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文檔簡介
1、 制藥設備在生產過程中污染的防控措施 制藥設備在生產過程中污染的防控措施 在制藥生產中影響藥品質量的因素許多,其中很重要的因素是來自各種污染。如何解決污染問題,是保證藥品質量的一個重要方面。 1 影響藥品質量的要素 藥品的質量關系到患者的用藥平安,要生產出優質合格的藥品,必需具備3個要素:(1)合格的人員;(2)符合GMP的軟件,如合理的劑型、處方和工藝,合格的原輔材料,各項規格和管理制度等;(3)符合GMP的硬件,包括合格的生產環境與生產條件,符合要求的廠房、設備等。
2、;2 制藥設備對生產中污染的防控含義 從上可知,生產環境與生產條件、設備是影響藥品質量要素的一個方面。而在藥品生產中,生產環境與生產條件的污染一般有微生物、粉塵、微粒、腐蝕、差錯及交叉污染等。制藥設備對生產中污染的防控包含兩層意思,第一設備自身不對藥物產生污染,也不會對環境產生污染;其次應具有有效掌握污染手段。為此,GMP對直接參加藥品生產的制藥設備作了若干個指導性規定,其基本點是保證藥品質量,防止在生產過程對藥物可能造成的各種污染,以及可能影響環境和對人體健康的危害等因素。因此,制藥設備的設計要符合GMP的要求,削減污染因素,并對污染
3、要有很好的防控。 3 制藥設備的設計符合GMP的要求 制藥設備在制藥GMP這一特定條件下的產品設計、制造、技術、性能等方面,應以設備GMP設計通則為綱,以推動制藥設備GMP規范的建立和完善,其詳細內容如下: (1)設備的設計應符合藥品生產及工藝的要求,平安、穩定、牢靠、易于清洗、消毒或滅菌,便于生產操作和修理保養,并能防止差錯和交叉污染; (2)應嚴格掌握設備的材質選擇。與藥物直接接觸的零部件應采納無毒、無腐蝕、不與藥品發生化學反應、不釋放微粒或吸附藥品的材質;
4、; (3)與藥物直接接觸的設備內表面及工作零件表面,盡可能不設計臺、溝、及外露的螺栓連接。表面應平整、光滑、無死角,易清洗、消毒; (4)設備應不對裝置之外的環境造成污染,鑒于每類設備所產生的污染的狀況不同,應實行相關的防塵、防漏、隔熱、防噪聲等措施。 (5)在易燃、易爆環境中使用的設備,應采納防爆電器并設有消退靜電及平安保險裝置; (6)無菌制劑的灌或分裝設備應在相應的干凈室內運行,局部采納100級層流干凈空氣和正壓愛護; (7)藥液、注射用水及凈化壓縮空氣
5、管道的設計應避開死角、盲管。材料應無毒、耐腐蝕。內表面應電化拋光,易清洗; (8)當驅動磨擦而產生的微量異物或無法避開使用潤滑劑時,應對其部件實施封閉并與工作室隔離,所用的潤滑劑不得對藥品、包裝容器等造成污染; (9)無菌設備的清洗,尤其是直接接觸藥品的部位和部件的滅菌,應標明滅菌日期,必要時進行無菌效果驗證。設備清洗最好配備CIP及SIP系統; (10)設備設計應符合標準化、通用化、系列化和機電一體化的要求。實現生產過程的連續密閉,自動檢測,這是全面實施設備GMP的保證。 4
6、60; 制藥設備對生產中污染的防控手段 制藥工藝的簡單性打算了設備功能的多樣性,而制藥設備的優劣則反映在能否滿意使用要求、符合GMP和對環境污染的防控上。在藥品生產中,制藥設備是保證藥品質量的關鍵手段,GMP對設備的要求主要針對削減生產過程中的藥品污染,達到保證藥品質量要求這一目的,制藥設備可在功能、外觀結構、材料選擇、設備驗證方面對污染進行防控。 4.1 功能方面 4.1.1 凈化功能 干凈是GMP的要點之一,要達到這一標
7、準就必需在藥品加工中,凡有藥物暴露的室區干凈度達不到要求或有人機污染可能的原則上均應設計凈化功能。不同的設備要求的這一功能形式也不盡相同。大致如下: (1)在工藝上使用氣體的設備尤其是氣體與藥品或直接與藥包材接觸的設備,氣體需要經終端過濾除菌處理,如泡罩包裝機的壓縮空氣; (2)洗瓶或其它藥包材清洗設備,應考慮到工藝用水的干凈度,一般使用注射用水或純化水,如洗瓶機、膠塞清洗等設備的用水; (3)生產中產生粉塵的設備應設置除塵機或捕塵機構,如粉碎機、制粒機、壓片機等; (4)在干凈室(區),通過凈化空調系統對
8、各功能間凈化并保持相對的壓差,可防止粉塵集中,防止交叉污染。 4.1.2 隔離功能 根據GMP要求,制劑生產過程應盡量避開微生物或微粒熱原污染,隔離是個好方法。由于無菌產品生產應在高質量環境下進行配料、灌或分裝和密封,而其工藝過程中存在很多可變的影響因素,對無菌藥品生產提出了特別要求。而這在制劑設備設計中的一個重要體現是實現生產過程的密閉化,實行隔離技術。 醫藥工業的隔離技術涉及到水針、粉針、輸液等無菌制品以及醫療注射器的生產等諸方面。在無菌生產中,為避開污染,需在無菌生產工序的制劑設備四周設
9、計并建立隔離區,將操作人員隔離在灌裝區以外,實行徹底的隔離技術和自動掌握系統,最大限度降低操作人員對環境的影響,同時也可以大大降低無菌生產環境中產品被微生物污染的風險。 4.1.3 在位清洗及滅菌功能 4.1.3.1 在位清洗(CIP) 在藥品生產中,設備的清洗和滅菌是驅除微生物污染的主要手段。CIP是一種包括設備、管道、操作規程、清洗劑配方、自動掌握和監控要求的一整套技術系統。其能在盡可能不拆卸、不挪動設備和管道的狀況下,利用受控的清洗液的循環流淌,清洗污垢。GMP明確規定
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