空度:維持在

0.4?lOPa,可保證磁控靶^瞥

濺射工作壓強：根據工藝需要，mH節MFC送二使濺射室真空度維持

在0.5Pa以下，此時磁控靶應能穩定工作而不熄盛

栽電源可切換龍應靶，崎作^據要求設置控制各個靶接射頻電源。

射頻電源和匹配器的使用詳見射頻電源使用說明書

■直流濺射：

直流電源有兩臺可根據要求切換對應靶。

（詳見直流濺射電源使用說明書）

■計算機控制鍍膜：

通過程序控制，使樣品按所設定模式進行工作，鍍制單層膜或多層膜，鍍多

14

磁控濺射沉積系統

層膜的靶位可任意組合，在每個靶下停留時間任意設置。程序運行結束后將自動

保存結束前的狀態，并保存計算機文件中，下次運行時，這些狀態將自動讀入以

恢復以前狀態，所以在程序未運行期間，不建議使用手動操作轉盤，以免再次運

行時造成樣品位置錯誤。

■停止濺射鍍膜：

①首先關閉基片擋板，再關上各磁控靶擋板，通過計算機關閉步進電機電

源，再關閉計算機電源。

②關閉射頻、直流和勵磁電源，關閉MFC質量流量計電源。

③關閉濺射室進氣截止閥V2、V3、V5、V6,全開閘板閥G,使濺射室用分

子泵T直接抽氣，進入高真空狀態。使用ZDF-5227監測濺射室真空度，

進入1O1Pa或0Tao相

■取出樣品：

鍍膜完成后，將閘板閥G關閉，再將電離規關閉。然‘后打開接號瓶的放氣閥

V4,向濺射室充入干燥氮氣。電動提升真心室上氧戴圣潔凈手窘/從樣品臺艮

■在分子泵T單獨對濺射室抽氣工作時，先將川板液,G■閉，檢杳V2、■是

否處于關閉狀態。然后關閉真空計，質最美閥V4使濺射室充入大氣（最好充

入干燥氮氣）；

■當濺射室內氮氣壓力與大氣壓力平衡后，使月升降機將濺射室的上蓋提起，

之后拆下基片樣品擋板，電動打開需要更換靶材的靶擋板，擰下靶屏蔽蓋，并卸

下靶壓蓋，即可對真空室內的靶材進行取出或更換，然后再將靶壓蓋及靶屏蔽蓋

裝上，結束后再用升降機將上蓋落下；

!!!提

15

磁控濺射沉積系統

①靶屏蔽蓋和靶材之間的距離建議控制在2?3mm之間。

②如發現上蓋壓偏，需要重新升起上蓋，找壬后再落下。

■參照前面濺射室泵抽真空的步驟，對系統抽真空，重復前面所做的工作流程。

6、停機:

■首先，關閉系統內所有閥U,尤其注意關閉閘板閥G和旁抽閥VI,進氣閥

V2、V3,放氣閥V4,使系統保持真空。

■其次，關閉各路電源，先關各路儀表電源，然后關分子泵T電源，當頻率

數顯為“200”以下后關閉電磁閥DF,關閉機械泵R,最后關閉總電源及所有水

路。

!!!提不：

實驗完成后，如果真空室內非常熱，這時，要通過分子泵對系統進行較長的

時間抽氣，等到系統內部溫度降到100℃左右時才能關閉系統。

四、電源及控制

琳用用用用

偏樂電源

質量流量計

直流電源

加熱電源

流電源

射頻電源

靶擋板控制電源

供電

樣品鼓動招制電源

分子泵電源

百板

供電電源

自板

UaaUUa

16

磁控濺射沉積系統

A分類：

□真空測量部分：

■真空計：復合真空計

■供電電源

□真空獲得部分：

■控制電源

口材料制備部分包括：

■流量顯示儀J

■加熱控溫也源，

供電電源

＞供電要求：

真空贏共電需3相380V(50Hz)工業動力電，總功率

約15KWo

供電要求分為以下六部分：

□供電電源(1):

■電壓：3相380V(50Hz)容量：7.5KVA

■要求：由3P20A空氣開關供電，連接電纜采用四芯橡套：2.5mm2X3

17

磁控濺射沉積系統

+1.5mm2Xl（空氣開關采用工業用動力型，以下均同樣要求，從

略。）

□供電電源（2）：

■電壓：3相380V（50Hz）容量：7.5KVA

■要求：由3P20A空氣開關供電，連接電纜采用四芯橡套：2.5mm2X3

+15mm-X1

A使用說明

□注意事項：

■設備操作人員必須高度重視電氣安全問題，嚴格遵守用電安全規程,

防止電氣事故造成人身傷害或設備損壞。1

■嚴禁帶電拆卸接線端子、焊片、接插件等電氣連接件!

