電鍍線哈氏片判定標(biāo)準(zhǔn)電鍍線哈氏片判定標(biāo)準(zhǔn)電鍍線哈氏片判定標(biāo)準(zhǔn)V:1.0精細(xì)整理，僅供參考電鍍線哈氏片判定標(biāo)準(zhǔn)日期：20xx年X月1.目的建立制程電鍍線哈氏片判定規(guī)范.2.適用范圍鍍金及鍍銅線需通過(guò)哈氏實(shí)驗(yàn)來(lái)判定光澤度的槽液均適用3.參考文件3-1.<<蘇州麥特隆特用化學(xué)品有限公司分析實(shí)驗(yàn)方法標(biāo)準(zhǔn)及作業(yè)規(guī)范>>.4.內(nèi)容說(shuō)明7-1.銅槽哈氏片.7-1-1.銅槽哈氏片做法.7-1-1-1.取銅槽(單個(gè))溶液約270ml.7-1-1-2.將黃銅片(100mm*65mm),用1000目的砂紙均勻打磨,水洗干凈.7-1-1-3.先將銅槽溶液倒入哈氏槽,再放入黃銅片,接上整流器,陽(yáng)極接磷銅塊,陰極接黃銅片.7-1-1-4.開(kāi)啟整流器,調(diào)整電流為2A,定時(shí)10分鐘.7-1-1-5.時(shí)間到后,關(guān)上電流,將哈氏片取出,水洗干凈.7-1-1-6.水洗吹干.7-1-2.銅槽哈氏片判定標(biāo)準(zhǔn)嚴(yán)重?zé)篃o(wú)光光亮朦朧條痕7-1-2-1.銅槽標(biāo)準(zhǔn)哈氏片.標(biāo)準(zhǔn)銅槽哈氏片高電流密度區(qū)有少許燒焦(約1~2cm),低電流密度區(qū)稍帶朦朧狀(約1~2cm),中間區(qū)域哈氏片光亮度正常.(此時(shí)浴中硫酸,硫酸銅及氯離子等都正常)7-1-2-2.異常處理.項(xiàng)次哈氏片情形可能原因解決方法1.高電流區(qū)燒焦帶增加,向低電流區(qū)擴(kuò)散1.鍍液缺乏光澤劑添加適量光澤劑2.硫酸銅濃度過(guò)低分析調(diào)節(jié)3.溫度過(guò)低調(diào)整溫度至正常4.有機(jī)污染活性碳處理5.氯離子不足分析添加6.攪拌不充分調(diào)整攪拌2.鍍層缺乏光澤度1.光澤劑過(guò)低添加適量光澤劑2.有機(jī)污染活性碳處理3.氯離子不足分析添加4.溫度過(guò)低調(diào)整溫度至正常5.硫酸銅濃度過(guò)低分析調(diào)節(jié)3.銅面粗糙1.鍍液中有雜質(zhì)用濾心過(guò)濾槽液2.陽(yáng)極銅成分不正確銅塊磷含量需在~%3.氯離子不足分析調(diào)整4.光澤劑不足做試驗(yàn),添加光澤劑5.溫度過(guò)高冷卻,保持溫度在室溫4.低電流區(qū)發(fā)霧并跳鍍1.有機(jī)污染活性碳過(guò)濾2.硫酸過(guò)低分析添加3.光澤劑不足做試驗(yàn),添加光澤劑4.氯離子過(guò)高稀釋槽液5.溫度過(guò)高冷卻,保持溫度在室溫6.初始電流密度過(guò)高當(dāng)電導(dǎo)通時(shí)調(diào)低電流5.低電流區(qū)朦朧狀增加,向高電流區(qū)擴(kuò)散,光澤度不佳,平坦度不好,粒狀沉淀.1.有機(jī)污染活性碳過(guò)濾2.氯離子過(guò)高稀釋槽液3.鍍液光澤劑過(guò)量弱電解或活性碳過(guò)濾6.高電流區(qū)少許燒焦,但所有鍍層均有一層薄霧狀,溶液呈綠色.