標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB 7667-2003 電子顯微鏡X射線泄漏劑量》相比于其前版《GB 7667-1996 電子顯微鏡X射線泄漏劑量》，主要在以下幾個方面進行了調(diào)整和完善：

  1. 適用范圍與分類：2003版標(biāo)準(zhǔn)可能對電子顯微鏡的類型和應(yīng)用范圍進行了更細致的劃分，以適應(yīng)技術(shù)進步帶來的新型電子顯微鏡設(shè)備，確保各類設(shè)備的X射線泄漏劑量測試更加準(zhǔn)確和有針對性。

  2. 安全限值更新：隨著對輻射防護認識的深入和技術(shù)的發(fā)展，2003版標(biāo)準(zhǔn)可能對X射線泄漏的安全限值進行了修訂，以更好地保護操作人員和環(huán)境，確保符合最新的國際安全標(biāo)準(zhǔn)和實踐。

  3. 測試方法與技術(shù)要求：新版本可能引入了更先進的測量技術(shù)和測試方法，包括但不限于更精確的劑量測量儀器、更嚴(yán)格的測試程序等，旨在提高測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。

  4. 防護措施與管理要求：考慮到技術(shù)進步和操作實踐的變化，2003版標(biāo)準(zhǔn)可能對電子顯微鏡的使用、維護及X射線防護措施提出了更為具體和嚴(yán)格的要求，包括設(shè)備的定期檢測、人員培訓(xùn)、警示標(biāo)識設(shè)置等方面的規(guī)定。

  5. 術(shù)語定義與解釋：為了與國際接軌并確保標(biāo)準(zhǔn)的清晰度，新版標(biāo)準(zhǔn)可能對相關(guān)專業(yè)術(shù)語進行了更新或補充解釋，便于使用者準(zhǔn)確理解各項要求。

  6. 合規(guī)性評估與認證：2003版標(biāo)準(zhǔn)或許加強了對電子顯微鏡X射線泄漏控制的合規(guī)性評估要求，包括產(chǎn)品認證、檢測報告的要求等，以確保市場上的設(shè)備符合國家最新的安全與健康標(biāo)準(zhǔn)。


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  • 廢止
  • 已被廢除、停止使用，并不再更新
  • 2003-11-20 頒布
  • 2004-05-01 實施
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CS37.020N33中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB7667-—2003電子顯微鏡X射線泄漏劑量ThedoseofX-raysleakagefromelectronmicroscope2003-11-20發(fā)布2004-05-01實施華人民共和國中發(fā)布國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局

GB7667—2003前本標(biāo)準(zhǔn)的全部技術(shù)內(nèi)容為強制性的.本標(biāo)準(zhǔn)是對GB7667一1996《電子顯微鏡X射線泄漏劑量》的修訂。修訂時增加了前言：在3.1“試驗設(shè)備”條款中增加了對試驗設(shè)備必須經(jīng)過法定計量部門計量并取得合格證書才能使用的要求.本標(biāo)準(zhǔn)由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國光學(xué)和光學(xué)儀器標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會（CSBTS/TC103)歸口本標(biāo)準(zhǔn)由上海電子光學(xué)技術(shù)研究所負責(zé)起草。本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：-GB7667-1987、GB7667-1996。

GB7667—2003電子顯微鏡X射線泄漏劑量范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子顯微鏡(以下簡稱電鏡)X射線泄漏劑量、試驗方法及檢驗規(guī)則本標(biāo)準(zhǔn)適用于透射、掃描、反射掃描和電子探針等不同類型的電鏡。2要求電鏡X射線泄漏的空氣吸收劑量率不應(yīng)大于2.5″Gy/h.試驗方法91試驗設(shè)備帶有修正因子(指校正X射線)X射線劑量率儀，其等級為二級。最小擋刻度值不能大于1Gy/h用于檢測的X射線劑量率儀必須經(jīng)過法定計量部門的計量檢定，并取得合格證書。有效期內(nèi)的檢測儀器經(jīng)可能涉及計量精度的重大維修后，必須重新進行計量檢定。3.2試驗程序3.2.1將試驗電鏡加速電壓調(diào)到最高擋，選用最大正常工作柬流和最大束斑3.2.2將聚光鏡調(diào)整到正常工作狀態(tài)，放大倍率調(diào)到最低擋.并將活動光闌全部退出。對掃描電鏡和電子探針等則應(yīng)以鴿為樣品將吸收電流調(diào)到最大值。3.2.3試驗部位為照相室、觀察室、樣品室、活動光闌、電子槍(電鏡加速電壓等于或大于400kV的電子槍被測部位指隔離層)、真空管道、顯像管、鏡簡及其附屬裝置。在試驗樣品室以上的部位時,則應(yīng)將物鏡活動光闌插入電子束通道。3.2.4將X射線劑量率僅在離開試

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