■嚴禁帶電打開電源機箱，接觸任何/器元件！禁止無電氣技術資P

和相關經臉者從事本說明竹姬許的故障排除工作。

■設備必須可靠接地。本系統中所有設備裝置的皆屬外殼都應白金接

地（包括主機真空■備［及電源疝柜）。各部分電控裝置按要可品行單

閘（空氣開關）供電，?不允許-閘多

■經常對設備進彳亍安全檢查，確駕控單元絕緣良好廄可靠的接地

或接零保二八檢查有無漏電、絕緣老化情況；進行電氣設備和

..保護裝置的地檢修、試驗及清掃，防器成設備電氣事故和誤

動作。

□使用前的準備和檢查

按照本說明書的“供電要求”，可靠連接各部分電控裝置，將各部分裝置

及主機外殼可靠接“地”。檢查供電電源電壓、容量是否符合要求，有無缺

相等故障。檢查電控裝置與主機設備的電氣連接，確保連接正確可靠。檢查

有無漏電、絕緣老化情況。

18

磁控濺射沉積系統

檢查各部分電控單元的開關狀態，應能正常工作，并均設置為初始狀態;

檢查各電源負載是否產生短路或斷路，所有電控單元應能正常工作。

A電控單元使用說明：

□真空計：

■系統采用ZDF-5227型數顯復合真空計測量真空室的真空度，量程1

X105Pa-l：X10-5PaoL

■真空計由供電電源（1）提供AC220V電源插座供電；具體使用密

及注意事項詳見“附件”中的（ZDF-5227%數顯復合真,計）使用

說明書。x

□控制電源：該電源為真空獲得控制電源的主要單元：I

控制如下單元：

?機械泵：控制機械泵的啟動和停止，按鈕卜開”按F燈亮，繼朋學

吸合，機械泵工作按鈕“關:'按下燈靈，繼電斷開，機械架冷

令電磁閥：控制電磁閥M啟動和停止，號按下燈亮，吸合，

電磁"

。照明：控制血明的啟動和年u，［按鈕按下燈亮，細%器吸合，照明

烤的啟動和停止，按燈亮，繼電器吸合，烘烤

匚作，旋轉功率調節旋鈕可以改變烘烤功率；

令I上蓋升、降：捽制鼠審歲;蓋的升降，按下“升”或將“降”后，

真空室蓋即上升或下降；松開按鈕，真空室蓋停止升降；到達限位

位置，真空室蓋同樣停止升降。一

區提示

控制電源照明、烘烤按鈕均為帶鎖按鈕，按下后自鎖，動作后指示燈亮。再

按按鈕，按紐抬起時，工作停止。烘烤按鈕按下后，調節烘烤旋鈕，烘烤燈逐漸

加大功率V

19

磁控濺射沉積系統

由供電電源通過雙頭四芯航插連接電纜提供3相380V電源。

區提示

輸出電纜必須按照接頭附近所做標記正確連接！

口加熱溫控電源：

加熱溫控電源由E本公司生產的溫度控制器、移相觸發模塊、可控硅以及外

電路構成。樣品加熱溫度可控。

需要控溫時首先接好控溫電源的電源線、輸出加熱線和熱電偶的連接線。

連接時，要注意熱電偶的正負極。按照控溫表說明書將控溫表的各項指標設置

好，然后按相應的按鈕開關“加熱”，控溫電源開始T作。順時針調節總率限

制”電位器旋鈕，使加熱爐正常升溫。當溫度升到控溫表所設定的溫度時，由

系統控制加熱爐開始恒溫。當試驗作完后，將“功率限制”電位器旋鈕反時的

調到“0”，然后按按鈕開關“停止”，控溫電源停止工作。■

□靶檔板控制電源：，」M

打開電源開關，按一下相應的靶檔板“開”按鈕，可打開檔板，/一下“關’

按鈕可關閉檔板。，.J弋.

□分子泵電源，

FF160/620型（北京科儀）分子泵的驅動控制電源，譬過我和過熱鏟護功

能。使用方法及注意事項詳見“附件”中也“系列復畿千泉交流變頻.電機驅

動電源”使用說明書I'，L'

五、注意事項

1、安全用電操作注意事項：

設備操作人員必須高度重視電氣安全問題,嚴格遵守用電安全規

程，防止電氣事故造成人身傷害！

□使用動力電時，應先檢查電源開關、電機和設備各部份是否良好。如有故障,

應先排除后，方可接通電源。

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磁控濺射沉積系統

□啟動或關閉電器設備時，必須將開關扣嚴或拉妥，防止似接非接狀況。

□人員較長時間離開房間或電源中斷時，要切斷電源開關，尤其是要注意切斷

加熱電器設備的電源開關。

□電源或電器設備的保險燒斷時，應先查明燒斷原因，排除故障后，再按原負

荷選用適宜的保險絲進行更換，不得隨意加大或用其它金屬線代用。

□沒有掌握電器安全操作的人員不得擅自更改電器設施，或隨意拆修電器設

備。

□若要打開電源柜后蓋，必須先斷開設備總控電源。

!!!必須注意：檢修設備務必事先斷開所有電氣設備的電源！！

2、操作注意事項：M

□磁控靶、分子泵工作時，一定要通水冷卻，

□在使用機械泵旁抽前保證分子泵口與電磁閥處于關閉狀態，皆別是分子泉木

停真空室暴露大氣后粗抽時，否則大句從分子零排*口泉體，急劇芥大

損壞泵。’油八

□打開機械泵抽大氣時，旁抽閥要緩慢疔開，且抽號典不要過長，，3。多帕

時開分子泵，否則容易造成油黑染。

□系統由大氣抽到低真空的過程中禁止開烘烤燈和照明燈。

□濺射室烘烤時室壁面及陽察耳溫度不得超過10002

□在室體內濺射完畢或加熱爐工作完畢之后，樣品可猛爐冷卻,真空室內溫度

W60°C以下時再暴露大氣。.

□濺射室暴露大氣前一定要關緊閘板閥，以免損壞分子泵，同時要關緊氣路截

止閥，以免氣路受污染。

□當上蓋處于打開狀態時，要時刻注意保護真空室上端密封面。

□在取出或更換樣品、靶材時，要注意真空室的清潔；同時要保證屏蔽罩與靶

材之間的距離小于3m。

□嚴禁閘板閥一端是大氣一端是真空的條件下打開閘板閥。

□突然停電時，所有電源要復位，過5-7分鐘后，才能重新啟動分子泵。

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磁控濺射沉積系統

六、常見故障及排除

故障現象可能的原因排除方法

“供電電源”無法電源供電線路故障，缺相或電壓偏低或

由供電部門查找原因，排除故障

接通相序錯誤

擰緊緊固件（可使用酒精判斷有漏的法

口緊固件沒擰緊

蘭連接處）

口快卸接口密封面處有雜物擦拭密封面

真空抽上不去口真空腔內有灰塵和水蒸氣先清洗真空室，再烘烤

口電極法蘭密封不嚴和我們聯系，更換新用1電極法蘭,

口密封膠圈老化更換新的膠圈

口靶頭里的聚四氟絕緣件零&變夜d和我和快系更換新麗

掇件

后如果行泄露,更換

口前級管道及電磁閥的泄露i

定期杳石油譽及時加;i.i'k，奐新

前級真空抽不上

日分子?泵Im標也要定期檢查（約半

去口機械泵是否油不夠或油質%劣

年時f瞥次）

①增大水流

口水流約1.器未汨作

已經給水，但水流@水流繼電器壞，笠不

繼電器仍舊報瞥部水管堵塞，否則需要

磁控靶水路行堵心

拆%頭清理內部水路

埠衡兩側壓力后打開

閘板閥打不開，口閥板兩側壓力差＞3.OX10：，Pa

密封面有污物附著用無塵而將污物清洗干凈

密封面有劃痕5y用拋光紙拋光

閘板閥密封不良密封面膠圈磨損更換新閥板（與生產廠家聯系》

波紋管損壞更換波紋管或補焊（與生產廠家聯系）

閥殼受拉ALZXlO'Pa調節閥殼兩側法蘭的間隙

閘板閥閥門關閉

閥殼受拉＞1.2Xl()5pa調節閥殼兩側法蘭的間隙

時力量大或無法

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磁控濺射沉積系統

關閉

數字信號出現干

口地線接觸不良好良好接地

擾

口電離規損壞更換

分子泵正常啟動

手動打開“電離”按鈕確認真空達到1

后，電離規不啟動口熱偶值還沒有達到1x102Pa

X10-2Pa,然后調節熱偶值。

轉動件轉動不靈口軸承內有雜物拆卸后用超聲波清洗

活